Co/Pt多层膜的结构和饱和磁化强度

采用离子束溅射技术制备Co/Pt多层膜 ,用RBS、小角XRD和断面TEM研究了多层膜的周期性调制结构 ,用VSM研究了磁性层Co和顺磁性层Pt的厚度变化对饱和磁化强度的影响。结果表明 ,多层膜具有良好的周期性层状结构 ,和设计值一致。样品的饱和磁化强度 (Ms)随Co层厚度增加而增大 ,随Pt层的厚度增大而减小。当Co层和Pt层的厚度比一定时 ,样品的饱和磁化强度不受周期数的影响 ,符合Ms=Mcotco/D模型。

离子束溅射制备Co/Pt多层膜的结构和磁性

采用离子束溅射技术制备了Co／Pt多层膜，并研究了多层膜的结构和磁性随Co层厚度（tCo）或Pt层厚度（tPt）的变化关系。结果表明Co层呈现出hcp结构的（002）织构，Pt层表现出fcc结构的（111）织构。当Co层和Pt层都比较薄时，界面有Co-Pt的化合物形成。当tPt=2．4nm而tCo在0．6～2．4nm变化时，样品的磁矫顽力（Hc）随tCo增加而下降，饱和磁化强度（Ms）随tCo增加而增加。当tCo=1．2nm而tPt在1．2～4．8nm变化时，Hc呈现先升后降的变化，Ms随tPt增大而减小。样品的Hc还受调制周期（D）和周期数ny的影响，通过对Co层和Pt层的厚度比、调制周期、周期数的设计，可以获得较大的磁矫顽力。

离子束溅射制备Co/Pt多层膜的磁性研究

室温下采用ＶＳＭ测定了离子束溅射（ＩＢＳＤ）技术制备的Ｃｏ／Ｐｔ多层膜垂直方向的Ｍ－Ｈ回线。研究结果表明：Ｃｏ／Ｐｔ多层膜中单位体积Ｃｏ的饱和磁化强度ＭｓＣｏ小于块状Ｃｏ的饱和磁化强度；Ｃｏ／Ｐｔ多层膜的饱和磁化强度（Ｍｓ）与厚度有关：随Ｃｏ层厚度ｔＰｔ和多层膜总厚度ｔｆ的增加而增大，随Ｐｔ层厚度ｔｐｔ的增加而减小；外推结果表明当ｔＣｏ小于一个原子层厚（≈０２５ｎｍ）时，室温下Ｃｏ／Ｐｔ多层膜的饱和磁化强度为零。