期刊文献+
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
基于PLC的等离子体干法刻蚀设备控制系统的设计
1
作者 杨硕 高峰 +1 位作者 李素华 钟立华 《工业控制计算机》 2015年第1期13-15,18,共4页
针对大型等离子体干法刻蚀生产设备的工艺特点,根据公司的生产实际需求,对原有损坏机台控制系统进行了重新改造设计。基于真空系统、工艺气体混合调节系统、射频微波放电系统、传动控制系统和终点检测系统等各子系统的控制难点及实现过... 针对大型等离子体干法刻蚀生产设备的工艺特点,根据公司的生产实际需求,对原有损坏机台控制系统进行了重新改造设计。基于真空系统、工艺气体混合调节系统、射频微波放电系统、传动控制系统和终点检测系统等各子系统的控制难点及实现过程,设计了以三菱Q06 PLC为核心和In Touch 10.0为上位机监控软件的等离子体干法刻蚀设备控制系统。在In Touch 10.0平台上,搭建了等离子体干法刻蚀系统的监控界面,通过上位机处理大量生产制程数据和归档重要配方参数,实现生产工艺流程各个环节的实时监控、设备工作运行状态的参数显示和系统的故障报警等功能。 展开更多
关键词 等离子体干法刻蚀(PIasma Dry Etching) PLC(ProgrammabIe LOGIC controier) IPC(Industry PersonaI Computer)
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部