电镀Co-W-Ti合金新工艺在模具中的应用

简述研究电镀Co-W-Ti三元合金的意义和理论依据,重点阐述电解液的组成、比例和电解工艺条件以及合金镀层的性能(如厚度、结晶状况、耐腐蚀性能);对电镀合金后进行低温氮碳共渗,提高渗层耐磨性能以及模具中的应用效果也作了扼要介绍。

钨酸钠浓度对Ni-Co-W-P合金镀层性能的影响

用扫描电镜、振动样品磁强计等实验手段研究了化学镀液中钨酸钠浓度对N i-T i合金丝表面化学镀N i-Co-W-P薄膜形貌及性能的影响。结果表明:镀膜的形貌、沉积速度、磁性能与钨酸钠浓度紧密相关,当浓度合适时,可以获得理想的性能。

w(Co)/w(Ni)对Ti(C,N)基金属陶瓷高温氧化和耐腐蚀性能的影响

采用粉末冶金法制备Ti(C,N)基金属陶瓷,研究粘结相Co与Ni的含量比对材料组织结构和性能的影响,并系统研究材料在高温环境和酸性水溶液中的氧化与腐蚀行为。结果表明,w(Co)/w(Ni)=1的金属陶瓷材料T3具有优异的综合力学性能,其抗弯强度与硬度(HRA)分别为1 749 MPa和93.8;随着Ni的添加,材料在H_2SO_4溶液中的耐腐蚀性能显著提高,其中的T3经120 h浸泡腐蚀后质量损失率为0.074 5%,粘结相和部分环形相的溶解为金属陶瓷在酸溶液中的主要腐蚀行为。随w(Co)/w(Ni)的值减小,材料阳极极化过程中不同钝化区出现融合,证明Ni含量增加可促进元素向粘结相中的固溶,T3材料具有优异的耐腐蚀性能,自腐蚀电流密度为3.356 6×10^(-7) A/cm2。表面积为2.5 cm2的Ti(C,N)基金属陶瓷,在900℃高温静态空气中氧化10 h后,质量增加量均小于1 mg,材料的氧化机理以粘结相优先氧化和富Ti、W固溶相的氧化腐蚀为主。

磁控溅射沉积W-Ti薄膜的结构与性能

采用复合靶磁控共溅射方法在p型(100)单晶硅衬底上制备了不同Ti含量的W-Ti薄膜,并与纯W和纯Ti薄膜作对比。采用XRD、SEM、AFM、显微硬度计和四探针电阻仪对薄膜的结构、成分及性能进行分析表征。结果表明,W-Ti薄膜呈细晶粒多晶结构,Ti含量较低时,W-Ti薄膜呈体心立方相结构,存在W基W(Ti)固溶体。Ti含量较高时,还出现hcp富Ti相。W-Ti薄膜的显微硬度随Ti含量的增加先增后减,而电阻率则随Ti含量的增加而增大。W-Ti薄膜显微硬度均高于纯Ti薄膜,电阻率则高于纯W而低于纯Ti薄膜。