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准分子激光选择CVD技术的SnO_2薄膜图形生长及微透镜制作 被引量:2
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作者 王庆亚 姜喜兰 +1 位作者 马力 郑伟 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第S1期328-330,共3页
准分子激光CVD由于紫外光参与并促进了其源分解,所以对激光光束具有很强的选择性从而可以实现图形转换和直接图形生长,我们利用这一特点在自己建立的准分子激光选择CVD系统上得到了SnO2薄膜生长速率与激光能量密度间的关系... 准分子激光CVD由于紫外光参与并促进了其源分解,所以对激光光束具有很强的选择性从而可以实现图形转换和直接图形生长,我们利用这一特点在自己建立的准分子激光选择CVD系统上得到了SnO2薄膜生长速率与激光能量密度间的关系曲线,并玻璃和Si衬底上实现了SnO2薄膜的宽约80μm条伏和面积100×100μm2方形图形生长,同时也在Si衬底进行了微透镜制作的尝试,获得了半径约45μm近高斯分布的SnO2,薄膜,其中心最大厚度约970mm。 展开更多
关键词 准分子激光 微透镜 薄膜图形 cvd技术 SnO2 薄膜生长速率 图形转换 高斯分布 准分子激光器 激光能量密度
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CVD技术主张中的童装品牌价值与设计理念
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作者 于国瑞 《丝绸》 CAS 北大核心 2005年第6期14-16,共3页
运用CVD技术主张的新视角对童装品牌价值和设计进行再思考,提出童装品牌价值提升的自上而下的童装设计理念。
关键词 cvd技术 品牌价值 设计理念 童装 自上而下
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CVD技术与童装品牌价值的提升和识别
3
作者 于国瑞 《上海纺织科技》 北大核心 2005年第7期3-4,19,共3页
从顾客价值交付战略的视角,探讨运用CVD技术识别童装品牌价值方面的问题,力图从理念的操作层面提升童装品牌价值。
关键词 cvd技术 品牌价值 童装 识别 提升 顾客价值 操作层
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ECR等离子CVD技术
4
作者 贾正根 《真空电子技术》 北大核心 1990年第2期18-21,共4页
本文介绍国际上新开发出来的ECR等离子CVD技术。着重介绍该技术的优越性、成膜装置、成膜工艺及ECR等离子薄膜技术的应用。
关键词 薄膜技术 ECR 等离子 cvd技术
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爱恩邦德——全球领先的PVD、CVD和PACVD技术
5
《工具技术》 2012年第4期I0014-I0014,共1页
总部和设备制造部设在瑞士的爱恩邦德公司是耐磨损和低摩擦涂层行业的领军者。业务范围包括PVD、CVD、CVA、PACVD设备制造和涂层服务,可在薄膜涂层技术领域提供更多的技术解决方案。爱恩邦德公司在全球拥有40多家涂层中心和本地设备销... 总部和设备制造部设在瑞士的爱恩邦德公司是耐磨损和低摩擦涂层行业的领军者。业务范围包括PVD、CVD、CVA、PACVD设备制造和涂层服务,可在薄膜涂层技术领域提供更多的技术解决方案。爱恩邦德公司在全球拥有40多家涂层中心和本地设备销售和服务商.在中国有3个涂层中心和一个设备销售服务商。 展开更多
关键词 cvd技术 PAcvd PVD 涂层技术 设备制造 服务商 低摩擦 耐磨损
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用MOCVD技术在Ti-29Nb-13Ta-4.6Zr合金上制备羟磷灰石薄膜
6
作者 刘春芳 《钛工业进展》 CAS 2011年第6期46-47,共2页
由于钛及其合金具有非常好的机械性能、抗腐蚀性能和生物相容性能,所以已经广泛应用于诸如整形手术、牙齿移植等生物医学领域。特别是由无毒、无过敏性元素组成的β型Ti-29Nb-13Ta-4.6Zr(TNTZ)合金,由于具有非常好的机械性能,
关键词 ZR合金 cvd技术 羟磷灰石 薄膜 制备 MO 机械性能 抗腐蚀性能
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玻璃产业现状与CVD技术应用前景
7
作者 舒尊启 杜震宇 《玻璃》 2013年第4期29-31,共3页
我国平板玻璃的产量占全球产量的65%左右,已成为名副其实的平板玻璃制造大国。但产品质量低下、产能过剩、恶性竞争、行业亏损等困扰着平板玻璃的发展。CVD化学沉积法在平板玻璃镀膜经过10多年的发展,已到了成熟发展期,红杉科技公司开... 我国平板玻璃的产量占全球产量的65%左右,已成为名副其实的平板玻璃制造大国。但产品质量低下、产能过剩、恶性竞争、行业亏损等困扰着平板玻璃的发展。CVD化学沉积法在平板玻璃镀膜经过10多年的发展,已到了成熟发展期,红杉科技公司开发生产的CVD镀膜装置可提供交钥匙工程服务,是一家成熟可靠的CVD技术及成套装备供应商。 展开更多
关键词 玻璃产业 现状 升级改造 cvd技术 国产化
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Ionbond领先的PVD、CVD与PACVD技术
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《世界制造技术与装备市场》 2011年第2期132-132,共1页
瑞士Ionbond公司在减摩与低磨擦涂层技术方面处于国际领先地位。该公司在全球设有38个涂层服务中心和设备销售代理商,其中在中国设有三处涂层中心有一家销售代理,可以提供PVD、CVD、CVA和PACVD设备及多种涂层的加工服务。
关键词 cvd技术 PVD PA 销售代理商 cvd设备 涂层技术 服务中心 国际领先
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应用材料推出突破性流体CVD技术
9
《世界电子元器件》 2010年第9期10-10,共1页
美国应用材料公司近日宣布了其突破性的Applied Producer EternaFCVD(流体化学气相沉积)系统。这是首创的也是唯一的以高质量介电薄膜隔离20纳米及以下存储器和逻辑器件中的高密度晶体管的薄膜沉积技术。这些隔离区域可以形成深宽比大... 美国应用材料公司近日宣布了其突破性的Applied Producer EternaFCVD(流体化学气相沉积)系统。这是首创的也是唯一的以高质量介电薄膜隔离20纳米及以下存储器和逻辑器件中的高密度晶体管的薄膜沉积技术。这些隔离区域可以形成深宽比大于30(是当今需求的5倍)和高度复杂的形貌。 展开更多
关键词 应用材料公司 突破性 cvd技术 流体 PRODUCER 化学气相沉积 薄膜沉积技术 逻辑器件
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值得重视的CVD技术
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作者 戴国瑞 《国际学术动态》 1992年第6期46-48,38,共4页
关键词 薄膜 cvd技术
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论CVD金刚石合成技术及其发展趋势
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作者 谈耀麟 《超硬材料工程》 CAS 2010年第3期29-33,共5页
阐述HPHT金刚石发展的局限性与CVD金刚石的进展历程。论述以CVD技术合成金刚石的方法及其发展趋势,包括提高CVD速度和改进CVD金刚石性质。
关键词 cvd金刚石 HPHT金刚石 cvd技术 发展趋势
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化学气相淀积(CVD)薄膜技术的新近发展及其运用
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作者 付学群 《中文科技期刊数据库(引文版)工程技术》 2022年第4期306-309,共4页
化学气相沉积技术是现代较为先进的无机材料制备技术,在玻璃态无机薄膜材料生产以及新晶体研制等领域均有着广泛应用。为更好地对技术展开应用,文章将通过对化学气相沉积技术基本情况的介绍,对技术在薄膜材料制备中的应用展开探讨,并会... 化学气相沉积技术是现代较为先进的无机材料制备技术,在玻璃态无机薄膜材料生产以及新晶体研制等领域均有着广泛应用。为更好地对技术展开应用,文章将通过对化学气相沉积技术基本情况的介绍,对技术在薄膜材料制备中的应用展开探讨,并会针对技术最近发展与运用展开分析,期望能够为国内薄膜制备技术发展提供有效助力。鉴于该项技术应用价值,值得对技术展开深层次探讨。 展开更多
关键词 cvd技术 薄膜 开管气流技术 封管气流技术 晶须
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激光CVD制备SnO_2薄膜的结构及其反应机理研究 被引量:2
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作者 戴国瑞 姜喜兰 +1 位作者 南金 张玉书 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第6期427-430,共4页
采用SnCl4和O2为反应源,ArF准分子激光CVD生长SnO2薄膜,利用XRD、UVT、XPS研究了薄膜的组成和结构,实验表明SnO2薄膜属于四方晶系、金红石结构,薄膜的紫外可见光透射率大于90%,吸收边波长为35... 采用SnCl4和O2为反应源,ArF准分子激光CVD生长SnO2薄膜,利用XRD、UVT、XPS研究了薄膜的组成和结构,实验表明SnO2薄膜属于四方晶系、金红石结构,薄膜的紫外可见光透射率大于90%,吸收边波长为355nm,禁带宽度为3.49eV。最后。 展开更多
关键词 二氧化锡 激光cvd技术 半导体薄膜技术
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金刚石薄膜的微波CVD法制备及其场致发射
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作者 姚宁 李运钧 何金田 《郑州大学学报(理学版)》 CAS 1996年第S2期46-48,共3页
本文介绍了用微波CVD技术沉积金刚石薄膜的设备和工艺条件,同时对金刚石薄膜的场致发射进行了初步研究。
关键词 微波cvd技术 场致发射 金刚石薄膜 金刚石镶嵌 非晶碳膜
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超微粒子制备技术在功能包装材料制造中的应用研究 被引量:1
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作者 向贤伟 陈新 《包装工程》 CAS CSCD 北大核心 2004年第3期164-166,共3页
研究了超微粒子制备技术在功能包装中的应用 ,特别是与超微粒子气相沉积技术 ,CVD合成技术 ,PVD技术以及SOL -GEL技术等结合在各种功能包装材料中的应用方法及前景。
关键词 超微粒子制备技术 功能包装材料 超微粒子气相沉积技术 cvd合成技术 PVD技术 SOL-GEL技术 SOL-GEL技术 反应特性
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CPM法薄膜成膜技术
16
作者 张一鸣 《真空电子技术》 北大核心 1990年第4期48-52,共5页
本文特别介绍了各种成膜法中的等离子体CVD技术以及最近研制成功的通过外加磁场来控制等离子体的CPM(Controlled Plasma Magnetron)技术。该技术具有性能优异及可连续性制备薄膜的特点。本文仅以非晶硅(a-Si)薄膜成膜为重点,介绍了CPM... 本文特别介绍了各种成膜法中的等离子体CVD技术以及最近研制成功的通过外加磁场来控制等离子体的CPM(Controlled Plasma Magnetron)技术。该技术具有性能优异及可连续性制备薄膜的特点。本文仅以非晶硅(a-Si)薄膜成膜为重点,介绍了CPM技术的梗概及其优点。 展开更多
关键词 薄膜 成膜技术 CPM法 cvd技术
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High Purity and Large-scale Preparation of β-Ga_2O_3 Nanowires and Nanosheets by CVD and Their Raman and Photoluminescence Characteristics
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作者 YU Zhou YANG Zhi-mei +8 位作者 CHEN Hao WU Zhan-wen JIN Yong JIAO Zhi-feng HE Yi WANG Hui LIU Jun-gang GONG Min SUN Xiao-song 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 2007年第2期155-160,共6页
Ga2O3 nano-structures, nanowires and nanosheets are produced on Au pre-coated(111) silicon substrates with chemical vapor deposition(CVD) technique. By evaporating pure Ga powder in the H2O atmosphere under ambient pr... Ga2O3 nano-structures, nanowires and nanosheets are produced on Au pre-coated(111) silicon substrates with chemical vapor deposition(CVD) technique. By evaporating pure Ga powder in the H2O atmosphere under ambient pressure the large-scale preparation of β-Ga2O3 with monoclinic crystalline structure is achieved. The crystalline structures and morphologies of produced Ga2O3 nano-structures are characterized by means of scanning electron microscope(SEM), X-ray diffraction(XRD), selected area electron diffraction(SAED) and transmission electron microscope(TEM). Raman spectrum reveals the typical vibration modes of Ga2O3. The vibration mode shifts corresponding to Ga2O3 nano-structures are not found. Two distinguish photoluminescence(PL) emissions are found at about 399 nm and 469 nm owing to the VO-VGa excitation and VO-VGa-O excitation, respectively. The growth mechanisms of Ga2O3 nanowires and nanosheets are discussed with vapor-liquid-solid(VLS) and vapor-solid(VS) mechanisms. 展开更多
关键词 β-Ga2O3纳米线 β-Ga2O3纳米片 大规模制造 cvd技术 喇曼光谱 光致发光特性
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豪泽涂层技术(上海)有限公司:PVD涂层技术
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《汽车制造业》 2009年第24期46-46,共1页
自1995年Robert Bosch公司推出了用于高压柴油机喷射系统的含碳的精密涂层以来,Hauzer涂层技术公司已成为了用于发动机应用的PVD和PACVD技术的一流供应商。在与Robert Bosch公司的合作过程中,Hauzer成功地将自己改进的溅射技术转移到... 自1995年Robert Bosch公司推出了用于高压柴油机喷射系统的含碳的精密涂层以来,Hauzer涂层技术公司已成为了用于发动机应用的PVD和PACVD技术的一流供应商。在与Robert Bosch公司的合作过程中,Hauzer成功地将自己改进的溅射技术转移到PVD机器中, 展开更多
关键词 涂层技术 PVD Bosch公司 Robert 上海 cvd技术 精密涂层 喷射系统
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高效、耐磨的涂层技术
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《汽车制造业》 2014年第10期38-38,共1页
随着新材料的发展,以及客户对于效率提升的要求日益苛刻,开发创新以及更有效的耐磨涂层成为企业追求的目标。本文介绍了新型CVD技术以及Tribobond TM40系列DLC涂层技术的先进性和实用性。
关键词 涂层技术 耐磨涂层 cvd技术 TM40 新材料 先进性 DLC
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a-Si∶H薄膜及MWECR-CVD制备技术
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作者 阴生毅 陈光华 《物理》 CAS 北大核心 2004年第4期272-277,共6页
文章回顾了a -Si∶H薄膜的发展历程 ,并介绍了其近 10年的研究状况 .为提高a -Si∶H薄膜的沉积速度 ,还重点介绍了一种新的微波电子回旋共振等离子体CVD(MWECR -CVD)技术 .该技术的特点是 :不含电极 ,可避免电极溅射造成的污染 ;等离子... 文章回顾了a -Si∶H薄膜的发展历程 ,并介绍了其近 10年的研究状况 .为提高a -Si∶H薄膜的沉积速度 ,还重点介绍了一种新的微波电子回旋共振等离子体CVD(MWECR -CVD)技术 .该技术的特点是 :不含电极 ,可避免电极溅射造成的污染 ;等离子区离子密度高 ,对硅烷能高度分解 ,从而可显著提高薄膜生长速率 ;改变磁场位形和结构 ,可改变等离子体分布及轰击基片离子的能量 .文章还分析了其制备a -Si∶H薄膜存在的问题 ,提出了今后的研究方向 . 展开更多
关键词 微波电子回旋共振等离子体cvd技术 等离子体增强cvd技术 薄膜制备 薄膜生长 磁场位形 磁场结构 氢化非晶硅薄膜
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