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包覆型纳米CeO_2@SiO_2复合磨料的制备、表征及其抛光性能 被引量:5
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作者 隆仁伟 陈杨 +1 位作者 赵晓兵 陈志刚 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第5期412-417,共6页
以无水乙醇为溶剂,氨水为催化剂,利用正硅酸乙酯(TEOS)水解,并在500℃下煅烧1h,制备了SiO2粉体.将SiO2粉体作为内核浸渍到以硝酸亚铈、乙酰丙酮和正丙醇为原料制备的铈溶胶中,得到包覆型CeO2@SiO2复合粉体.利用XRD、SEM、TEM和FT-IR等... 以无水乙醇为溶剂,氨水为催化剂,利用正硅酸乙酯(TEOS)水解,并在500℃下煅烧1h,制备了SiO2粉体.将SiO2粉体作为内核浸渍到以硝酸亚铈、乙酰丙酮和正丙醇为原料制备的铈溶胶中,得到包覆型CeO2@SiO2复合粉体.利用XRD、SEM、TEM和FT-IR等测试手段,对所制备样品的物相结构、形貌、粒径大小、团聚情况进行表征.将所制备的包覆型CeO2@SiO2复合粉体配制成抛光浆料用于砷化镓晶片的化学机械抛光,用原子力显微镜(AFM)观察抛光表面的微观形貌,测量表面粗糙度.结果表明,采用浸渍工艺成功制备出单分散球形,粒径在400~450nm,负载均匀的包覆型CeO2@SiO2复合粉体.复合粉体中CeO2的包覆量随着铈溶胶中铈离子浓度的升高而增大.经包覆型CeO2@SiO2复合磨料抛光后的砷化镓晶片表面的微观起伏更趋于平缓,在1μm×1μm范围内表面粗糙度Ra值为0.819nm,获得了具有亚纳米量级粗糙度的抛光表面. 展开更多
关键词 ceo2@sio2复合磨料 浸渍 包覆 砷化镓 抛光
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CeO_2@SiO_2纳米复合磨料的制备及其对光学石英玻璃的抛光性能 被引量:4
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作者 陈杨 隆仁伟 陈志刚 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第18期35-38,共4页
以无水乙醇为溶剂、氨水为催化剂,利用正硅酸乙酯水解所得的SiO2微球为内核,以硝酸亚铈为铈源、六亚甲基四胺为沉淀剂,采用化学沉淀法制备了具有草莓状包覆结构的CeO2@SiO2复合颗粒。利用X射线衍射仪、透射电子显微镜、场发射扫描电镜... 以无水乙醇为溶剂、氨水为催化剂,利用正硅酸乙酯水解所得的SiO2微球为内核,以硝酸亚铈为铈源、六亚甲基四胺为沉淀剂,采用化学沉淀法制备了具有草莓状包覆结构的CeO2@SiO2复合颗粒。利用X射线衍射仪、透射电子显微镜、场发射扫描电镜、能谱仪、X射线光电子能谱仪、纳米激光粒度分布仪等对所制备样品的结构进行了表征。将所制备的包覆结构CeO2@SiO2复合磨料用于光学石英玻璃的化学机械抛光,采用原子力显微镜观察了抛光表面的微观形貌,并测量了表面粗糙度。结果表明,所制备的CeO2@SiO2复合颗粒呈规则球形,粒度分布均匀,粒径为150~200nm,且具有明显的草莓状包覆结构,大量纳米CeO2颗粒紧密包覆在SiO2表面。AFM测量结果表明,抛光后玻璃表面划痕得到明显改善,在10μm×10μm范围内表面粗糙度RMS值由1.65nm降至0.484nm。 展开更多
关键词 ceo2@sio2 复合磨料 包覆 石英玻璃 抛光
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CeO_2@SiO_2复合磨料的制备 被引量:3
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作者 赵治安 倪自丰 +4 位作者 卞达 杨大林 黄国栋 王永光 赵永武 《陕西师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2014年第3期55-58,共4页
以SiO2颗粒为内核,通过均相沉淀法制备出包覆结构的CeO2@SiO2复合磨料,研究了CeO2的含量、反应时间、煅烧温度对制备CeO2@SiO2复合磨料的影响.结果表明:六水硝酸亚铈的加入量为7.02g时,复合磨料包覆均匀,分散性好,粒谷大小合适;反应时间... 以SiO2颗粒为内核,通过均相沉淀法制备出包覆结构的CeO2@SiO2复合磨料,研究了CeO2的含量、反应时间、煅烧温度对制备CeO2@SiO2复合磨料的影响.结果表明:六水硝酸亚铈的加入量为7.02g时,复合磨料包覆均匀,分散性好,粒谷大小合适;反应时间为2h时,复合磨料的结构基本形成;煅烧温度为500℃,复合磨料的粒径分布范围小,形状呈圆形.并通过X射线衍射仪(XRD)、纳米激光粒度仪等对制备的样品进行了表征. 展开更多
关键词 ceo2SiO2复合磨料 包覆量 反应时间 煅烧温度
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核-壳结构PS/CeO_2复合磨料的制备及其氧化物化学机械抛光性能 被引量:7
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作者 陈杨 隆仁伟 +1 位作者 陈志刚 丁建宁 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期9-14,共6页
以无皂乳液聚合方法制备的聚苯乙烯(PS)微球为内核,硝酸铈为铈源,六亚甲基四胺为沉淀剂,采用液相工艺制备了PS/CeO2复合颗粒.利用XRD、TEM、SAED、FESEM、EDAX等手段,对所制备样品的物相结构、形貌、粒径大小和元素成分组成进行表征.将... 以无皂乳液聚合方法制备的聚苯乙烯(PS)微球为内核,硝酸铈为铈源,六亚甲基四胺为沉淀剂,采用液相工艺制备了PS/CeO2复合颗粒.利用XRD、TEM、SAED、FESEM、EDAX等手段,对所制备样品的物相结构、形貌、粒径大小和元素成分组成进行表征.将所制备的复合磨料用于硅晶片热氧化层的化学机械抛光,用AFM观察抛光表面的微观形貌,并测量表面粗糙度.结果表明,所制备的PS/CeO2复合颗粒具有核-壳结构,呈近似球形,粒径在250~300nm,PS内核表面被粒径在5~10nm的CeO2纳米颗粒均匀包覆,壳层的厚度为10~20nm.抛光后的硅热氧化层表面在5μm×5μm范围内粗糙度Ra值和RMS值分别为0.188nm和0.238nm,抛光速率达到461.1nm/min. 展开更多
关键词 PS/ceo2 复合磨料 核-壳结构 包覆 化学机械抛光
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包覆结构CeO_2/SiO_2复合磨料的合成及其应用 被引量:5
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作者 陈杨 隆仁伟 陈志刚 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期163-169,共7页
以正硅酸乙酯水解所得的SiO2微球为内核,采用均匀沉淀法制备具有草莓状包覆结构的CeO2/SiO2复合粉体。利用X射线衍射仪、透射电子显微镜、X射线光电子能谱仪(XPS)、动态光散射仪和Zeta电位测定仪等手段,对所制备样品的物相结构、组成、... 以正硅酸乙酯水解所得的SiO2微球为内核,采用均匀沉淀法制备具有草莓状包覆结构的CeO2/SiO2复合粉体。利用X射线衍射仪、透射电子显微镜、X射线光电子能谱仪(XPS)、动态光散射仪和Zeta电位测定仪等手段,对所制备样品的物相结构、组成、形貌和粒径大小进行表征。将所制备的包覆结构CeO2/SiO2复合粉体用于硅晶片热氧化层的化学机械抛光,用原子力显微镜(AFM)观察抛光表面的微观形貌,测量表面粗糙度,并测量材料去除率。结果表明:所制备的CeO2/SiO2复合颗粒呈规则球形,平均粒径为150~200nm,CeO2纳米颗粒在SiO2内核表面包覆均匀。CeO2颗粒的包覆显著地改变复合颗粒表面的电动力学行为,CeO2/SiO2复合颗粒的等电点为6.2,且明显地偏向纯CeO2;CeO2外壳与SiO2内核之间形成Si—O—Ce键,两者产生化学键结合;抛光后的硅热氧化层表面在2μm×2μm范围内粗糙度为0.281nm,材料去除率达到454.6nm/min。 展开更多
关键词 ceo2/SiO2复合磨料 包覆 化学机械抛光
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新型核-壳结构PS/CeO_2和PS/SiO_2复合磨料的制备及其抛光性能 被引量:2
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作者 陈杨 隆仁伟 +1 位作者 陈志刚 陈爱莲 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第8期1612-1617,共6页
以聚苯乙烯(PS)微球为内核,采用液相法制备具有核壳结构的PS/CeO2和PS/SiO2复合颗粒。利用X射线衍射仪、透射电子显微镜、场发射扫描电子显微镜、傅里叶转换红外光谱仪和热重分析仪等对所制备样品的物相结构、形貌和粒径等进行表征。将... 以聚苯乙烯(PS)微球为内核,采用液相法制备具有核壳结构的PS/CeO2和PS/SiO2复合颗粒。利用X射线衍射仪、透射电子显微镜、场发射扫描电子显微镜、傅里叶转换红外光谱仪和热重分析仪等对所制备样品的物相结构、形貌和粒径等进行表征。将所制备的复合磨料用于硅晶片表面二氧化硅介质层的化学机械抛光,采用原子力显微镜观察抛光表面的微观形貌,并测量表面粗糙度。结果表明:所制备的PS/CeO2和PS/SiO2复合颗粒呈近球形,粒径为250~300nm,且具有核壳包覆结构,包覆层的厚度为10~20nm;硅晶片表面二氧化硅介质层经PS/CeO2和PS/SiO2复合颗粒抛光后,表面无划痕,且非常平整,在5μm×5μm范围内,粗糙度均方根值(RMS)分别为0.238nm和0.254nm。 展开更多
关键词 PS/ceo2复合磨料 PS/SiO2复合磨料 核-壳结构 包覆 化学机械抛光
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不同粒径核壳结构聚苯乙烯(PS)-CeO_2复合磨料的制备、表征及其化学机械抛光性能 被引量:2
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作者 陆锦霞 陈志刚 隆仁伟 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第7期1777-1784,共8页
以无皂乳液聚合法制备的不同粒径聚苯乙烯(Ploystrene,PS)微球为内核,以硝酸铈和六亚甲基四胺为原料,采用液相工艺制备具有核壳结构的PS-CeO2复合微球。利用X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、场发射扫描电镜(FESEM)、傅里叶转换... 以无皂乳液聚合法制备的不同粒径聚苯乙烯(Ploystrene,PS)微球为内核,以硝酸铈和六亚甲基四胺为原料,采用液相工艺制备具有核壳结构的PS-CeO2复合微球。利用X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、场发射扫描电镜(FESEM)、傅里叶转换红外光谱仪(FT-IR)和热重分析仪(TGA)等对样品的成分、物相结构、形貌、粒径以及团聚情况进行表征。将所制备的PS-CeO2复合微球作为磨料用于二氧化硅介质层的化学机械抛光,用原子力显微镜(AFM)观察抛光表面的微观形貌,测量表面粗糙度。结果表明:所制备的3种PS微球呈单分散规则球形,粒径分别约为120、170和240 nm;3种PS-CeO2复合微球具有核壳结构,粒径分别约为140、190和260 nm,CeO2壳厚约为10 nm。随着PS-CeO2复合磨料粒径的减小,抛光表面粗糙度随之降低,经样品F1抛光后表面在10μm×10μm面积范围内粗糙度的平均值(Ra)及其均方根(Rms)分别为0.372和0.470 nm。 展开更多
关键词 PS-ceo2复合磨料 核壳结构 化学机械抛光
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CeO_2/ZrO_2硅溶胶复合磨料的制备及其对蓝宝石抛光性能的影响 被引量:2
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作者 张雷 王海倩 +1 位作者 所世兴 于少明 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2018年第9期3021-3027,共7页
以硅溶胶为原料,通过化学沉淀法对硅溶胶进行铈锆改性,制备出抛光用单分散的CeO_2/ZrO_2硅溶胶复合磨料。考察了不同铈锆掺杂量的CeO_2/ZrO_2硅溶胶复合磨料对蓝宝石晶片抛光性能的影响,研究了CeO_2/ZrO_2硅溶胶复合磨料对蓝宝石晶片的... 以硅溶胶为原料,通过化学沉淀法对硅溶胶进行铈锆改性,制备出抛光用单分散的CeO_2/ZrO_2硅溶胶复合磨料。考察了不同铈锆掺杂量的CeO_2/ZrO_2硅溶胶复合磨料对蓝宝石晶片抛光性能的影响,研究了CeO_2/ZrO_2硅溶胶复合磨料对蓝宝石晶片的抛光机理。通过透射电子显微镜(TEM)、扫描电子显微镜(SEM)-能谱仪(EDS)、X射线光电子能谱仪(XPS)、X射线衍射仪(XRD)对样品的组成、形貌等进行表征。以所制备的复合磨料对蓝宝石晶片进行抛光,利用原子力显微镜(AFM)检测抛光后的蓝宝石晶片表面粗糙度。结果表明:CeO_2/ZrO_2硅溶胶复合磨料中最佳的铈锆掺杂量为:铈掺杂量为1.5wt%,锆掺杂量为1.0wt%,材料去除速率可以达到36.1 nm/min,表面粗糙度可以达到0.512 nm,而相同条件下纯硅溶胶抛光后的蓝宝石表面粗糙度为1.59 nm,材料去除速率为18.4nm/min,该复合磨料表现出较好的抛光性能。 展开更多
关键词 ceo2/ZrO2硅溶胶 复合磨料 化学沉淀法 蓝宝石抛光 单分散
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SiO_2/CeO_2复合磨粒的制备及在蓝宝石晶片抛光中的应用 被引量:13
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作者 白林山 熊伟 +2 位作者 储向峰 董永平 张王兵 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期1289-1295,共7页
采用均相沉淀法制备了SiO2/CeO2复合磨料,并利用X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、傅里叶变换红外光谱仪(FT-IR)等对样品的相组成和形貌进行了表征。将所制备的SiO2/CeO2复合磨料用于蓝宝石晶片的化学机械抛光,利用原子力显微镜... 采用均相沉淀法制备了SiO2/CeO2复合磨料,并利用X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、傅里叶变换红外光谱仪(FT-IR)等对样品的相组成和形貌进行了表征。将所制备的SiO2/CeO2复合磨料用于蓝宝石晶片的化学机械抛光,利用原子力显微镜检测抛光后的蓝宝石晶片表面粗糙度。结果表明:所制备的SiO2/CeO2复合磨粒呈球形,粒径在40-50nm;在相同条件下,经过复合磨料抛光后的蓝宝石晶片表面粗糙度为0.32nm,材料去除速率为16.4nm/min,而SiO2抛光后的蓝宝石晶片表面粗糙度为0.92nm,材料去除速率为20.1nm/min。实验显示,复合磨料的材料去除速率略低于单一SiO2磨料,但它获得了较好的表面质量,基本满足蓝宝石作发光二极管(LED)衬底的工艺要求。 展开更多
关键词 蓝宝石晶片 化学机械抛光 表面粗糙度 SiO2/ceo2 复合磨料
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超声波对Ni-CeO_2纳米复合电铸层微观结构和性能的影响 被引量:21
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作者 李济顺 薛玉君 +2 位作者 兰明明 刘义 余永健 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第3期517-522,共6页
采用扫描电镜和X射线衍射分析Ni-CeO2纳米复合电铸层的表面形貌和结晶取向,研究超声波对电铸层显微硬度和耐磨损性能的影响。结果表明:由于电铸过程中引入的超声波的强力搅拌作用、超声空化效应和声流扰动效应,可以有效抑制CeO2纳米颗... 采用扫描电镜和X射线衍射分析Ni-CeO2纳米复合电铸层的表面形貌和结晶取向,研究超声波对电铸层显微硬度和耐磨损性能的影响。结果表明:由于电铸过程中引入的超声波的强力搅拌作用、超声空化效应和声流扰动效应,可以有效抑制CeO2纳米颗粒在镀液中的团聚,并促使其在电铸层中均匀分布,进一步细化了Ni结晶晶粒;超声波的引入可促进Ni晶体沿(111)和(220)晶面方向的生长,改变电铸层的结晶取向;与无超声波作用相比,超声波作用下制备的纳米复合电铸层显微硬度高、耐磨损性能优良,在CeO2添加量为40g/L时所制备的纳米复合电铸层的显微硬度最高、磨损率最低。 展开更多
关键词 ceo2纳米颗粒 纳米复合电铸层 电铸 超声波
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CeO_2-ZrO_2复合氧化物的制备及协同抛光性能 被引量:13
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作者 胡建东 李永绣 +4 位作者 程昌明 柴明霞 冯晓平 周雪珍 辜子英 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2006年第7期1354-1358,共5页
Sub-micrometer ultra fine CeO2-ZrO2 mixed oxides have been prepared by milling solid cerium carbonate and zirconium oxy-chloride with ammonia and followed by filtering, drying and calcining procedures. The effects of ... Sub-micrometer ultra fine CeO2-ZrO2 mixed oxides have been prepared by milling solid cerium carbonate and zirconium oxy-chloride with ammonia and followed by filtering, drying and calcining procedures. The effects of Ce/Zr molar ratio, milling time and calcining temperature on the phase composition, particle size and morphology, surface charge, as well as the polishing property were investigated. The results show that the mixed oxide calcined at 1 000 ℃ is composed of cubic ceria doped with zirconium and tetragonal zirconia doped with cerium, and the phase composition varies with calcination temperature and the Ce/Zr molar ratio. The monoclinic zirconia is observed when decreasing calcination temperature and shortening milling time, demonstrating that milling and calcining can force the phase transformation from monoclinic zirconia to cerium stabilized tetragonal zirconia and zirconium doped cubic ceria solid solutions. The removal rate for the optical glass polishing varies with Ce/Zr molar ratio. A synergetic polishing effect is found when Ce/Zr molar ratio below 4, and the optimal Ce/Zr molar ratio is 1∶1. At the same time, the cubic ceria content, density, particle size and surface charge all increase when calcination temperature increasing from 800 ℃ to 1 100 ℃. However, the particle morphology changes from disperse quasi-sphere to irregular aggregation and the maximal removal rate for optical glass polishing lies at 1 000 ℃.These facts show that the polishing property of the synthesized ceria-zirconia mixed oxide is affected by the particle physical characteristics comprehensively. 展开更多
关键词 抛光 ceo2.ZrO2复合氧化物 相组成 颗粒形貌
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超细CeO_2磨料对硅片的抛光性能研究 被引量:11
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作者 陈建清 陈杨 +1 位作者 陈志刚 陈康敏 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第8期743-745,共3页
用均相沉淀法制备了不同形状和尺寸的CeO2 超细粉体 ,并配制成不同pH值的抛光液对硅片进行化学机械抛光。研究了不同粒径CeO2 磨料的抛光效果 ,结果表明 ,微米级的CeO2 磨料粒径比较大 ,切削深度比较深 ,材料的去除是以机械作用为主。... 用均相沉淀法制备了不同形状和尺寸的CeO2 超细粉体 ,并配制成不同pH值的抛光液对硅片进行化学机械抛光。研究了不同粒径CeO2 磨料的抛光效果 ,结果表明 ,微米级的CeO2 磨料粒径比较大 ,切削深度比较深 ,材料的去除是以机械作用为主。随着磨料粒径的减小 ,切削深度随之减小 ,材料以塑性流动的方式去除 ,最终在 2 μm的范围内得到了微观表面粗糙度Ra =0 1 2 0nm的超光滑表面。实验证明 ,CeO2 展开更多
关键词 ceo2磨料 化学机械抛光 硅片 粗糙度
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超声条件下脉冲电沉积Ni-CeO_2纳米复合镀层的高温抗氧化性 被引量:25
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作者 薛玉君 刘红彬 +2 位作者 兰明明 库祥臣 李济顺 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第8期1599-1604,共6页
在脉冲电沉积过程中通过施加超声波制备Ni-CeO2纳米复合镀层,利用SEM、XRD等分析方法,研究Ni-CeO2纳米复合镀层的高温抗氧化性能。结果表明:共沉积的CeO2纳米颗粒使基质金属Ni的晶粒尺寸减小,而超声波的引入进一步促使晶粒细化;弥散分... 在脉冲电沉积过程中通过施加超声波制备Ni-CeO2纳米复合镀层,利用SEM、XRD等分析方法,研究Ni-CeO2纳米复合镀层的高温抗氧化性能。结果表明:共沉积的CeO2纳米颗粒使基质金属Ni的晶粒尺寸减小,而超声波的引入进一步促使晶粒细化;弥散分布在镀层中的CeO2纳米颗粒有效降低纳米复合镀层氧化质量的增量;纳米颗粒以及超声波的晶粒细化作用均显著提高纳米复合镀层的高温抗氧化性能;与无超声作用相比,超声条件下脉冲电沉积制备的Ni-CeO2纳米复合镀层晶粒细小、氧化质量的增量少;在CeO2添加量为40g/L时,所制备的纳米复合镀层的高温抗氧化性能最高。 展开更多
关键词 ceo2纳米颗粒 纳米复合镀层 脉冲电沉积 超声波 高温抗氧化性能
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CeO_2-TiO_2复合氧化物载体在催化中的应用研究进展 被引量:9
14
作者 叶季蕾 刘源 +1 位作者 闻学兵 刘鹏翔 《化工进展》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第7期733-736,共4页
介绍了CeO2-TiO2复合氧化物制备方法及性能特征;评述了影响CeO2-TiO2复合氧化物结构、性质的因素;对负载金属元素后的催化剂在不同的催化反应中的应用进行了综述。并对CeO2-TiO2复合氧化物应用前景作了展望。
关键词 ceo2 TIO2 复合氧化物 载体 催化剂
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高能球磨制备纳米CeO_2/Al复合粉末 被引量:15
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作者 骆心怡 朱正吼 +1 位作者 卢翔 李顺林 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2003年第2期14-16,共3页
采用高能球磨法制备了纳米 Ce O2 /Al复合粉末 ,并利用 X射线衍射 ( XRD)、场发射显微镜 ( FEM)、扫描电镜 ( SEM)以及能谱分析 ( EDS)等测试分析手段 ,对球磨过程中复合粉末相结构、组织形貌和成分分布的变化进行了研究。结果表明 :随... 采用高能球磨法制备了纳米 Ce O2 /Al复合粉末 ,并利用 X射线衍射 ( XRD)、场发射显微镜 ( FEM)、扫描电镜 ( SEM)以及能谱分析 ( EDS)等测试分析手段 ,对球磨过程中复合粉末相结构、组织形貌和成分分布的变化进行了研究。结果表明 :随着球磨时间的增加 ,纳米 Ce O2 团聚体逐渐进入 Al颗粒中 ,并被很好地分散开来 ,呈均匀弥散分布 ;Al晶粒尺寸不断细化。 展开更多
关键词 高能球磨 纳米复合粉末 ceo2粉末 分散 Al粉末
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纳米CeO_2/Zn复合粉末的高能球磨法制备与表征 被引量:8
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作者 骆心怡 左敦稳 +3 位作者 王珉 李顺林 杨文涛 常华 《南京航空航天大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期383-387,共5页
采用高能球磨法制备了用于热浸镀锌的纳米C eO2/Zn复合粉末,并利用X射线衍射(X-ray d iffraction,XRD)、X射线光电子能谱(X-ray photoe lectron spectroscopy,XPS)、透射电镜(T ransm iss ion e lectron m i-croscopy,TEM)、扫描电镜(Sc... 采用高能球磨法制备了用于热浸镀锌的纳米C eO2/Zn复合粉末,并利用X射线衍射(X-ray d iffraction,XRD)、X射线光电子能谱(X-ray photoe lectron spectroscopy,XPS)、透射电镜(T ransm iss ion e lectron m i-croscopy,TEM)、扫描电镜(Scann ing e lectron m icroscopy,SEM)以及能谱分析(X-ray energy d ispers ive spec-trum,EDS)等方法,对复合粉末的显微结构、表面成分、晶粒大小、微观形貌以及元素分布进行了研究。结果表明,随着球磨时间的延长,纳米C eO2硬团聚体逐渐解聚,Zn晶粒不断细化,形成层片状复合粉末;球磨120 m in后纳米C eO2粒子分散良好,呈理想的单个均匀弥散分布状态包覆在Zn颗粒上形成近似球形的复合粒子,其粒径分布均匀。 展开更多
关键词 纳米复合粉末 高能球磨 分散 纳米ceo2粒子 Zn粉末
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纳米CeO_2磨料对GaAs晶片的CMP性能研究 被引量:14
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作者 陈杨 李霞章 陈志刚 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2006年第4期253-256,267,共5页
通过均相沉淀法制备了不同粒径的CeO2超细粉体,并配制成不同氧化剂浓度和pH值的抛光液对GaAs晶片进行化学机械抛光。研究了不同粒径CeO2磨料对GaAs晶片的抛光效果,并对GaAs晶片化学机械抛光材料去除机理进行了探讨。结果表明,使用超细C... 通过均相沉淀法制备了不同粒径的CeO2超细粉体,并配制成不同氧化剂浓度和pH值的抛光液对GaAs晶片进行化学机械抛光。研究了不同粒径CeO2磨料对GaAs晶片的抛光效果,并对GaAs晶片化学机械抛光材料去除机理进行了探讨。结果表明,使用超细CeO2磨料最终在1μm×1μm的范围内达到了微观表面粗糙度Ra值为0.740nm的超光滑表面,而且抛光后表面的微观起伏更趋于平缓。实验证明,超细CeO2磨料对GaAs晶片具有良好的抛光效果。 展开更多
关键词 ceo2磨料 GAAS晶片 抛光
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CeO_2-TiO_2复合光催化剂的制备及日光催化研究 被引量:12
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作者 马琦 张保住 +2 位作者 张志强 任建国 张智敏 《应用化工》 CAS CSCD 2005年第3期153-155,共3页
采用水热法,在温和的条件下制备了具有较高光催化活性的CeO2 TiO2复合光催化剂,在太阳光照射下以罗丹明B的光降解为模型反应研究了其光催化活性。结果表明,适量Ce的掺杂能有效提高TiO2的日光催化活性。用FT IR、TG DTA和XRD等进行了性... 采用水热法,在温和的条件下制备了具有较高光催化活性的CeO2 TiO2复合光催化剂,在太阳光照射下以罗丹明B的光降解为模型反应研究了其光催化活性。结果表明,适量Ce的掺杂能有效提高TiO2的日光催化活性。用FT IR、TG DTA和XRD等进行了性能表征。 展开更多
关键词 ceo2-TiO2复合光催化剂 日光催化 水热法
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SiO_2/CeO_2混合磨料对微晶玻璃CMP效果的影响 被引量:7
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作者 孙增标 刘玉岭 +2 位作者 刘效岩 闫宝华 张研 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2010年第1期72-74,共3页
在微晶玻璃表面的超精密加工中,抛光磨料是抛光液重要的组成部分,它不仅影响着微晶玻璃的去除速率,而且对表面的粗糙度有着重要的影响。把超大规模集成电路的CMP技术引入到微晶玻璃的抛光中,在分析SiO2/CeO2混合磨料对微晶玻璃表面作用... 在微晶玻璃表面的超精密加工中,抛光磨料是抛光液重要的组成部分,它不仅影响着微晶玻璃的去除速率,而且对表面的粗糙度有着重要的影响。把超大规模集成电路的CMP技术引入到微晶玻璃的抛光中,在分析SiO2/CeO2混合磨料对微晶玻璃表面作用原理的基础上,进行了大量的实验研究,结果表明,通过调节SiO2/CeO2的配比和优化相关工艺参数可以得到应用所需的粗糙度及在此粗糙度下最大的去除速率。 展开更多
关键词 化学机械抛光 SiO2/ceo2混合磨料 去除速率 表面粗糙度
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阳离子聚氨酯/CeO_2纳米复合材料的制备 被引量:23
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作者 刘桂霞 孙多先 洪广言 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2003年第3期266-268,共3页
The cationic polyurethane/CeO 2 nanocomposite dispersion has been synthesiz ed by adding ceria organosol to pre-polymer of polyurethane and then adding neutralization reagent and water to give an emulsion. FTIR analys... The cationic polyurethane/CeO 2 nanocomposite dispersion has been synthesiz ed by adding ceria organosol to pre-polymer of polyurethane and then adding neutralization reagent and water to give an emulsion. FTIR analysis shows blue shift of the absorpsion band of CeO 2 . TEM micrograph shows that CeO 2 nano- particles ar e uniformly dispersed in polyurethane. Polyurethane/CeO 2 nanocomposite has high absorption at the region lower 350 nm. 展开更多
关键词 阳离子聚氨酯 ceo2 纳米复合材料 制备 二氧化铈
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