化学镀Co-P薄膜的磁性及研究

采用化学镀法制备了Co-P磁记录薄膜。当薄膜厚度为0.3μm时,矫顽力可达4.54×104A/m,剩余磁化强度为0.068T。X射线衍射分析表明,当Co-P薄膜较薄时,薄膜结构中无明显择优取向,晶粒较小,此时矫顽力较高;当厚度增加至3-4μm以上时,结构中择优取向明显,晶粒较大,此时薄膜的矫顽力较低。将其应用于磁旋转编码器的磁鼓记录介质,制成直径Φ40mm的磁鼓,当原始充磁磁极对数为512时,脉冲计数完整,输出信号强,波形稳定。

化学镀Co-P和Co-Mo-P薄膜的结构与耐腐蚀性能

采用化学镀技术制备Co-Mo-P薄膜,并制备Co-P薄膜作为对照。采用扫描电镜、X射线衍射仪和电化学工作站对薄膜的表面形貌、相结构和耐腐蚀性能进行表征与测试,结果表明:Co-P和Co-Mo-P薄膜表面形貌相似,且都呈现(210)晶面择优取向。与Co-P薄膜相比,Co-Mo-P薄膜的腐蚀电位正移约23 mV,腐蚀电流密度降低60.5%,电荷转移电阻提高236.8Ω·cm^(2)。Co-Mo-P薄膜表现出较好的耐腐蚀性能。

化学镀制备Co基合金薄膜及性能研究

为了探讨 Mo或 W元素掺杂对 Co-P合金薄膜结构和性能的影响机理,采用化学镀法分别制备 Co-Mo-P和 CoW-P 合金薄膜,研究其结构、物相组成、微观形貌、磁性能和耐腐蚀性能,并与 Co-P 合金薄膜进行比较。结果表明:Co-Mo-P 合金薄膜和 Co-W-P 合金薄膜都呈晶态结构,除单质 Co 相以外,还形成置换固溶体 CoMo 相、CoW 相。与Co-P 合金薄膜相比,Co-Mo-P 合金薄膜和 Co-W-P 合金薄膜的磁性能较好,耐腐蚀性能提高。W 原子进入 Co 晶格中形成置换固溶体 CoW,起到较好地促进结晶细化效果,使 Co-W-P 合金薄膜表面结构更紧凑致密,具有更强地阻碍畴壁移动和阻挡腐蚀介质侵蚀的能力,因此其磁性能和耐腐蚀性能更好。