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Nb和Co掺杂对PZT铁电薄膜电性能的影响
1
作者
刘国营
柳擎
罗时军
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第8期33-35,共3页
用sol—gel法在ITO玻璃衬底上制备了不同比例Nb和Co掺杂的PZT铁电薄膜,薄膜呈以(101)为首要方向的多晶结构。结果表明,Co掺杂的PZT薄膜的剩余极化强度、矫顽场强、相对介电常数和漏电流密度均大于PZT薄膜的相应值,但在掺杂x(Nb)...
用sol—gel法在ITO玻璃衬底上制备了不同比例Nb和Co掺杂的PZT铁电薄膜,薄膜呈以(101)为首要方向的多晶结构。结果表明,Co掺杂的PZT薄膜的剩余极化强度、矫顽场强、相对介电常数和漏电流密度均大于PZT薄膜的相应值,但在掺杂x(Nb)为1%-10%内漏电流密度随着Nb掺杂比例的增加而减小,薄膜的剩余极化强度和相对介电常数也有所减小。
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关键词
无机非金属材料
co和nb掺杂
PZT铁电薄膜
SOL-GEL法
电学性质
下载PDF
职称材料
Nb和Co掺杂对PZT铁电薄膜电性能的影响
被引量:
1
2
作者
刘国营
柳擎
《重庆工学院学报》
2006年第8期57-59,共3页
用Sol-Gel法在ITO玻璃衬底上制备了不同比例Nb和Co掺杂的PZT铁电薄膜,薄膜呈以(1 0 1)为首要方向的多晶结构.测试结果表明:Co掺杂的PZT薄膜的剩余极化、矫顽场、介电常数和漏电流密度均大于PZT薄膜的相应值,但在1 mol%到10 mol%Nb掺杂...
用Sol-Gel法在ITO玻璃衬底上制备了不同比例Nb和Co掺杂的PZT铁电薄膜,薄膜呈以(1 0 1)为首要方向的多晶结构.测试结果表明:Co掺杂的PZT薄膜的剩余极化、矫顽场、介电常数和漏电流密度均大于PZT薄膜的相应值,但在1 mol%到10 mol%Nb掺杂范围内漏电流密度随着Nb掺杂比例的增加而减小,薄膜的剩余极化强度和介电常数也有所减小.
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关键词
co和nb掺杂
PZT
铁电薄膜
Sol-Cel法
电学性质
下载PDF
职称材料
题名
Nb和Co掺杂对PZT铁电薄膜电性能的影响
1
作者
刘国营
柳擎
罗时军
机构
湖北汽车工业学院理学部
华中科技大学物理系
出处
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第8期33-35,共3页
基金
国家自然科学基金资助项目(10447108)
文摘
用sol—gel法在ITO玻璃衬底上制备了不同比例Nb和Co掺杂的PZT铁电薄膜,薄膜呈以(101)为首要方向的多晶结构。结果表明,Co掺杂的PZT薄膜的剩余极化强度、矫顽场强、相对介电常数和漏电流密度均大于PZT薄膜的相应值,但在掺杂x(Nb)为1%-10%内漏电流密度随着Nb掺杂比例的增加而减小,薄膜的剩余极化强度和相对介电常数也有所减小。
关键词
无机非金属材料
co和nb掺杂
PZT铁电薄膜
SOL-GEL法
电学性质
Keywords
inorganic non-metallic materials
Co and
nb
codoping
PZT ferroelectric thin film
sol-gel process
electrical properties
分类号
TM28 [一般工业技术—材料科学与工程]
下载PDF
职称材料
题名
Nb和Co掺杂对PZT铁电薄膜电性能的影响
被引量:
1
2
作者
刘国营
柳擎
机构
湖北汽车工业学院理学部
华中科技大学物理系
出处
《重庆工学院学报》
2006年第8期57-59,共3页
基金
国家自然科学基金资助项目(10447108)
文摘
用Sol-Gel法在ITO玻璃衬底上制备了不同比例Nb和Co掺杂的PZT铁电薄膜,薄膜呈以(1 0 1)为首要方向的多晶结构.测试结果表明:Co掺杂的PZT薄膜的剩余极化、矫顽场、介电常数和漏电流密度均大于PZT薄膜的相应值,但在1 mol%到10 mol%Nb掺杂范围内漏电流密度随着Nb掺杂比例的增加而减小,薄膜的剩余极化强度和介电常数也有所减小.
关键词
co和nb掺杂
PZT
铁电薄膜
Sol-Cel法
电学性质
Keywords
Co-and-
nb
-doped PZT
ferroelectric thin film
sol-gel process
electrical properties
分类号
TB303 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
Nb和Co掺杂对PZT铁电薄膜电性能的影响
刘国营
柳擎
罗时军
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
北大核心
2006
0
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职称材料
2
Nb和Co掺杂对PZT铁电薄膜电性能的影响
刘国营
柳擎
《重庆工学院学报》
2006
1
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职称材料
已选择
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参考文献
引证文献
统计分析
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