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闭合场非平衡磁控溅射镀Cr-C层的耐蚀性研究 被引量：1
1
作者 杨蓉 白力静 +2 位作者 冯联友 张璨 杜宝中 《腐蚀科学与防护技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第6期458-461,共4页
利用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在高速钢表面制备Cr-C镀层。采用电化学腐蚀法研究了Cr-C镀层、电镀Cr层及高速钢基体的腐蚀行为.结果表明,在1 mol/LNaCl、1 mol/LHCl及7.5 mol/LNaOH溶液中,闭合场非平衡磁控溅射离子镀制备的Cr-C... 利用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在高速钢表面制备Cr-C镀层。采用电化学腐蚀法研究了Cr-C镀层、电镀Cr层及高速钢基体的腐蚀行为.结果表明,在1 mol/LNaCl、1 mol/LHCl及7.5 mol/LNaOH溶液中,闭合场非平衡磁控溅射离子镀制备的Cr-C镀层的耐蚀性优于电镀Cr镀层,并且其Cr含量越高耐腐蚀性越好. 展开更多
关键词 磁控溅射离子镀 cr—c镀层 耐蚀性
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