氮气反应溅射制备软X射线Co/Ti多层膜

针对“水窗”波段（280～540 eV）对多层膜反射镜的应用需求,在Ti的L吸收边（452.5 eV）附近,优化设计了Co/Ti多层膜的膜系结构.计算了不同界面粗糙度条件下的反射率,结果显示,界面粗糙度对多层膜反射率有较大影响.采用直流磁控溅射方法在超光滑硅基片上制备了Co/Ti多层膜,通过将氮气引入原有的溅射气体氩气中作为反应气体,明显减小了制备的多层膜的界面粗糙度.利用X射线掠入射反射实验和透射电子显微镜测试了多层膜结构,并在北京同步辐射装置（BSRF）3W1B实验站测量了不同氮气浓度下多层膜的反射率.结果显示,氮气含量为5％的溅射气体制备的多层膜样品反射率最高,即将纯氩气溅射制备得到的反射率9.5％提高到了12.0％.得到的结果表明,将氮气加入反应溅射气体可以有效改善Co/Ti多层膜的性能.

Co／Ti非晶多层膜晶化过程中结构及磁性的变化

利用双对向靶溅射方法在室温下制备Ｃｏ／Ｔｉ非晶多层膜，并采用原位退火透射电镜和原位热重法，观测了Ｃｏ／Ｔｉ多层膜结构与磁性随温度的变化，结果表明：退火温度ｔａ为４００℃时，薄膜开始晶化，Ｃｏ，Ｔｉ颗粒析出并粗化；ｔａ＞６００℃时，具有铁磁性的Ｃｏ单质完全消失，全部转化为Ｃｏ２Ｔｉ相．热磁测量在３９０及５２０℃附近出现了两个明显的磁性转变峰，与薄膜结构变化对应．适当温度（４００—５２０℃）的退火可获得高饱和磁化强度的Ｃｏ－Ｔｉ颗粒膜．