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Characterization of Cd1-xZnxTe(0≤x≤1) Nanolayers Grown by Atomic Layer Deposition on GaSb and GaAs(001) Oriented Substrates
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作者 Joel Díaz-Reyes Roberto Saúl Castillo-Ojeda José Eladio Flores-Mena 《Journal of Electronic Science and Technology》 CAS CSCD 2019年第2期97-108,共12页
ZnTe, CdTe, and the ternary alloy CdZnTe are important semiconductor materials used widely for the detection of an important range of electromagnetic radiation as gamma ray and X-ray. Although, recently these material... ZnTe, CdTe, and the ternary alloy CdZnTe are important semiconductor materials used widely for the detection of an important range of electromagnetic radiation as gamma ray and X-ray. Although, recently these materials have acquired renewed importance due to the new explored nanolayer properties of modern devices. In addition, as shown in this work they can be grown using uncomplicated synthesis techniques based on the deposition in vapour phase of the elemental precursors. This work presents the results obtained from the deposition of nanolayers of these materials using the precursor vapour on GaAs and GaSb (001) substrates. This growth technique, extensively known as atomic layer deposition (ALD), allows the layers growth with nanometric dimension. The main results presented in this work are the used growth parameters and the results of the structural characterization of the layers by the means of Raman spectroscopy measurements. Raman scattering shows the peak corresponding to longitudinal optical (LO)-ZnTe, which is weak and slightly redshift in comparison with that reported for the ZnTe bulk at 210 cm^-1. For the case of the CdTe nanolayer, Raman spectra presented the LO-CdTe peak, which is indicative of the successful growth of the layer. Its weak and slightly redshift in comparison with that reported for the CdTe bulk can be related with the nanometric characteristic of this layer. The performed high-resolution X-ray diffraction (HR-XRD) measurement allows to study some important characteristics such as the crystallinity of the grown layer. In addition, the HR-XRD measurement suggests that the crystalline quality has dependence on the growth temperature. 展开更多
关键词 Ⅲ-Ⅴ SUBSTRATES atomic layer deposition(ALD) defect generation mechanism TERNARY alloy cd1-xznxte Zn and cd mixture
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Cd_(1-x)Zn_xTe多晶薄膜的制备、性能与光伏应用 被引量:7
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作者 邵烨 郑家贵 +6 位作者 蔡道林 张静全 蔡伟 武莉莉 蔡亚平 李卫 冯良桓 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第2期183-188,共6页
用共蒸发法制备了 Cd1 - x Znx Te多晶薄膜 ,薄膜结构属立方晶系空间群 F4 3m.通过透射光谱的测量 ,计算光能隙 ,得到室温时薄膜的光能隙随组分 x值的变化满足二次方关系 .作为对异质结界面的修饰 ,提出了有 Cd1 - x-Znx Te过渡层的 Cd ... 用共蒸发法制备了 Cd1 - x Znx Te多晶薄膜 ,薄膜结构属立方晶系空间群 F4 3m.通过透射光谱的测量 ,计算光能隙 ,得到室温时薄膜的光能隙随组分 x值的变化满足二次方关系 .作为对异质结界面的修饰 ,提出了有 Cd1 - x-Znx Te过渡层的 Cd S/ Cd Te/ Cd1 - x Znx Te/ Zn Te∶ Cu电池 .并在相同工艺下制备了 Cd S/ Cd Te/ Cd0 .4 Zn0 .6 Te/ Zn Te∶ Cu与 Cd S/ Cd Te/ Zn Te∶ Cu太阳电池 ,发现前者比后者效率平均增加了 35 .0 % . 展开更多
关键词 cd1-xznxte薄膜 共蒸发法 cdTE太阳电池 光能隙
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Cd_(1-x)Zn_xTe(x=0.04)表面处理的低温拉曼散射和电学特性研究 被引量:1
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作者 裴慧元 方家熊 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期184-188,共5页
测量了几种不同处理的 Cd1 - x Znx Te(x=0 .0 4)表面的傅里叶变换拉曼散射光谱和电流 -电压 (I- V)特性 .通过分析拉曼光谱反 Stokes分量 ,并与表面 I- V特性进行比较 ,结果表明与表面处理相联系的晶格声子的行为反映了表面完整性的变... 测量了几种不同处理的 Cd1 - x Znx Te(x=0 .0 4)表面的傅里叶变换拉曼散射光谱和电流 -电压 (I- V)特性 .通过分析拉曼光谱反 Stokes分量 ,并与表面 I- V特性进行比较 ,结果表明与表面处理相联系的晶格声子的行为反映了表面完整性的变化 ,Te沉淀是影响表面质量的关键因素 ,并对有关表面处理方法的实际应用进行了讨论 . 展开更多
关键词 cd1-xznxte 表面处理 拉曼散射光谱 I-V特性 电学特性 红外光电探测器 材料
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Cd_(1-x)Zn_xTe材料电子结构和光学性质的第一性原理研究
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作者 曾冬梅 刘皖 +3 位作者 高欢 慕银银 曾云 孟捷 《材料导报(纳米与新材料专辑)》 EI CAS 2015年第1期86-89,共4页
采用基于第一性原理密度泛函理论的CASTEP程序软件包,运用LDA+U的方法,计算了Cd1-xZnxTe的电子结构和光学性质。计算结果表明:通过LDA+U的修正计算,得到的Cd1-xZnxTe禁带宽度与实验值接近,消除了Cd1-xZnxTe材料在电子结构计算中禁带宽... 采用基于第一性原理密度泛函理论的CASTEP程序软件包,运用LDA+U的方法,计算了Cd1-xZnxTe的电子结构和光学性质。计算结果表明:通过LDA+U的修正计算,得到的Cd1-xZnxTe禁带宽度与实验值接近,消除了Cd1-xZnxTe材料在电子结构计算中禁带宽度被低估的问题;赝势U的加入增加了轨道电子数目,电子的能级发生分裂,吸收谱图和折射谱图中的峰强增加,峰数减少。 展开更多
关键词 cd1-xznxte LDA+U电 子结构 光学性质
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双靶共溅射制备Cd_(1-x)Zn_xTe多晶薄膜的性质研究 被引量:1
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作者 汪雪梅 王文武 +4 位作者 武莉莉 张立祥 冯良桓 张静全 李卫 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第8期8139-8142,共4页
采用双靶共溅射法,分别在不同衬底温度、沉积压强和溅射功率下制备了Cd1-xZnxTe多晶薄膜样品,并采用X射线衍射仪、X射线荧光光谱仪、扫描电子显微镜等方法对制备的Cd1-xZnxTe薄膜的结构、成分、形貌和光电学性质进行测试分析。结果表明,... 采用双靶共溅射法,分别在不同衬底温度、沉积压强和溅射功率下制备了Cd1-xZnxTe多晶薄膜样品,并采用X射线衍射仪、X射线荧光光谱仪、扫描电子显微镜等方法对制备的Cd1-xZnxTe薄膜的结构、成分、形貌和光电学性质进行测试分析。结果表明,300℃衬底温度下制备的Cd1-xZnxTe薄膜成分单一,立方相结构,生长致密,表面颗粒平均大小约50nm,Cd1-xZnxTe薄膜在(111)晶面的2θ值及晶格常数与Zn组分呈线性关系。Cd1-xZnxTe薄膜的禁带宽度与组分x值呈线性关系。随着气压从8Pa降低至1Pa,Cd1-xZnxTe薄膜的晶粒尺寸增加,生长更加致密。Cd1-xZnxTe薄膜的室温电导率约为8.61×10-11(Ω·cm)-1,呈弱P型。 展开更多
关键词 cd1-xznxte薄膜 磁控溅射 叠层电池
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P型Cd_(1-x)Zn_xTe薄膜的制备及性质研究
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作者 赵宇 江洪超 +5 位作者 武莉莉 冯良桓 曾广根 王文武 张静全 李卫 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第5期1295-1298,共4页
采用Cu对共蒸发法制备的Cd1-xZnxTe薄膜进行p型掺杂。用X射线荧光、X射线衍射、扫描电镜、紫外-可见分光光度计、热探针、四探针和台阶仪研究了不同Cu掺杂浓度下Cd1-xZnxTe薄膜退火前后的组分、结构、形貌、光学性质及电学性质的变化。... 采用Cu对共蒸发法制备的Cd1-xZnxTe薄膜进行p型掺杂。用X射线荧光、X射线衍射、扫描电镜、紫外-可见分光光度计、热探针、四探针和台阶仪研究了不同Cu掺杂浓度下Cd1-xZnxTe薄膜退火前后的组分、结构、形貌、光学性质及电学性质的变化。结果表明掺Cu 10%的薄膜在退火后导电类型由P型转变为N型、电阻率增大了几个数量级;掺铜20%的样品退火后导电类型和电阻率未发生明显改变,退火后薄膜表面较为均匀完整;掺铜30%的薄膜透过率显著下降到10%以下,退火前后均为P型薄膜。 展开更多
关键词 cd1-xznxte薄膜 P型掺杂 退火
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HSE方法研究Cd_(1-x)Zn_xTe合金的性质
7
作者 徐海涛 徐闰 +1 位作者 王林军 朱燕艳 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第5期411-415,461,共6页
采用HSE杂化势计算了Cd1-xZnxTe合金的性质,并获得了较传统GGA更为准确的光学带隙和形成焓.在构建超胞计算合金体系时,采用SQS模型.计算分析得出Cd1-xZnxTe合金的光学带隙下凹参数为0.266 eV,这与已报道实验结果 0.254 eV非常吻合.同时... 采用HSE杂化势计算了Cd1-xZnxTe合金的性质,并获得了较传统GGA更为准确的光学带隙和形成焓.在构建超胞计算合金体系时,采用SQS模型.计算分析得出Cd1-xZnxTe合金的光学带隙下凹参数为0.266 eV,这与已报道实验结果 0.254 eV非常吻合.同时,计算得出的形成焓较高,特别是在Cd0.5Zn0.5Te合金组分时(25.60 meV/at-om).对合金中键长的分析后得出Cd-Te键和Zn-Te键的局域键长与CdTe和ZnTe体材料的值非常接近,但二者之间相差较大,从而导致合金材料中各个原子存在较大的弛豫,这也是该合金具有较大形成焓的主要原因. 展开更多
关键词 cd1-xznxte合金 HSE杂化势 形成焓 光学带隙 第一性原理
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Effects of two-step annealing on properties of Cd_(1-x)Zn_xTe single crystals 被引量:2
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作者 杨戈 介万奇 +3 位作者 张群英 王涛 李强 华慧 《中国有色金属学会会刊:英文版》 CSCD 2006年第B01期174-177,共4页
The Cd1-xZnxTe(CZT) single crystals were annealed by a two-step method including a vapor-environment step and a liquid-environment step in sequence. The effects of annealing on the properties of CZT were analyzed in... The Cd1-xZnxTe(CZT) single crystals were annealed by a two-step method including a vapor-environment step and a liquid-environment step in sequence. The effects of annealing on the properties of CZT were analyzed in detail. IR transmission measurement results show that IR transmission of CZT is improved dramatically after annealing. X-ray rocking curves indicate that the annealing treatment ameliorates crystal quality obviously, which is ascribed to the release of residual stress and the reduction of point defects. Photoluminescence(PL) spectra reveal that the full width at half maximum(FWHM) of the donor-bound exciton (D0, X) peak is reduced obviously, and the free exciton emission is weakened after annealing. Meanwhile, the intensity of the donor-acceptor pair(DAP) peak decreases to a great degree, which implies that the impurities are removed from CZT wafers. In addition, the deep defect-related emission band Dcomplex disappears after annealing, which mean that Cd vacancies are well-compensated. The results confirm that the two-step annealing is an effective approach to improve the qualities of CZT single crystals. 展开更多
关键词 cd1-xznxte单晶 两步退火法 半导体材料 杂质 缺陷
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磁控溅射Cd_(1-x)Zn_xTe多晶薄膜组分的可控生长
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作者 葛玉建 江锦春 +3 位作者 邬云骅 潘健亮 王善力 褚君浩 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第2期341-344,364,共5页
采用双靶位共溅射方法制备出组分可控的Cd1-xZnxTe薄膜样品,组分偏离小于0.13。采用XRD对不同生长温度制备的样品进行了结晶性分析,研究了薄膜结晶与生长温度的关系。采用AFM、SEM对样品进行了表面和界面分析,表明薄膜表面平整,界面清... 采用双靶位共溅射方法制备出组分可控的Cd1-xZnxTe薄膜样品,组分偏离小于0.13。采用XRD对不同生长温度制备的样品进行了结晶性分析,研究了薄膜结晶与生长温度的关系。采用AFM、SEM对样品进行了表面和界面分析,表明薄膜表面平整,界面清晰。对不同组分的Cd1-xZnxTe样品进行了透射光谱测量,得到了光学性质随组分的变化规律,并拟合得出了这些样品的带隙和组分。 展开更多
关键词 cd1-xznxte薄膜 磁控溅射 透射光谱
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固液界面附近CdZnTe晶体组份分布及X-Ray测试
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作者 涂步华 方维政 +3 位作者 刘从峰 孙士文 杨建荣 何力 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2005年第11期853-856,共4页
利用对垂直布里奇曼Bridgman法生长中的Cd1-xZnxTe晶体停电自然降温的方法获得了具有不同凝固速率的同一块单晶样品。通过红外透射光谱测量方法对停电自然降温前后的单晶区域进行比较,结果显示:停电自然降温后,在固液界面附近存在一个... 利用对垂直布里奇曼Bridgman法生长中的Cd1-xZnxTe晶体停电自然降温的方法获得了具有不同凝固速率的同一块单晶样品。通过红外透射光谱测量方法对停电自然降温前后的单晶区域进行比较,结果显示:停电自然降温后,在固液界面附近存在一个明显的组份过度区,正常凝固的晶体组份分布比较均匀,而快速凝固的结晶区域轴向组份分布梯度较大,同时,通过X-Ray测试结果进一步准确判断固液界面的位置。 展开更多
关键词 cd1-xznxte 快速降温 Zn组份 X-RAY
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表面处理对CdZnTe晶片漏电流的影响
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作者 邱春丽 赵北君 +3 位作者 朱世富 丁群 何知宇 陈宝军 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第B06期100-104,共5页
采用EDS、XPS、I-V等方法研究了Cd1-xZnxTe(CZT)表面处理工艺与晶片漏电流之间的相互关系。结果表明,机械抛光后的CZT晶片存在损伤层,采用5%BM溶液腐蚀可有效去除损伤层,得到光滑无划痕的表面,但腐蚀后晶片表面组成偏离化学计量配比,随... 采用EDS、XPS、I-V等方法研究了Cd1-xZnxTe(CZT)表面处理工艺与晶片漏电流之间的相互关系。结果表明,机械抛光后的CZT晶片存在损伤层,采用5%BM溶液腐蚀可有效去除损伤层,得到光滑无划痕的表面,但腐蚀后晶片表面组成偏离化学计量配比,随腐蚀时间的延长表面呈现富Te现象,晶体表面漏电流随之增大1~2个数量级;采用KOH溶液对BM抛光后的晶片进一步腐蚀10min,可消除多余的Te得到接近于化学计量比的表面;采用NH4F/H2O2溶液对晶片表面进行钝化,XPS分析表明样品表面的Te0或Te2-被氧化成Te4+,形成高阻氧化层。I-V测试结果表明晶片经KOH+NH4F/H2O2溶液两步钝化后,表面漏电流相对于BM抛光后降低2~3个数量级,具有较好的钝化效果。 展开更多
关键词 cd1-xZnx Te晶片 表面处理 钝化 XPS分析 漏电流
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Cd_(1-x)Zn_xTe晶体退火条件的选择及Zn压对退火晶体质量的影响 被引量:4
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作者 李宇杰 张晓娜 介万奇 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第12期2327-2334,共8页
采用传统Bridgman方法和加入acceleratedcruciblerotationtechnique的Bridgman(缩写为ACRT B)方法生长的Cd1 -xZnxTe(x=0 .0 4)晶体中存在有点缺陷、位错、杂质和Te沉淀等缺陷 .为了减少甚至消除这些缺陷 ,必须将生长后的CdZnTe晶片在C... 采用传统Bridgman方法和加入acceleratedcruciblerotationtechnique的Bridgman(缩写为ACRT B)方法生长的Cd1 -xZnxTe(x=0 .0 4)晶体中存在有点缺陷、位错、杂质和Te沉淀等缺陷 .为了减少甚至消除这些缺陷 ,必须将生长后的CdZnTe晶片在Cd气氛下退火 .从Cd -Te和Cd0 .96 Zn0 .0 4Te的P T相图出发 ,详细讨论了CdZnTe晶体的气 固平衡条件 ,并以此为依据选择退火条件 ,对ACRT -B法生长的Cd0 .96 Zn0 .0 4Te晶体进行了退火实验研究 .实验结果表明 ,气氛中的Zn压在一定程度内高于平衡压力有利于晶体中多余Te向晶体表面扩散 ,即有利于消除Te沉淀 .但过高的Zn压会使晶体表面成分偏离原始的化学配比 .此时 ,晶体表面与气氛强烈的原子交换 ,将造成严重的表面损伤 ,形成一层结晶质量很差的表面层 .同时 ,Zn原子向晶内的扩散 ,抑制了退火过程中晶内杂质向晶体表面的扩散 .因此 ,在较低的Zn压下退火 (但仍处于气 固平衡范围内 ) ,能排除晶内杂质 .通过仔细研究不同条件下退火后晶片的结晶质量和断面成分分布 ,可以认为CdZnTe晶体的退火可分为去沉淀相退火、去杂质退火和均匀化退火几种 ,最佳的退火工艺应是多步骤。 展开更多
关键词 cd1-xznxte 退火 气-固平衡 晶体 锌压 Zn压 质量 Ⅱ-Ⅵ红外半导体材料 镉锌碲化合物 晶体缺陷
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热激电流谱确定CZT:In中的陷阱能级(英文) 被引量:1
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作者 南瑞华 介万奇 +3 位作者 查钢强 白旭旭 王蓓 于晖 《中国有色金属学会会刊:英文版》 CSCD 2012年第S1期148-152,共5页
熔体法生长的半绝缘碲锌镉(Cd1-xZnxTe 或者CZT)晶体中存在着很多缺陷,这些缺陷作为陷获中心在带隙中引入了深能级,从而严重影响 CZT 的探测性能。分别采用初始上升法和同步多峰分析法(SIMPA)分析热激电流谱(TSC),从而获得了半绝缘的铟... 熔体法生长的半绝缘碲锌镉(Cd1-xZnxTe 或者CZT)晶体中存在着很多缺陷,这些缺陷作为陷获中心在带隙中引入了深能级,从而严重影响 CZT 的探测性能。分别采用初始上升法和同步多峰分析法(SIMPA)分析热激电流谱(TSC),从而获得了半绝缘的铟掺杂的Cd0.9Zn0.1Te晶体中的陷阱能级分布。结果表明:由于重叠峰的干扰,初始上升法在确定陷阱峰的最大值时会产生较大的误差;而 SIMPA法被证实适用于分离重叠峰,可同步获得较全面的陷阱能级分布。基于此,获得了半绝缘 CZT:In晶体的缺陷能级分布结果,即包含十个陷阱能级和一个影响暗电流分布的深施主能级 EDD。此外,通过EDD能级与费米能级的关系,解释了CZT:In晶体获得高阻特性的原因。 展开更多
关键词 cd1-xznxte 陷获 深能级 热激电流谱
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退火对Cd_(1-x)Zn_xTe薄膜性质的影响
14
作者 江洪超 金硕 +5 位作者 武莉莉 张静全 李卫 黎兵 曾广根 王文武 《四川大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2013年第4期842-848,共7页
本文用双源真空蒸发的方法制备了Cd1-xZnxTe薄膜,通过热探针、SEM、XRD及紫外-可见光透过谱等方法研究了不同退火条件对薄膜性质的影响.退火后Cd1-xZnxTe多晶薄膜的光学禁带宽度在1.54eV~1.68eV之间,且沿立方相(111)面择优生长.退火温... 本文用双源真空蒸发的方法制备了Cd1-xZnxTe薄膜,通过热探针、SEM、XRD及紫外-可见光透过谱等方法研究了不同退火条件对薄膜性质的影响.退火后Cd1-xZnxTe多晶薄膜的光学禁带宽度在1.54eV~1.68eV之间,且沿立方相(111)面择优生长.退火温度主要影响薄膜表面的粗糙度和平均晶粒尺寸,退火时间主要影响薄膜的平均晶粒尺寸.退火温度与时间对薄膜电学性质的影响较小. 展开更多
关键词 cd1-xznxte薄膜 退火 性质
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CdCl_2/ZnCl_2退火对Cd_(1-x)Zn_xTe多晶薄膜性质的影响
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作者 金硕 王文武 +5 位作者 武莉莉 曾广根 李卫 张静全 黎兵 冯良桓 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2013年第5期223-228,共6页
使用真空共蒸发法沉积了Cd1-xZnxTe(CZT)多晶薄膜,在气相50%CdCl2+50%ZnCl2源以及气相ZnCl2源气氛下进行了不同温度、不同时间的退火处理,并对样品进行了X射线荧光(XRF)、扫描电镜(SEM)、透射谱和导电类型等性质测试。结果表明,使用50%C... 使用真空共蒸发法沉积了Cd1-xZnxTe(CZT)多晶薄膜,在气相50%CdCl2+50%ZnCl2源以及气相ZnCl2源气氛下进行了不同温度、不同时间的退火处理,并对样品进行了X射线荧光(XRF)、扫描电镜(SEM)、透射谱和导电类型等性质测试。结果表明,使用50%CdCl2+50%ZnCl2混合源退火后,样品禁带宽度明显减小;使用ZnCl2源两步退火可得到膜面完整、晶粒显著增大以及禁带宽度无明显减小的CZT薄膜样品,退火温度及ZnCl2量对样品膜面形貌及电学性质有重要影响。 展开更多
关键词 薄膜 cd1-xznxte 太阳电池 退火 cdCl2/ZnCl2
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