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Co/Ti/Si三元固相反应形成自对准TiN/CoSi_2复合薄膜 被引量:2
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作者 刘平 李炳宗 +4 位作者 顾志光 孙臻 黄维宁 姜国宝 卢煊 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1993年第7期434-438,T001,共6页
采用离子束溅射技术在Si片上先后连续淀积Ti膜和Co膜,对Co/Ti/Si三元体系固相反应特性进行了研究。在氮气氛下对Co/Ti/Si样品进行热处理,结果表明,样品薄层电阻及薄膜结构随热处理温度的升高发生显著变化。原来处于样品表面的Co穿过Ti膜... 采用离子束溅射技术在Si片上先后连续淀积Ti膜和Co膜,对Co/Ti/Si三元体系固相反应特性进行了研究。在氮气氛下对Co/Ti/Si样品进行热处理,结果表明,样品薄层电阻及薄膜结构随热处理温度的升高发生显著变化。原来处于样品表面的Co穿过Ti膜与Si发生反应在薄膜内部形成钴硅化合物,在薄膜表面Ti与气氛中的N结合形成TiN。实验在有SiO_2图形的Si片上溅射Co/Ti,通过两步退火和选择腐蚀可在硅区域表面获得线条整齐的自对准TiN/CoSi_2复合薄膜。 展开更多
关键词 co/ti/si 复合薄膜 自对准工艺
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Co/a-GeSi/Ti/Si多层薄膜固相反应外延生长CoSi_2薄膜
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作者 徐蓓蕾 屈新萍 +5 位作者 韩永召 茹国平 李炳宗 W.Y.Cheung S.P.Wong Paul K.Chu 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2003年第2期149-154,共6页
研究了在 Co/Ti/Si结构中加入非晶 Ge Si层对 Co Si2 /Si异质固相外延的影响 ,用离子束溅射方法在Si衬底上制备 Co/Ge Si/Ti/Si结构多层薄膜 ,通过快速热退火使多层薄膜发生固相反应。采用四探针电阻仪、AES、XRD、RBS等方法进行测试。... 研究了在 Co/Ti/Si结构中加入非晶 Ge Si层对 Co Si2 /Si异质固相外延的影响 ,用离子束溅射方法在Si衬底上制备 Co/Ge Si/Ti/Si结构多层薄膜 ,通过快速热退火使多层薄膜发生固相反应。采用四探针电阻仪、AES、XRD、RBS等方法进行测试。实验表明 ,利用 Co/Ge Si/Ti/Si固相反应形成的 Co Si2 薄膜具有良好的外延特性和电学特性 ,Ti中间层和非晶 Ge Si中间层具有促进和改善 Co Si2 外延质量 ,减少衬底耗硅量的作用。Ge原子的存在能够改善外延 Co Si2 展开更多
关键词 金属硅化物 固相外延 扩散阻挡层 晶格失配 co/ti/si结构 钴钛硅化合物
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偏压对Ti-Si-N纳米复合膜结构和性能的影响
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作者 贺春林 王苓飞 +5 位作者 高建君 朱跃长 解磊鹏 李蕊 马国峰 王建明 《沈阳大学学报(自然科学版)》 CAS 2015年第4期259-262,共4页
以高纯Ti和Si为靶材,在不同偏压下于Ar/N2气氛中溅射沉积了Ti-Si-N纳米复合膜,采用原子力显微镜、X射线衍射(XRD)和划痕法研究了复合膜的结构、界面结合力和摩擦系数与偏压的关系.实验结果显示,溅射Ti-Si-N膜层结构为nc-TiN/a-Si3N4/a-... 以高纯Ti和Si为靶材,在不同偏压下于Ar/N2气氛中溅射沉积了Ti-Si-N纳米复合膜,采用原子力显微镜、X射线衍射(XRD)和划痕法研究了复合膜的结构、界面结合力和摩擦系数与偏压的关系.实验结果显示,溅射Ti-Si-N膜层结构为nc-TiN/a-Si3N4/a-和nc-TiSi2复合结构.纳米复合膜的XRD谱图出现(200)、(111)、(220)和(222)面衍射峰,其中的择优取向为(200)面.在偏压为-150V时,薄膜XRD谱图中出现TiSi2(311)面衍射峰.发现适当施加负偏压,有利于获得细小、均匀、致密和平整的Ti-Si-N纳米复合膜.在偏压为-120V时沉积的复合膜组织和性能最好,其表面粗糙度为3.26nm,界面结合强度为53N,平均摩擦系数为0.11.说明偏压对磁控溅射Ti-Si-N纳米复合膜的微结构和性能有明显影响. 展开更多
关键词 ti-si-N 磁控共溅射 纳米复合薄膜 微结构 偏压 性能
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Si-Al-Y Co-deposition Coatings Prepared on Ti-Al Alloy for Enhanced High Temperature Oxidation Resistance 被引量:5
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作者 李涌泉 XIE Faqin LI Xuan 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2018年第4期959-966,共8页
Si-Al-Y co-deposition coatings were prepared on Ti-Al alloy by pack cementation processes at 1 050 ℃ for 4 h with different halide activators in the packs for enhancing the high temperature oxidation resistance of Ti... Si-Al-Y co-deposition coatings were prepared on Ti-Al alloy by pack cementation processes at 1 050 ℃ for 4 h with different halide activators in the packs for enhancing the high temperature oxidation resistance of Ti-Al alloy. The structure, constituent phases, formation process and oxidation behavior of the coatings were investigated. The experimental results showed that the coatings prepared respectively with NaF and NH_4Cl as activators were composed of a(Ti, X)_5Si_4,(Ti, X)_5Si_3(X represents Nb and Cr), and TiSi_2 outer layer, a TiAl_2 inner layer and an Al-rich interdiffusion zone. However, the constituent phases changed into TiSi_2 in the outer layer and(Ti, X)_5Si_4 and(Ti, X)_5Si_3 phases were observed in the middle layer of the coating prepared with AlCl_3·6H_2O activator. Among the halide activators studied, the coating prepared with AlCl_3·6H_2O was thicker and denser, which is the only suitable activator for pack Si-Al-Y co-deposition coatings on a Ti-Al alloy. The oxidation results show that the coating can protect the Ti-Al alloy from oxidation at 1000 ℃ in air for at least 80 h. The excellent oxidation resistance of the coating is attributed to the formation of a dense scale mainly consisted of TiO_2, SiO_2 and Al_2O_3. 展开更多
关键词 ti-Al alloy si-Al-Y co-deposition coating oxidation resistance equilibrium partialpressure
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Nb-Ti-Si基超高温合金表面Si-Al-Y共渗层的组织形成
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作者 张超峰 郭喜平 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第11期1209-1216,共8页
研究了包埋共渗温度和渗剂中Al含量对Nb-Ti-Si基超高温合金表面Si-Al-Y共渗层显微组织的影响.采用组成为10Si-10Al-3Y-5NaF-72Al2O3(wt%)的渗剂,分别在1050、1080和1150℃保温10h所制备的渗层具有相似的结构,由(Nb,X)Si2(X代表Ti,Cr和Hf... 研究了包埋共渗温度和渗剂中Al含量对Nb-Ti-Si基超高温合金表面Si-Al-Y共渗层显微组织的影响.采用组成为10Si-10Al-3Y-5NaF-72Al2O3(wt%)的渗剂,分别在1050、1080和1150℃保温10h所制备的渗层具有相似的结构,由(Nb,X)Si2(X代表Ti,Cr和Hf)外层、(Nb,X)5Si3中间层、(Cr,Al)2(Nb,X)和(Nb,X)Al3相构成的次内层及(Nb,X)2Al内层组成.在1050℃/10h所制备渗层的外层和中间层的组成相随渗剂中Al含量增加而变化,但次内层和内层的组成相不改变.当渗剂中Al含量为15wt%时,渗层外层仍为(Nb,X)Si2,但中间层却由(Nb,X)Al3和(Nb,X)5Si3两相组成;当渗剂中Al含量为20wt%时,渗层外层转变为由(Nb,X)Si2和(Nb,X)3Si5Al2两相组成.对1050℃/10h所制备的渗层(采用Al含量为15wt%的渗剂)进行1250℃/0.5h氧化,氧化膜厚度约为10μm,主要由Al2O3、TiO2和SiO2组成. 展开更多
关键词 Nb-ti-si尽合金 包埋共渗 si-Al-Y共渗层 氧化膜
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Al对Nb-Ti-Si基合金表面Si-Al-Y_2O_3共渗层的影响 被引量:9
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作者 张平 郭喜平 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第7期821-831,共11页
采用Si-Al-Y_2O_3包埋共渗工艺在Nb-Ti-Si基超高温合金表面制备Y改性的Si-Al共渗层,分析了渗剂中Al粉含量对渗层组织和相组成的影响,并研究了其在1250℃的抗氧化性能.结果表明:采用不同Al粉含量的渗剂在1050℃所制备的Si-Al-Y_2O_3共渗... 采用Si-Al-Y_2O_3包埋共渗工艺在Nb-Ti-Si基超高温合金表面制备Y改性的Si-Al共渗层,分析了渗剂中Al粉含量对渗层组织和相组成的影响,并研究了其在1250℃的抗氧化性能.结果表明:采用不同Al粉含量的渗剂在1050℃所制备的Si-Al-Y_2O_3共渗层均具有多层复合结构,且渗层的内层都是由Al_3(Nb,X)(X代表Ti,Cr和Hf)和(Cr,Al)_2(Nb,Ti)相组成;当渗剂中Al粉含量为10%(质量分数)时,渗层的外层以(Nb,X)Si_2相为主,中间层以(Nb,X)_5Si_3相为主;当渗剂中Al粉含量为15%时,渗层中间层由(Nb,X)_5Si_3及Al_3(Nb,X)两相组成,而外层组成相相对于渗剂中Al粉含量为10%时的未发生变化;当渗剂中Al粉含量为20%时,渗层的外层以(Nb,X)_3Si_5Al_2相为主,(Nb,X)Si_2相弥散分布其中,中间层则以Al_3(Nb,X)为基体相,(Nb,X)_5Si_3相弥散分布其中,并在其上部分布较少而下部较密集.Y在渗层中的分布不均匀,并且随着渗剂中Al粉含量的提高,渗层各层中的Y含量均增加.Si-Al-Y_2O_3共渗层的形成是一个在合金表面先沉积Al、后沉积Si的有序过程,其生长服从抛物线规律.在1250℃下氧化5 h后,渗层表面生成了致密的Al_2O_3膜. 展开更多
关键词 Nb-ti-si基超高温合金 si-Al-Y2O3共渗层 有序沉积 复合结构 抗氧化性能
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电感耦合等离子体原子发射光谱法同时测定不锈钢中的11种元素 被引量:8
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作者 崔彦红 滕巍 王艳玲 《化学分析计量》 CAS 2019年第6期48-51,共4页
建立电感耦合等离子体原子发射光谱法同时测定不锈钢中硅、锰、磷、铬、镍、钼、钴、钒、钛、铜、铝11种元素含量的方法。样品采用盐酸溶液溶解,硝酸氧化,在优化的实验条件下,用电感耦合等离子体原子发射光谱法测定各元素含量。磷的质... 建立电感耦合等离子体原子发射光谱法同时测定不锈钢中硅、锰、磷、铬、镍、钼、钴、钒、钛、铜、铝11种元素含量的方法。样品采用盐酸溶液溶解,硝酸氧化,在优化的实验条件下,用电感耦合等离子体原子发射光谱法测定各元素含量。磷的质量浓度在0~5 mg/L范围内,钛、铝、钴的质量浓度在0~10 mg/L范围内,钒的质量浓度在0~15 mg/L范围内,铜、硅、钼的质量浓度在0~20 mg/L范围内,锰的质量浓度在0~50 mg/L范围内,镍的质量浓度在0~80 mg/L范围内,铬的质量浓度在0~100 mg/L范围内与光谱强度呈良好的线性关系,相关系数均大于0.998,方法检出限为0.002~0.035 mg/L。测定结果的相对标准偏差均小于2%(n=6),加标回收率为97.9%~105.6%.该方法快速、准确,适用于实际生产中不锈钢样品的批量检测。 展开更多
关键词 电感耦合等离子体原子发射光谱法 不锈钢
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