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离子束引起金属膜和白云母界面附着力的改变
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作者 杨化中 刘正民 +1 位作者 杨坤山 裘元勋 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 1990年第8期449-452,共4页
本文叙述了用能量为1—4MeV的Cl离子轰击有Au和Ag薄膜的天然白云母,使金属膜与白云母界面之间的附着力发生了变化。用胶带法测试了不同离子能量下的增强附着剂量阈D_(th)。入射Cl离子的剂量在增强附着剂量阈以上时,界面之间有增强附着... 本文叙述了用能量为1—4MeV的Cl离子轰击有Au和Ag薄膜的天然白云母,使金属膜与白云母界面之间的附着力发生了变化。用胶带法测试了不同离子能量下的增强附着剂量阈D_(th)。入射Cl离子的剂量在增强附着剂量阈以上时,界面之间有增强附着力的存在,而在剂量阈以下,发现了附着力的减弱现象。金和白云母系统只测到了一个剂量阈;而银和白云母系统测出了两个剂量阈,用王水腐蚀白云母上的金属膜时,腐蚀时间随照射剂量的增加而延长。 展开更多
关键词 cl离子 辐照 金属膜 白云母 剂量阈
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