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电化学沉积CaWO_4薄膜及表征 被引量：4
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作者 毕剑 赖欣 +1 位作者 高道江 张姝 《四川师范大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 2003年第5期513-516,共4页
在室温条件下,采用恒电流电化学沉积技术直接在钨片基体上制备了白钨矿结构的CaWO4晶态薄膜.电化学反应的工艺参数为:电流密度为1mA/cm2、电解液的pH值为13.0、电化学处理时间为1.5h.采用XRD、XPS、SEM技术分析了制备的CaWO4薄膜的晶相... 在室温条件下,采用恒电流电化学沉积技术直接在钨片基体上制备了白钨矿结构的CaWO4晶态薄膜.电化学反应的工艺参数为:电流密度为1mA/cm2、电解液的pH值为13.0、电化学处理时间为1.5h.采用XRD、XPS、SEM技术分析了制备的CaWO4薄膜的晶相、化学组成和表面形貌.所制备的薄膜是表面均匀致密的四方晶系的单相薄膜. 展开更多
关键词 电化学沉积 caw04薄膜 表征 cawCId晶态薄膜 白钨矿 光电功能陶瓷薄膜材料
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