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高阻In掺杂CdZnTe晶体缺陷能级的研究 被引量:1
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作者 李刚 桑文斌 +4 位作者 闵嘉华 钱永彪 施朱斌 戴灵恩 赵岳 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期1049-1053,共5页
利用低压垂直布里奇曼法制备了不同In掺杂量的CdZnTe晶体样品,采用低温光致发光谱(PL)、深能级瞬态谱(DLTS)以及霍尔测试等手段研究了In掺杂CdZnTe晶体中的主要缺陷能级及其可能存在的补偿机制.PL测试结果表明,在In掺杂样品中,In原子占... 利用低压垂直布里奇曼法制备了不同In掺杂量的CdZnTe晶体样品,采用低温光致发光谱(PL)、深能级瞬态谱(DLTS)以及霍尔测试等手段研究了In掺杂CdZnTe晶体中的主要缺陷能级及其可能存在的补偿机制.PL测试结果表明,在In掺杂样品中,In原子占据了晶体中原有的Cd空位,形成了能级位于E_c-18meV的替代浅施主缺陷[In_(Cd)^+],同时[In_(Cd)^+]还与[V_(Cd)^(2-)]形成了能级位于E_v+163meV的复合缺陷[(In_(Cd)^+-V_(Cd)^(2-))^-].DLTS分析表明,掺In样品中存在导带以下约0.74eV的深能级电子陷阱能级,这个能级很可能是Te反位[Te_(Cd)]施主缺陷造成的.由此,In掺杂CdZnTe晶体的电学性质是In掺杂施主缺陷、Te反位深能级施主缺陷与本征受主缺陷Cd空位和残余受主杂质缺陷补偿的综合结果. 展开更多
关键词 碲锌镉 低温pl 深能级瞬态谱 缺陷能级
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Photoluminescence and defect evolution of nano-ZnO thin films at low temperature annealing 被引量:5
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作者 YANG AiLing YANG Yun +4 位作者 ZHANG ZhenZhen BAO XiChang YANG RenQiang LI ShunPin SUN Liang 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2013年第1期25-31,共7页
Nano-ZnO thin films composed of nanoparticles with sizes of 10-16 nm on silicon substrates at low temperature were prepared by sol-gel method.By placing the nano-ZnO thin films at room temperature or annealing at 100&... Nano-ZnO thin films composed of nanoparticles with sizes of 10-16 nm on silicon substrates at low temperature were prepared by sol-gel method.By placing the nano-ZnO thin films at room temperature or annealing at 100°C in air for 10 h intermittently,within a total 70 h annealing time,the evolution of PL spectra of the nano-ZnO thin films were studied in detail.As the annealing time increases,the PL peaks shift from violet to blue and green bands.The PL peaks at violet and blue bands decrease with the annealing time,but the PL peaks at green band are opposite.The PL spectra are related to the defects in the nano-ZnO thin films.The PL peaks positioned at 430 nm are mainly related to defects of zinc interstatials(Zni),oxygen vacancies and(Vo);the ones at 420 nm to oxygen interstitials(Oi),Zinc vacancies(Vzn),Zni ;and the ones at 468 nm to Vzn,Zni,and charged oxygen interstatials(Vo+).The green luminescence is related to Oi,Vo and Zni.The evolutions of PL spectra and the defects are also related to the concentrations of Zn in the thin films,the thicknesses of the films and the annealing time.For the films with 0.5 M and 1.0 M Zn concentrations,after 20 h and 30 h annealing in air at 100°C,respectively,either placing them in air at room temperature or continuing anneal in air at 100°C,the PL spectra are stable.Under the low temperature annealing,Zni decreases with the annealing time,and Oi increases.Sufficient Oi favors to keep the nano-ZnO thin films stable.This result is important to nano-ZnO thin films as electron transport layers in inverted or tandem organic solar cells. 展开更多
关键词 nano-ZnO thin films low temperature annealing pl spectra DEFECTS
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Ag掺杂p型ZnO薄膜及其同质结的光电性质 被引量:9
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作者 孙利杰 钟声 +3 位作者 张伟英 王筝 林碧霞 傅竹西 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期304-308,共5页
采用磁控溅射技术在Si基片上生长了Ag掺杂的ZnO薄膜,XRD测试表明所得薄膜结晶性质良好,未出现Ag的分相。未掺杂和Ag掺杂氧化锌薄膜的低温(10K)光致发光(PL)谱显示:Ag的掺入使得中性施主束缚激子发射(D0X)显著减弱,并且在3.315eV处观测... 采用磁控溅射技术在Si基片上生长了Ag掺杂的ZnO薄膜,XRD测试表明所得薄膜结晶性质良好,未出现Ag的分相。未掺杂和Ag掺杂氧化锌薄膜的低温(10K)光致发光(PL)谱显示:Ag的掺入使得中性施主束缚激子发射(D0X)显著减弱,并且在3.315eV处观测到了与Ag有关的施主-受主对(DAP)发射,受主缺陷的形成归因于掺入的Ag替位Zn。计算得到受主能级离价带顶约110meV。霍尔效应测得电阻率约0.1Ω.cm,迁移率约36cm2/V.s,空穴浓度约1.7×1018cm-3。在此基础上制备了ZnO∶Ag/ZnO的同质结,I-V测试显示了明显的整流特性,且反向漏电流很小。所有结果表明Ag掺杂的氧化锌薄膜已经转化为p型。 展开更多
关键词 Ag掺杂氧化锌 低温PI.潜 施主-受主对 同质结
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Ca_2MgSi_2O_7:Eu^(2+)绿色发光粉的低温合成及光致发光 被引量:7
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作者 章少华 胡江峰 +2 位作者 周明斌 王建军 谢冰 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期54-58,共5页
采用CaCl2作助熔剂同时又作反应物,利用固相法在碳还原气氛下合成了Ca2MgSi2O7:Eu2+发光粉,确定其最佳的合成条件为按CaCO3、Mg(OH)2、SiO2、CaCl2的量的比1.5:1:2:2.4称取原料,烧结温度为900℃,烧结时间为3h。合成的样品可被360~480n... 采用CaCl2作助熔剂同时又作反应物,利用固相法在碳还原气氛下合成了Ca2MgSi2O7:Eu2+发光粉,确定其最佳的合成条件为按CaCO3、Mg(OH)2、SiO2、CaCl2的量的比1.5:1:2:2.4称取原料,烧结温度为900℃,烧结时间为3h。合成的样品可被360~480nm的光有效激发,得到发射峰值位于529nm的绿光。该发光粉Eu2+的最佳掺杂摩尔分数为0.02。与高温法相比,低温法制备的Ca2MgSi2O7:Eu2+发光粉激发光谱形状表现出一些差别,并且发射光强度显著增强,低温制备的Ca2MgSi2O7:0.02Eu2+的发射强度是高温制备样品的261%。 展开更多
关键词 发光粉 Ca2MgSi2O7:Eu2%plUS% 助熔剂 低温合成 光致发光
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InP/GaAs/InPⅡ型量子阱的光致发光研究 被引量:1
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作者 陈松岩 刘宝林 +2 位作者 陈龙海 黄美纯 陈朝 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 1998年第4期503-506,共4页
报道了用金属有机化合物化学气相沉积技术生长InP/GaAs/InP量子阱结构,通过线性形变势理论计算表明该结构为Ⅱ型量子阱结构.
关键词 Ⅱ型 量子阱结构 光致发光 半导体
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低温固相反应法合成ZnO纳米晶体 被引量:1
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作者 新梅 赵金龙 +3 位作者 国家旭 齐晓辉 张凤杰 孙兆明 《大连民族学院学报》 CAS 2012年第5期474-477,共4页
以乙酸锌和草酸为原料,采用低温固相反应法制备了纳米ZnO。用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、傅里叶红外光谱仪(FT-IR),光致发光(PL)光谱对所制备的纳米ZnO进行了表征。结果表明,制备的纳米ZnO的粒径为15~25 nm,六方晶系纤锌... 以乙酸锌和草酸为原料,采用低温固相反应法制备了纳米ZnO。用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、傅里叶红外光谱仪(FT-IR),光致发光(PL)光谱对所制备的纳米ZnO进行了表征。结果表明,制备的纳米ZnO的粒径为15~25 nm,六方晶系纤锌矿结构,形貌为类球形。研究了改变工艺条件中研磨时间和水浴温度对合成样品的结构、形貌的影响。发现随着研磨时间的延长,样品的结晶性增强;水浴温度的变化对纳米粒子的结晶性及尺寸也有一定的影响。由于纳米ZnO对紫外线的高吸收率和可将紫外线转换为可见光,将其作为近紫外LED光转换材料有着潜在的应用价值。 展开更多
关键词 低温固相反应法 ZNO 纳米晶体 pl光谱
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激光辐照和高温氧化硅锗合金的低维结构和发光特性 被引量:1
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作者 吴克跃 宋军 吴兴举 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第4期541-544,共4页
采用强激光辐照硅锗合金,然后高温氧化的方法,在样品表面生成微米级小孔,用高精度扫描电镜观察孔内结构,发现片状纳米结构的存在。用荧光光谱仪测量其光致荧光谱,对于激光辐照(无高温氧化)的样品,在峰值705nm处出现较强的光致发光(PL)... 采用强激光辐照硅锗合金,然后高温氧化的方法,在样品表面生成微米级小孔,用高精度扫描电镜观察孔内结构,发现片状纳米结构的存在。用荧光光谱仪测量其光致荧光谱,对于激光辐照(无高温氧化)的样品,在峰值705nm处出现较强的光致发光(PL)。高温氧化后,样品在606nm处出现一尖锐的PL光谱。利用量子受限和纳晶与氧化物的界面态综合模型解释PL光谱的产生。 展开更多
关键词 高温氧化 激光辐照 硅锗合金 低维结构 pl光谱
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低温等离子体气相沉积氮化镓薄膜的光谱特性研究
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作者 符斯列 陈俊芳 郭超峰 《信息记录材料》 2010年第3期28-31,共4页
采用低温等离子体增强化学气相沉积工艺,以氮气N2和三甲基镓(TMG)为反应气源,在蓝宝石衬底α—Al2O3的(0001)面上低温生长了GaN薄膜。薄膜光致发光光谱(PL)出现两个发光带,一个是中心位置位于364nm的锐而强的带边峰。另一个是... 采用低温等离子体增强化学气相沉积工艺,以氮气N2和三甲基镓(TMG)为反应气源,在蓝宝石衬底α—Al2O3的(0001)面上低温生长了GaN薄膜。薄膜光致发光光谱(PL)出现两个发光带,一个是中心位置位于364nm的锐而强的带边峰。另一个是中心波长在550nm(2.2eV),范围在480-700nm的强而宽的黄光发光带。傅立叶红外光谱(FTIR)观察到GaN的A1(LO)的下沿峰和E1(TO)峰,说明这是六方结构的OaN薄膜。 展开更多
关键词 低温等离子体 氮化镓薄膜 pl光谱 FTIR光谱
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Self-assembled germanium nano-structures by laser-assisted oxidation 被引量:8
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作者 黄伟其 刘杨荣 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2006年第2期389-393,共5页
The investigation on the oxidation behaviour of Si1-xGex alloys (x=0.05, 0.15, and 0.25) is carried out. It is found for the first time that on the oxide film a germanium nano-cap with a thickness of 1.8-2.8nm and a... The investigation on the oxidation behaviour of Si1-xGex alloys (x=0.05, 0.15, and 0.25) is carried out. It is found for the first time that on the oxide film a germanium nano-cap with a thickness of 1.8-2.8nm and a few Ge nanoparticles with diameters ranging from 5.5 nm to 10 nm are formed by the low-temperatu.re laser-assisted dry oxidation of Si1-xGex substrate. A new scanning method on the decline cross-section of the multiple-layer sample is adopted to measure the layer thickness and the composition. Some new peaks in photoluminescence (PL) spectra are discovered, which could be related to the nano-cap and the nano-particles of germanium. A suitable model and several new calculating formulae with the unrestricted Hartree-Fock-Roothaan (UHFR) method and quantum confinement analysis are proposed to interpret the PL spectra and the nano-structure mechanism in the oxide. 展开更多
关键词 low-temperature oxidation laser-assisted NANO-STRUCTURE pl spectra
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