六氰合铁酸铜钴薄膜修饰铂电极的电化学、XRD及XPS研究

采用循环伏安法在铂电极上电聚合了六氰合铁酸铜钴薄膜 ,并用电化学、XRD和XPS对该薄膜进行了表征 .研究表明此薄膜属于取代型的多核六氰合铁酸盐 ,由Cu2 + ,Co2 + 和Fe2 + 共同占据晶格格点 .通过改变Cu2 + ,Co2 +和Fe3 + 在沉积液中的比例可以改变聚合膜的性质 .随沉积液中Cu2 + 含量的增加 ,聚合膜中铜的含量相应增加而晶格常数则逐渐减小 ,但保持着面心立方的晶格对称性 .当沉积液中Cu2 + ∶Co2 + ∶Fe3 + =1∶1∶2时 ,得到的聚合膜具有比较典型的性质 ,该薄膜修饰的铂电极在pH 4～ 10之间均能保持着稳定的电化学响应 .其对一价阳离子的选择性顺序为K+ >Li+ >Na+ >NH4 + ,与单组分的六氰合铁酸铜和六氰合铁酸钴都存在着较大的差别 .XPS实验表明氧化态薄膜中铁元素以Fe (Ⅲ )存在 ,并且在X射线的照射下很快转化为Fe (Ⅱ ) .

乙二胺铜－铁氰复合修饰电极薄膜的电沉积和结构表征及电化学性质

乙二胺铜－铁氰复合修饰电极薄膜的电沉积和结构表征及电化学性质陈昌国，李海梅，黄宗卿（重庆大学化工学院重庆６３００４４）关键词：铜、乙二胺，铁氰，修饰电极，光谱普鲁士兰（ＰＢ）修饰电极因其独特的电致变色现象而倍受关注。在１９７８年以来的十余年间里已相继...