碳涂覆光纤表面碳膜形成机理研究

通过分析碳涂覆光纤的测试结果，研究碳涂覆光纤碳股的形成机理，并应用该机理解释碳涂覆光纤的高可靠性问题和影响光纤初始强度大小的因素。

密封涂碳光纤碳涂层的电阻特性

本文研究了密封光纤碳涂层电阻特性与光纤可靠性之间的关系后，得出：最佳的碳涂层电阻能提高光纤抗疲劳性能，并为研制长长度、高强度和高可靠性涂层密封光纤提供了实验依据。

碳涂覆光纤的最新进展

本文首先介绍了气密性光纤的发展过程，接着重点分析了联涂覆光纤的两个重要参数：长期可靠性和抗氢渗透性。引入了新的衡量碳涂覆光纤抗氢渗参量－－抗氢渗因子，最后介绍了西安应用光学研究所碳涂覆光纤在＂八·五＂末的进展情况，以及国内外现状比较。

气密性碳涂覆光纤筛选强度与电阻关系研究

通过实验分析确立了把光纤电阻作为衡量气密性碳涂覆光纤通过２％应变筛选的过渡标准。要拉制２％应变筛选的碳涂覆光纤，其电阻值应小于３０ｋΩ／ｃｍ。