化学沉积CoNiP薄膜的磁性及其在传感器中的应用研究

采用化学湿法沉积制备了Co-Ni-P磁性薄膜,研究了工艺条件对其磁性的影响,并对其作为磁旋转编码器磁鼓记录介质的记录特性进行了分析。研究结果表明,薄膜矫顽力和矩形比随施镀时间增加而下降。当施镀时间为3min时,Co-Ni-P薄膜矫顽力可达42506.4A/m,矩形比为0.55。X射线衍射及扫描电镜结果表明,随施镀时间增加,薄膜矫顽力下降,晶粒尺寸变大,并发生明显的择优取向。将化学沉积Co-Ni-P薄膜应用于磁旋转编码器的磁鼓记录介质,记录特性测试结果表明,输出信号良好,脉冲计数完整,波形良好,可完整写入2048对磁极。化学沉积Co-Ni-P磁性薄膜适合于高精度、高分辨率的磁旋转编码器的磁鼓记录材料。

诱导磁场对化学沉积Co-Ni-P薄膜磁性能的影响

采用化学湿法沉积技术制备了CoNiP磁性薄膜,研究了施镀过程中的诱导磁场对CoNiP薄膜磁性能和结构的影响。研究结果表明,随着施加诱导场强度的增加,CoNiP薄膜的矫顽力先增加,然后减小;当磁场强度为1300 Oe时,薄膜的矫顽力达到了751.7 Oe,比未施加磁场时提高了约28%。X射线衍射结果表明,Co-N-i P薄膜晶粒沿磁场方向生长,其c轴沿薄膜的轴向形成了很强的Co(002)织构。扫描电子显微镜表面形貌观察表明,随着磁场强度的增加,胞状颗粒逐渐增多,晶粒尺寸变小,颗粒之间结合紧密。诱导磁场对CoNiP薄膜的磁性能有良好的促进作用,这为进一步开发高性能的磁电传感器奠定了一定基础。