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榄香烯诱导肝癌腹水瘤细胞系Hca-F_(25)/CL-16A_3凋亡的实验研究 被引量:22
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作者 左云飞 魏巍 +4 位作者 张耀铮 唐永伟 鲁颖 张红 张立秋 《中药药理与临床》 CAS CSCD 1998年第2期20-22,共3页
研究了榄香烯诱导肝癌腹水瘤细胞系HcaF25/CL16A3凋亡的作用。结果表明:凋亡抑制基因bcl2在对照组呈高度表达,榄香烯作用后,可使强表达bcl2细胞数显著减少(P<0.01);DNA凝胶电泳结果表明榄... 研究了榄香烯诱导肝癌腹水瘤细胞系HcaF25/CL16A3凋亡的作用。结果表明:凋亡抑制基因bcl2在对照组呈高度表达,榄香烯作用后,可使强表达bcl2细胞数显著减少(P<0.01);DNA凝胶电泳结果表明榄香烯可使HcaF25/CL16A3DNA出现凋亡特征(呈慧星状或梯形条带)。提示榄香烯可能通过使DNA断裂及抑制bcl2表达而诱导该细胞株凋亡,榄香烯诱导细胞凋亡可能是其抗肿瘤作用机制的重要方面之一。 展开更多
关键词 榄香烯 细胞凋亡 bcl-2 免疫组化 肝癌腹水瘤细胞系HCA-F25/cl-16A3 抗肿瘤作用
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GaN蚀刻期间电感耦合Cl2/BCl3等离子体的特性
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作者 白雪 《等离子体应用技术快报》 2000年第12期19-21,共3页
关键词 氮化镓 含氯气体 激光二极管 GAN 蚀刻 电感耦合 cl2/bcl3 等离子体 特性
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含有大的吸电子取代基化合物GeR_2Cl_2(R=Ar,Ar′和Ar″)的合成、晶体结构与^(19)F NMR
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作者 薛宝玉 李文锋 +2 位作者 陈羽飞 樊燕鸽 Keith B.Dillon 《河南科学》 2012年第8期1029-1032,共4页
GeCl4与ArLi和Ar′Li(Ar″Li与Ar′Li 1∶1的混合物)反应生成化合物GeAr2Cl2,GeArCl3和GeAr″2Cl2,测定了GeAr2Cl2和GeAr″2Cl2的晶体结构,并进行了19F NMR表征.
关键词 大的吸电子基 ar=24 6-(CF3)3C6H2 ar′=2 6-(CF3)2C6H3 ar″=24 -(CF3)2C6H3 Gear2cl2 Gear2cl2 19F NMR
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THE STUDY OF ELEMENE OF INDUCTION APOPTOSIS ON ASCITES HEPATOMA CELL LINE Hca-F25/CL-16A3
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作者 左云飞 张耀铮 张红 《Chinese Journal of Cancer Research》 SCIE CAS CSCD 1998年第3期44-46,共3页
Objective: To investigate the effect of inducing apoptosis of Elemene on ascites hepatoma cell line Hca F25/cL 16A3. By using immunhistochemistry and DNA electrophoresis, the mechanism of Elemene antitumor was s... Objective: To investigate the effect of inducing apoptosis of Elemene on ascites hepatoma cell line Hca F25/cL 16A3. By using immunhistochemistry and DNA electrophoresis, the mechanism of Elemene antitumor was studied. Results: The results showed that the Elemene can inhibit expression of bcl 2 in ascites hepatoma cell line Hca F25/CL 16A3, and the Elemene also can make DNA fragmentation in this cell line in vitro and in vivo . Conclusion: The data suggest that Elemene can inhibit the growth of tumor by inducing apoptosis. 展开更多
关键词 APOPTOSIS bcl 2 Hca F25/cl 16A3 Immunohischemistry.
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Nonselective etching of GaN/AlGaN heterostructures by Cl2/Ar/BCl3 inductively coupled plasmas 被引量:6
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作者 HAN Yanjun XUE Song +5 位作者 WU Tong WU Zhen GUO Wenping LUO Yi HAO Zhibiao SUN Changzheng 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2004年第2期150-158,共9页
A systematic study of the nonselective and smooth etching of GaN/AIGaN het-erostructures was performed using C12/Ar/BCI3 inductively coupled plasmas (ICR).Nonselective etching can be realized by adjusting the BCI3 rat... A systematic study of the nonselective and smooth etching of GaN/AIGaN het-erostructures was performed using C12/Ar/BCI3 inductively coupled plasmas (ICR).Nonselective etching can be realized by adjusting the BCI3 ratio in the Cl2/Ar/BCI3 mixture (20%—60%), increasing the ICR power and dc bias, and decreasing the chamber pressure. Surface morphology of the etched heterostructures strongly depends on the gas chemistry and the chamber pressure. Specifically, with the addition of 20% BCI3 to Cl2/Ar (4:1) gas mixture, nonselective etching of GaN/Al0.28Ga0.72N heterostructures at high etch rate is maintained and the surface root-mean-square (rms) roughness is reduced from 10.622 to 0.495 nm, which is smoother than the as-grown sample. Auger electron spectroscopy (AES) analysis shows that the effective removal of residual oxygen from the surface of AIGaN during the etching process is crucial to the nonselective and smooth etching of GaN/AIGaN herterostructures at high etch rate. 展开更多
关键词 GAN Al0.28Ga0.72N ICP cl2/ar/bcl3 nonselective etching
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用于GaN基HEMT栅极金属TiN的ICP刻蚀工艺
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作者 高阳 周燕萍 +3 位作者 王鹤鸣 左超 上村隆一郎 杨秉君 《微纳电子技术》 CAS 2024年第3期136-143,共8页
GaN基高电子迁移率晶体管(HEMT)在射频(RF)通信及新能源汽车领域有着巨大的应用潜力。TiN材料因其良好的热稳定性、化学稳定性及工艺兼容性,可用作GaN基HEMT的栅极材料。采用ULVAC公司生产的NE-550型电感耦合等离子体(ICP)刻蚀设备对Ti... GaN基高电子迁移率晶体管(HEMT)在射频(RF)通信及新能源汽车领域有着巨大的应用潜力。TiN材料因其良好的热稳定性、化学稳定性及工艺兼容性,可用作GaN基HEMT的栅极材料。采用ULVAC公司生产的NE-550型电感耦合等离子体(ICP)刻蚀设备对TiN材料进行了干法刻蚀工艺的研究。采用光刻胶作为刻蚀掩膜,Cl_(2)和BCl_(3)混合气体作为工艺气体,通过调整工艺参数,研究了ICP源功率、射频(RF)偏压功率、腔体压力、气体体积流量以及载台温度对TiN刻蚀速率和侧壁角度的影响。最后通过优化工艺参数,得到了TiN刻蚀速率为333 nm/min,底部平整且侧壁角度为81°的栅极结构。 展开更多
关键词 氮化镓(GaN) 高电子迁移率晶体管(HEMT) 电感耦合等离子体(ICP)刻蚀 TIN cl2bcl3混合气体 栅极结构 新能源汽车
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基于BCl_3感应耦合等离子体的蓝宝石光滑表面刻蚀 被引量:1
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作者 薛小琳 韩彦军 +4 位作者 张贤鹏 江洋 马洪霞 刘中涛 罗毅 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第9期1078-1081,共4页
利用Ar/BCl3、Cl2/BCl3和SF6/BCl3感应耦合等离子体(ICP),研究了蓝宝石(Al2O3)材料的干法刻蚀特性。实验表明,优化BCl3含量(80%),可以提高对Al2O3衬底的刻蚀速率;在BCl3刻蚀气体中加入20%的Ar气可以在高刻蚀速率下同时获得优于未刻蚀Al... 利用Ar/BCl3、Cl2/BCl3和SF6/BCl3感应耦合等离子体(ICP),研究了蓝宝石(Al2O3)材料的干法刻蚀特性。实验表明,优化BCl3含量(80%),可以提高对Al2O3衬底的刻蚀速率;在BCl3刻蚀气体中加入20%的Ar气可以在高刻蚀速率下同时获得优于未刻蚀Al2O3衬底表面的光滑刻蚀表面和较好的刻蚀侧壁,原子力显微镜(AFM)分析得到最优刻蚀平整度为0.039nm,俄歇电子能谱(AES)分析其归一化Al/O原子比为0.94。 展开更多
关键词 蓝宝石(Al2O3) 感应耦合等离子体(ICP)刻蚀 ar/bcl3 表面平整度 刻蚀速率
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InGaAs探测器制备的ICP刻蚀方法研究
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作者 宁锦华 唐恒敬 +4 位作者 张可锋 李淘 李永富 李雪 龚海梅 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2009年第4期411-414,共4页
采用Cl2/BCl3/Ar感应耦合等离子体对InP/In0.55Ga0.45As/InP进行了刻蚀。讨论了不同的气体组分、ICP功率、直流自偏压下对刻蚀速率、表面粗糙度的影响。初步得到了一种稳定、刻蚀表面清洁光滑、图形轮廓良好、均匀性好和刻蚀速率较高的... 采用Cl2/BCl3/Ar感应耦合等离子体对InP/In0.55Ga0.45As/InP进行了刻蚀。讨论了不同的气体组分、ICP功率、直流自偏压下对刻蚀速率、表面粗糙度的影响。初步得到了一种稳定、刻蚀表面清洁光滑、图形轮廓良好、均匀性好和刻蚀速率较高的工艺。利用此工艺制作的8元InP/In0.55Ga0.45As/InP(PIN)探测器,峰值探测率为1.04×1012cmHz1/2W-1。 展开更多
关键词 感应耦合等离子体 cl2/bcl3/ar INGAAS PIN 探测器
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ICP刻蚀对光刻胶掩模及刻蚀图形侧壁的影响 被引量:4
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作者 李雅飞 李晓良 +3 位作者 马英杰 陈洁珺 徐飞 顾溢 《半导体光电》 CAS 北大核心 2018年第2期216-220,共5页
采用AZ1500光刻胶作为掩模对GaAs和InP进行ICP刻蚀,研究了刻蚀参数对光刻胶掩模及刻蚀图形侧壁的影响。结果表明,光刻胶的碳化变性与等离子体的轰击相关,压强、ICP功率和RF功率的增加以及Cl2比例的减小都会加速光刻胶的碳化变性,Cl2/Ar... 采用AZ1500光刻胶作为掩模对GaAs和InP进行ICP刻蚀,研究了刻蚀参数对光刻胶掩模及刻蚀图形侧壁的影响。结果表明,光刻胶的碳化变性与等离子体的轰击相关,压强、ICP功率和RF功率的增加以及Cl2比例的减小都会加速光刻胶的碳化变性,Cl2/Ar比Cl2/BCl3更易使光刻胶发生变性。对于GaAs样品刻蚀,刻蚀气体中Cl2含量越高,刻蚀图形侧壁的横向刻蚀越严重。Cl2/BCl3对GaAs的刻蚀速率比Cl2/Ar慢,但刻蚀后样品的表面粗糙度比Cl2/Ar小。刻蚀InP时的刻蚀速率比GaAs样品慢,且存在图形侧壁倾斜现象。该工作有助于推动在器件制备工艺中以光刻胶作为掩模进行ICP刻蚀,从而提高器件制备效率。 展开更多
关键词 ICP刻蚀 cl2/ar cl2/bcl3 光刻胶碳化变性 刻蚀图形侧壁
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刻蚀端面AlGaInAs/AlInAs激光器的制作与特性 被引量:1
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作者 王健 熊兵 +2 位作者 孙长征 郝智彪 罗毅 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第8期1031-1034,共4页
利用Cl2/BCl3/CH4电感应耦合等离子体(ICP)干法刻蚀技术,实现了对AlGaInAs,InP材料的非选择性刻蚀。AlGaInAs与InP的刻蚀速率分别为820nm/min与770nm/min,获得了刻蚀深度为4.9μm,垂直光滑的AlGaInAs/AlInAs激光器的刻蚀端面。在此基础... 利用Cl2/BCl3/CH4电感应耦合等离子体(ICP)干法刻蚀技术,实现了对AlGaInAs,InP材料的非选择性刻蚀。AlGaInAs与InP的刻蚀速率分别为820nm/min与770nm/min,获得了刻蚀深度为4.9μm,垂直光滑的AlGaInAs/AlInAs激光器的刻蚀端面。在此基础上制作出宽接触的刻蚀端面AlGaInAs/AlInAs激光器,实现了室温脉冲激射,其阈值电流和微分量子效率与传统的解理端面激光器基本相当。并通过刻蚀端面与解理端面激光器特性的比较(包括电流-电压、电流-输出光功率以及远场特性),分析了刻蚀端面的引入对激光器特性的影响。 展开更多
关键词 激光技术 刻蚀端面激光器 ALGAINAS cl2/bcl3/CH4 感应耦合等离子体
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感应耦合等离子体刻蚀InP/InGaAsP二维光子晶体结构的研究 被引量:7
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作者 马小涛 郑婉华 +2 位作者 任刚 樊中朝 陈良惠 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期977-981,共5页
为实现基于InP/InGaAsP材料的二维光子晶体结构低损伤、高各向异性的干法刻蚀,研究了对InP材料基于Cl2/BCl3气体的感应耦合等离子体刻蚀.从等离子体轰击使衬底升温的角度分析了刻蚀机理,发现离子轰击加热引起的侧蚀与物理溅射在侧壁再... 为实现基于InP/InGaAsP材料的二维光子晶体结构低损伤、高各向异性的干法刻蚀,研究了对InP材料基于Cl2/BCl3气体的感应耦合等离子体刻蚀.从等离子体轰击使衬底升温的角度分析了刻蚀机理,发现离子轰击加热引起的侧蚀与物理溅射在侧壁再沉积之间处于平衡时可以得到高各向异性刻蚀,平衡点将随ICP功率增高而向偏压减小方向移动,从而在近203V偏压下得到陡直的侧壁.在优化气体组分后,成功实现了光子晶体结构高各向异性的低偏压刻蚀. 展开更多
关键词 光子晶体 InP/InGaAsP 感应耦合等离子体 cl2/bcl3 低偏压刻蚀
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