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基于PLC的等离子体干法刻蚀设备控制系统的设计
1
作者
杨硕
高峰
+1 位作者
李素华
钟立华
《工业控制计算机》
2015年第1期13-15,18,共4页
针对大型等离子体干法刻蚀生产设备的工艺特点,根据公司的生产实际需求,对原有损坏机台控制系统进行了重新改造设计。基于真空系统、工艺气体混合调节系统、射频微波放电系统、传动控制系统和终点检测系统等各子系统的控制难点及实现过...
针对大型等离子体干法刻蚀生产设备的工艺特点,根据公司的生产实际需求,对原有损坏机台控制系统进行了重新改造设计。基于真空系统、工艺气体混合调节系统、射频微波放电系统、传动控制系统和终点检测系统等各子系统的控制难点及实现过程,设计了以三菱Q06 PLC为核心和In Touch 10.0为上位机监控软件的等离子体干法刻蚀设备控制系统。在In Touch 10.0平台上,搭建了等离子体干法刻蚀系统的监控界面,通过上位机处理大量生产制程数据和归档重要配方参数,实现生产工艺流程各个环节的实时监控、设备工作运行状态的参数显示和系统的故障报警等功能。
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关键词
等离子体干法刻蚀(PIasma
Dry
Etching)
PLC(ProgrammabIe
LOGIC
controier
)
IPC(Industry
PersonaI
Computer)
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职称材料
题名
基于PLC的等离子体干法刻蚀设备控制系统的设计
1
作者
杨硕
高峰
李素华
钟立华
机构
上海交通大学自动化系
昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司
昆山国显光电有限公司
出处
《工业控制计算机》
2015年第1期13-15,18,共4页
文摘
针对大型等离子体干法刻蚀生产设备的工艺特点,根据公司的生产实际需求,对原有损坏机台控制系统进行了重新改造设计。基于真空系统、工艺气体混合调节系统、射频微波放电系统、传动控制系统和终点检测系统等各子系统的控制难点及实现过程,设计了以三菱Q06 PLC为核心和In Touch 10.0为上位机监控软件的等离子体干法刻蚀设备控制系统。在In Touch 10.0平台上,搭建了等离子体干法刻蚀系统的监控界面,通过上位机处理大量生产制程数据和归档重要配方参数,实现生产工艺流程各个环节的实时监控、设备工作运行状态的参数显示和系统的故障报警等功能。
关键词
等离子体干法刻蚀(PIasma
Dry
Etching)
PLC(ProgrammabIe
LOGIC
controier
)
IPC(Industry
PersonaI
Computer)
Keywords
PIasma Dry Etching
PLC(ProgrammabIe Logic ControI er)
IPC(Industry PersonaI Computer)
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于PLC的等离子体干法刻蚀设备控制系统的设计
杨硕
高峰
李素华
钟立华
《工业控制计算机》
2015
0
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