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Co掺杂非晶C薄膜的低温磁输运特性及磁性能研究(英文)
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作者 唐瑞鹤 刘伟 +5 位作者 张政军 于荣海 刘晓芳 杨白 水口将辉 高梨弘毅 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第11期1887-1890,共4页
采用磁控共溅射方法在n型Si(100)基片上制备了一系列具有不同Co含量(x,at%)的Co掺杂非晶C颗粒薄膜,溅射温度为室温。研究了Co-C颗粒薄膜的微结构,磁输运特性及磁性能。通过优化Co含量,在低温下发现了较大的负磁电阻(MR)。温度为2K、磁场... 采用磁控共溅射方法在n型Si(100)基片上制备了一系列具有不同Co含量(x,at%)的Co掺杂非晶C颗粒薄膜,溅射温度为室温。研究了Co-C颗粒薄膜的微结构,磁输运特性及磁性能。通过优化Co含量,在低温下发现了较大的负磁电阻(MR)。温度为2K、磁场为90×79.6kA.m-1时,Co含量为6.4at%的Co-C薄膜的负磁电阻值最大,达到27.6%。随着Co含量从6.4at%增加至16.4at%,MR值从27.6%逐渐减小至2.2%。电阻率??随温度T的变化曲线显示了线性的ln?-T-1/2关系,说明样品中电子传导遵循隧穿输运机制。 展开更多
关键词 co掺杂非晶c薄膜 磁控共溅射 磁输运 磁性能
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