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Effect of annealing process on structures and ferroelectric properties of Ca_(0.4)Sr_(0.6)Bi_(3.95)Nd_(0.05)Ti_4O_(15) thin films
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作者 范素华 张伟 +2 位作者 王培吉 张丰庆 冯博楷 《Journal of Rare Earths》 SCIE EI CAS CSCD 2009年第2期216-221,共6页
Ca0.4Sr0.6Bi3.95Nd0.05Ti4O15 (C0.4S0.6BNT) ferroelectric thin films were prepared on Pt/Ti/SiO2/Si substrates by sol-gel method. Effect of annealing process (time and temperature) on structures and ferroelectric p... Ca0.4Sr0.6Bi3.95Nd0.05Ti4O15 (C0.4S0.6BNT) ferroelectric thin films were prepared on Pt/Ti/SiO2/Si substrates by sol-gel method. Effect of annealing process (time and temperature) on structures and ferroelectric properties of C0.4S0.6BNT thin film was investigated. The relative intensity of (200) peak increased first then decreased with annealing temperature and became predominant at 800 ℃. In contrast, no evident change could be observed in the (001) peak. The remnant polarization (Pr) and coercive field (Ec) for C0.4S0.6BNT film annealed at 800℃ for 5 min were 21.6μC/cm2 and 68.3 kV/cm, respectively. 展开更多
关键词 Ca0.4Sr0.6Bi3.95Nd0.05Ti4O15 thin films annealing process ferroelectric properties rare earths
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粉末特性对钙锶铋钛陶瓷厚膜性能的影响 被引量:3
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作者 马建平 范素华 +2 位作者 张丰庆 车全德 于冉 《山东建筑大学学报》 2008年第6期471-473,477,共4页
采用粉末溶胶法在Pt/Ti/SiO2/Si基片上制备了厚度约为1.50μm,铁电性能优良的CSBT铁电厚膜。研究了粉末的烧结温度对CSBT铁电厚膜的结构及性能的影响。结果表明:适当的粉末烧结温度有利于制备表面致密、晶粒发育良好的厚膜,从而有利于... 采用粉末溶胶法在Pt/Ti/SiO2/Si基片上制备了厚度约为1.50μm,铁电性能优良的CSBT铁电厚膜。研究了粉末的烧结温度对CSBT铁电厚膜的结构及性能的影响。结果表明:适当的粉末烧结温度有利于制备表面致密、晶粒发育良好的厚膜,从而有利于厚膜的铁电性能。750℃烧结的粉末制备的厚膜具有最佳的铁电性能,其Pr和Ec分别为13.3μC/cm2,46.2 kV/cm,具有较高的应用价值。 展开更多
关键词 Ca0.4Sr0.6Bi4Ti4O15铁电厚膜 铁电性能 sol—gol法 粉末特性
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Ca_(0.4)Sr_(0.6)Bi_4Ti_4O_(15)纳米晶粉体的溶胶-凝胶法制备
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作者 范素华 冯博楷 +2 位作者 张丰庆 张伟 马建平 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2008年第2期190-192,共3页
采用溶胶-凝胶法和预碳化处理工艺制备了层状钙钛矿结构的Ca0.4Sr0.6Bi4Ti4O15纳米晶粉体。借助DSC—TG、XRD和SEM等分析表征了Ca0.4Sr0.6Bi4Ti4O15纳米晶粉体前驱体的热反应过程、粉体的物相结构及微观形貌。结果表明,对前驱体进... 采用溶胶-凝胶法和预碳化处理工艺制备了层状钙钛矿结构的Ca0.4Sr0.6Bi4Ti4O15纳米晶粉体。借助DSC—TG、XRD和SEM等分析表征了Ca0.4Sr0.6Bi4Ti4O15纳米晶粉体前驱体的热反应过程、粉体的物相结构及微观形貌。结果表明,对前驱体进行预碳化处理得到纳米晶粉体,其分散性得到明显的改善,800~850℃热处理的纳米晶粉体呈单一的层状钙钛矿结构,粉体为球形颗粒,大小均匀.分散性良好,粒径约在φ100nm。 展开更多
关键词 Ca0.4Sr0.6Bi4Ti4O15 纳米晶粉体 溶胶-凝胶法 预碳化
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烧结温度对Ca_(0.4)Sr_(0.6)Bi_4Ti_4O_(15)陶瓷介电性能影响 被引量:1
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作者 陈杨 范素华 +1 位作者 张丰庆 车全德 《中国陶瓷》 CAS CSCD 北大核心 2011年第1期15-17,共3页
用固相合成工艺制备Ca0.4Sr0.6Bi4Ti4O15陶瓷材料样品,研究了烧结温度对其介电性能的影响,得出Ca0.4Sr0.6Bi4Ti4O15陶瓷材料最佳的制备工艺。研究结果表明:烧结温度为1210℃,所得样品的晶粒发育较好,介电性能优良,相对介电常数εr=140... 用固相合成工艺制备Ca0.4Sr0.6Bi4Ti4O15陶瓷材料样品,研究了烧结温度对其介电性能的影响,得出Ca0.4Sr0.6Bi4Ti4O15陶瓷材料最佳的制备工艺。研究结果表明:烧结温度为1210℃,所得样品的晶粒发育较好,介电性能优良,相对介电常数εr=140、介电损耗tanδ=0.007。 展开更多
关键词 Ca0.4Sr0.6Bi4Ti4O15 陶瓷材料 固相烧结法
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匀胶速度对钙锶铋钛陶瓷厚膜结构的影响 被引量:1
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作者 胡伟 范素华 +2 位作者 张丰庆 车全德 于冉 《山东建筑大学学报》 2010年第5期472-476,共5页
用粉末—溶胶法和快速退火工艺在S i(100)基片上制备了Ca0.4Sr0.6B i4Ti4O15陶瓷厚膜。研究了匀胶速度及退火温度对厚膜结构的影响。用X射线衍射表征了厚膜的晶体结构,用扫描电镜观察了样品显微形貌。结果表明在750℃进行退火,匀胶速度... 用粉末—溶胶法和快速退火工艺在S i(100)基片上制备了Ca0.4Sr0.6B i4Ti4O15陶瓷厚膜。研究了匀胶速度及退火温度对厚膜结构的影响。用X射线衍射表征了厚膜的晶体结构,用扫描电镜观察了样品显微形貌。结果表明在750℃进行退火,匀胶速度为4500 r/m时样品晶粒发育良好,表面平整无裂纹,厚度约为1.5μm,且a轴取向较明显。 展开更多
关键词 Ca0.4Sr0.6Bi4Ti4O15 粉末—溶胶法 匀胶速度 厚膜
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Enhanced Ferroelectric Properties of Predominantly (100)-oriented Ca_(0.4)Sr_(0.6)Bi_4Ti_4O_(15) Thin Films on Pt/Ti/SiO_2/Si Substrates 被引量:4
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作者 Suhue Fan Quande Che Fengqing Zhang Ran Yu Wei Hu 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2010年第11期981-985,共5页
Predominantly (100)-oriented Ca0.4Sr0.6Bi4Ti4O15 (C0.4S0.6BTi) thin films were prepared on Pt (111)/Ti/SiO2/Si substrates by a sol-gel method at annealing temperatures ranging from 650 to 850 ℃.The growth mode ... Predominantly (100)-oriented Ca0.4Sr0.6Bi4Ti4O15 (C0.4S0.6BTi) thin films were prepared on Pt (111)/Ti/SiO2/Si substrates by a sol-gel method at annealing temperatures ranging from 650 to 850 ℃.The growth mode of the predominantly (100)-oriented C0.4S0.6 BTi thin films fabricated by the sequential layer annealing was discussed based on the structure evolution with the annealing temperature.The remnant polarization and coercive field of the C0.4S0.6 BTi film annealed at 800 ℃ are 16.1 μC/cm 2 and 85 kV/cm,respectively.No evident fatigue can be observed after 10 9 switching cycles. 展开更多
关键词 Ca0.4Sr0.6Bi4Ti4O15 Ferroelectric film ORIENTATION
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