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Cr/Al双层纳米薄膜的力学性能测试及其仿真分析
1
作者
李春
杨平
尚帅华
《真空》
CAS
北大核心
2009年第6期63-66,共4页
采用纳米压痕仪测量Cr/Al双层纳米薄膜的力学性能,结合有限元仿真的手段对压痕测试进行模拟。通过实验测出了双层膜的弹性模量值和硬度值随着压深h的不同而表现出一定的变化规律,以及得出了溅射时由于核能粒子的轰击而形成的界面层的厚...
采用纳米压痕仪测量Cr/Al双层纳米薄膜的力学性能,结合有限元仿真的手段对压痕测试进行模拟。通过实验测出了双层膜的弹性模量值和硬度值随着压深h的不同而表现出一定的变化规律,以及得出了溅射时由于核能粒子的轰击而形成的界面层的厚度及其力学性能特征。有限元仿真是对纳米压痕实验的补充,找出了应力主要集中在压头附近的区域,并且发现了最大应力主要集中在双层膜的下层Al膜中,而非上层膜Cr膜中。
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关键词
cr/al双层纳米薄膜
纳米
压痕仪
力学性能
有限元
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职称材料
低温反应溅射沉积α-(Al,Cr)2O3膜
2
作者
邱万奇
王书林
+4 位作者
程奕天
刘仲武
钟喜春
焦东玲
周克崧
《材料研究学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018年第4期278-282,共5页
使用AlCr合金靶材在高功率脉冲磁控溅射系统中低温反应溅射沉积氧化物薄膜,并与使用纯Al靶反应溅射的薄膜对比。用纳米压痕仪测量薄膜的力学性能,使用扫描电镜(SEM)、掠入射X射线衍射(GIXRD)和能谱仪(EDS)等手段研究了沉积薄膜的表面形...
使用AlCr合金靶材在高功率脉冲磁控溅射系统中低温反应溅射沉积氧化物薄膜,并与使用纯Al靶反应溅射的薄膜对比。用纳米压痕仪测量薄膜的力学性能,使用扫描电镜(SEM)、掠入射X射线衍射(GIXRD)和能谱仪(EDS)等手段研究了沉积薄膜的表面形貌、相结构和元素组成。结果表明,反应溅射Al时靶表面火花放电严重且工艺不稳定,因此所沉积的薄膜表面粗糙、疏松,硬度低;而反应共溅射AlCr能抑制靶表面火花放电,沉积薄膜平整、致密且硬度高;在540℃和10%氧分压条件下,可沉积出以α-(Al,Cr)_2O_3为主的刚玉型结构氧化物薄膜。
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关键词
材料表面与界面
氧化物
薄膜
α-(
al
cr
)2O3
高功率脉冲磁控溅射
A1
cr
合金靶
纳米
压痕
原文传递
题名
Cr/Al双层纳米薄膜的力学性能测试及其仿真分析
1
作者
李春
杨平
尚帅华
机构
江苏大学机械工程学院微结构连接与材料实验室
出处
《真空》
CAS
北大核心
2009年第6期63-66,共4页
基金
广西自然科学基金资助项目(0339037)
江苏省青蓝工程中青年学术带头人基金资助项目
文摘
采用纳米压痕仪测量Cr/Al双层纳米薄膜的力学性能,结合有限元仿真的手段对压痕测试进行模拟。通过实验测出了双层膜的弹性模量值和硬度值随着压深h的不同而表现出一定的变化规律,以及得出了溅射时由于核能粒子的轰击而形成的界面层的厚度及其力学性能特征。有限元仿真是对纳米压痕实验的补充,找出了应力主要集中在压头附近的区域,并且发现了最大应力主要集中在双层膜的下层Al膜中,而非上层膜Cr膜中。
关键词
cr/al双层纳米薄膜
纳米
压痕仪
力学性能
有限元
Keywords
cr/
A1 bilayer nanofilm
nano-indenter
mechanic
al
properties
FEM
分类号
O344.3 [理学—固体力学]
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
题名
低温反应溅射沉积α-(Al,Cr)2O3膜
2
作者
邱万奇
王书林
程奕天
刘仲武
钟喜春
焦东玲
周克崧
机构
华南理工大学材料科学与工程学院
广东省科学院广东省新材料研究所
出处
《材料研究学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018年第4期278-282,共5页
基金
国家自然科学基金(51271079),广东省自然科学基金(2015A030313223)
文摘
使用AlCr合金靶材在高功率脉冲磁控溅射系统中低温反应溅射沉积氧化物薄膜,并与使用纯Al靶反应溅射的薄膜对比。用纳米压痕仪测量薄膜的力学性能,使用扫描电镜(SEM)、掠入射X射线衍射(GIXRD)和能谱仪(EDS)等手段研究了沉积薄膜的表面形貌、相结构和元素组成。结果表明,反应溅射Al时靶表面火花放电严重且工艺不稳定,因此所沉积的薄膜表面粗糙、疏松,硬度低;而反应共溅射AlCr能抑制靶表面火花放电,沉积薄膜平整、致密且硬度高;在540℃和10%氧分压条件下,可沉积出以α-(Al,Cr)_2O_3为主的刚玉型结构氧化物薄膜。
关键词
材料表面与界面
氧化物
薄膜
α-(
al
cr
)2O3
高功率脉冲磁控溅射
A1
cr
合金靶
纳米
压痕
Keywords
surface and interface in the materi
al
s
oxide films
α-(
al
cr
)2O3
high power pulsed magnetron sputtering
al
cr
al
loy target
nanoindentation
分类号
TG146 [金属学及工艺—金属材料]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
Cr/Al双层纳米薄膜的力学性能测试及其仿真分析
李春
杨平
尚帅华
《真空》
CAS
北大核心
2009
0
下载PDF
职称材料
2
低温反应溅射沉积α-(Al,Cr)2O3膜
邱万奇
王书林
程奕天
刘仲武
钟喜春
焦东玲
周克崧
《材料研究学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018
0
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