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ZrYN层厚度对CrN/ZrYN纳米多层膜微观结构和力学性能的影响
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作者 沈嘉豪 王静静 +3 位作者 杨志明 岳建岭 李伟 马迅 《有色金属材料与工程》 CAS 2023年第5期53-59,74,共8页
采用磁控溅射技术在单晶Si基片上交替沉积CrN层、ZrYN层,制备不同厚度ZrYN层的CrN/ZrYN纳米多层膜。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、透射电子显微镜、纳米压痕仪表征纳米多层膜的微观结构和力学性能。结果表明:随着ZrYN层厚度的增大... 采用磁控溅射技术在单晶Si基片上交替沉积CrN层、ZrYN层,制备不同厚度ZrYN层的CrN/ZrYN纳米多层膜。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、透射电子显微镜、纳米压痕仪表征纳米多层膜的微观结构和力学性能。结果表明:随着ZrYN层厚度的增大,纳米多层膜中CrN相的结晶程度呈现出先上升后下降的趋势;纳米多层膜的硬度、弹性模量、韧性也呈现出先增大后减小的趋势;当ZrYN层厚度为0.9 nm时,纳米多层膜具有最高的硬度、弹性模量、韧性,分别为20.3 GPa、210.4 GPa、2.25 MPa·m^(1/2)。上述结果表明,随着ZrYN层厚度的增大,纳米多层膜出现由晶态向非晶态转变,在非晶态下,能够获得良好的综合力学性能。 展开更多
关键词 crn/ZrYN纳米多层膜 磁控溅射 硬度 韧性
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CrN硬质镀层对磨热固性塑料的摩擦学行为研究 被引量:6
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作者 冶艳 尚魁平 +3 位作者 鲍明东 徐雪波 葛培林 江利 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第1期27-29,36,共4页
采用封闭非平衡磁控溅射法制备了CrN硬质镀层,以热固性塑料PA66和ABS为其中一个摩擦副,在Pin-on-disc磨损试验机上测试了对磨CrN硬质镀层和M42高速钢时的摩擦系数。应用立体显微镜和扫描电子显微镜对摩擦副表面磨损轨迹的微观形貌及磨... 采用封闭非平衡磁控溅射法制备了CrN硬质镀层,以热固性塑料PA66和ABS为其中一个摩擦副,在Pin-on-disc磨损试验机上测试了对磨CrN硬质镀层和M42高速钢时的摩擦系数。应用立体显微镜和扫描电子显微镜对摩擦副表面磨损轨迹的微观形貌及磨屑进行了观察和分析。结果表明:CrN硬质薄膜与M42高速钢对磨PA66和ABS塑料时,CrN硬质薄膜的摩擦系数要比高速钢小,而且数值稳定;塑料直接与高速钢对磨的摩擦系数波动较大。 展开更多
关键词 crn硬质薄膜 热固性塑料 摩擦系数 磨损
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电弧离子镀CrN薄膜的镀覆工艺研究 被引量:3
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作者 刘明明 刘述丽 张轲 《沈阳师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2010年第3期407-411,共5页
随着氮分压增加,低分压时所产生的Cr和Cr2N的衍射峰减弱至消失,而CrN的衍射峰增强直至形成单相薄膜,薄膜表面的大颗粒密度、尺寸都减小,N2分压过大时薄膜表面的大颗粒又增加;随着脉冲偏压的施加,薄膜的表面变得均匀平整,大颗粒数量、尺... 随着氮分压增加,低分压时所产生的Cr和Cr2N的衍射峰减弱至消失,而CrN的衍射峰增强直至形成单相薄膜,薄膜表面的大颗粒密度、尺寸都减小,N2分压过大时薄膜表面的大颗粒又增加;随着脉冲偏压的施加,薄膜的表面变得均匀平整,大颗粒数量、尺寸明显减少,偏压过大时薄膜表面又有较大熔滴产生;抛光和喷砂均能降低薄膜表面大颗粒的形成。最后得到了电弧离子镀氮化铬涂层的最佳工艺。 展开更多
关键词 氮化铬硬质薄膜 电弧离子镀 相结构 表面形貌
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等离子体光谱发射监控下制备的CrN薄膜及其性能
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作者 冶艳 鲍明东 +1 位作者 尚魁平 葛培林 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2011年第22期123-125,129,共4页
采用非平衡磁控溅射法制备CrN薄膜,研究了OEM值对CrN薄膜的硬度、成分、相结构及微观组织结构的影响。结果表明:在OEM调控下,CrN薄膜主要生成单一的CrN相;CrN薄膜硬度较高;结合强度较好;CrN薄膜呈柱状生长,生长纹理清晰,表面孔隙较少,... 采用非平衡磁控溅射法制备CrN薄膜,研究了OEM值对CrN薄膜的硬度、成分、相结构及微观组织结构的影响。结果表明:在OEM调控下,CrN薄膜主要生成单一的CrN相;CrN薄膜硬度较高;结合强度较好;CrN薄膜呈柱状生长,生长纹理清晰,表面孔隙较少,致密度增加。 展开更多
关键词 crn薄膜 OEM 硬度
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脉冲电压对HPPMS制备CrN薄膜的组织结构与力学性能的影响 被引量:5
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作者 夏飞 张栋 +3 位作者 邹长伟 柯培玲 王启民 汪爱英 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第10期1035-1039,共5页
采用复合高功率脉冲磁控溅射技术在单晶Si片、高速钢和玻璃上制备CrN薄膜。分别研究了脉冲电压在500,600,700,750 V时对薄膜的组织结构和力学性能的影响。结果表明,随着脉冲电压的增加,靶材离化率增加,靶电流以及溅射原子离子数量级能... 采用复合高功率脉冲磁控溅射技术在单晶Si片、高速钢和玻璃上制备CrN薄膜。分别研究了脉冲电压在500,600,700,750 V时对薄膜的组织结构和力学性能的影响。结果表明,随着脉冲电压的增加,靶材离化率增加,靶电流以及溅射原子离子数量级能量均增大,使得沉积的薄膜组织结构更加致密,晶粒逐渐细化,表面更加光滑,硬度提高。高功率脉冲磁控溅射技术具备了磁控溅射技术制备的薄膜表面光滑优势,以及电弧离子镀高离化率特点,获得了结构性能优异的CrN薄膜。 展开更多
关键词 高功率脉冲磁控溅射 脉冲电压 crn薄膜 组织结构 硬度
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CrN系硬质膜的发展与应用 被引量:5
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作者 董文杰 张钧 +1 位作者 孙宇菲 彭立静 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2019年第12期129-134,共6页
针对现有的各种CrN系硬质膜的制备技术、晶体结构、硬度、耐磨性、耐蚀性等组织性能方面进行了详细的讨论和分析,指出了不同CrN系薄膜的性能及优缺点,并对未来CrN系硬质膜的发展进行了展望。
关键词 crn系硬质薄膜 硬度 耐磨性 抗氧化性 耐腐蚀性
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7A04铝合金表面制备Cr/CrN复合膜的研究
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作者 杨利 张桐 +3 位作者 陈东旭 王亚男 周艳文 宋宏宇 《辽宁科技大学学报》 CAS 2019年第3期161-167,185,共8页
利用等离子体增强非平衡磁控溅射技术,在7A04铝合金表面制备Cr/CrN的复合硬质薄膜。研究Ar、N2通量比(即FAr/FN2)和腔体压强对薄膜形貌、物相组成、膜-基结合力及硬度的影响。结果表明:利用磁控溅射技术可以在7A04铝合金表面制备出组织... 利用等离子体增强非平衡磁控溅射技术,在7A04铝合金表面制备Cr/CrN的复合硬质薄膜。研究Ar、N2通量比(即FAr/FN2)和腔体压强对薄膜形貌、物相组成、膜-基结合力及硬度的影响。结果表明:利用磁控溅射技术可以在7A04铝合金表面制备出组织致密均匀且与基体结合良好的Cr/CrN复合薄膜。随FAr/FN2增大,组织生长越来越致密,晶粒形状由柱状晶逐渐向等轴晶转变,膜与基体间的结合力逐渐增大,硬度开始增加然后减小。随着腔体压强的增加,组织生长逐渐疏松,晶粒尺寸逐渐增大,对膜与基体间结合力的影响不大。 展开更多
关键词 等离子体增强磁控溅射 Cr/crn复合膜 组织形貌 结合力 硬度
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Effect of Axial Magnetic Field on the Microstructure and Mechanical Properties of CrN Films Deposited by Arc Ion Plating 被引量:2
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作者 Yan-Hui Zhao Li Xu +3 位作者 Chao-Qian Guo Wen-Jin Yang Guo-Qiang Lin Bao-Hai Yu 《Acta Metallurgica Sinica(English Letters)》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第6期546-553,共8页
CrN films were deposited on the high-speed-steel substrates by arc ion plating. The effect of an axial magnetic field on the microstructure and mechanical properties was investigated. The chemical composition, microst... CrN films were deposited on the high-speed-steel substrates by arc ion plating. The effect of an axial magnetic field on the microstructure and mechanical properties was investigated. The chemical composition, microstructure, surface morphology, surface roughness, hardness and film/substrate adhesion of the film were characterized by X-ray photoelectron spectroscopy, X-ray diffraction, scanning electron microscope(SEM), surface morphology analyzer, Vickers microhardness test and scratch test. The results showed that the magnetic field puts much effect on the microstructure,chemical composition, hardness and film/substrate adhesion of the Cr N films. The N content increases and Cr content decreases when the magnetic flux density increases from 0 to 30 m T. All of the Cr N films were found to be substoichiometric. With an increase in the magnetic flux density, the film structures change in such way: Cr_2N →Cr_(2-N)+CrN→CrN+Cr_2N→CrN.The SEM results showed that the number of macroparticles(MPs) on the film surface is significantly reduced when the magnetic flux density increases to 10 mT or higher. The surface roughness decreases with the magnetic field, which is attributed to the fewer MPs and sputtered craters on the film surface. The hardness value increases from 2074 HV_(0.025) at 0 mT(without magnetic field) and reaches a maximum value of 2509 HV_(0.025) at 10 m T.The further increase in the magnetic flux density leads to a decrease in the film hardness. The critical load of film/substrate adhesion shows a monotonous increase with the increase in magnetic flux density. 展开更多
关键词 Magnetic field Arc ion plating crn films hardness Adhesion
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多弧离子镀CrN薄膜的制备与表征 被引量:5
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作者 胡佳帅 张平 +1 位作者 蔡志海 李程 《装甲兵工程学院学报》 2007年第3期78-81,共4页
应用多弧离子镀膜技术在65Mn钢基体上制备CrN薄膜,通过Nanohardness-tester、SEM、EDX和XRD测试分析了薄膜的硬度、厚度、成分结构和表面形貌。得到薄膜的最高硬度为24GPa,最大厚度为2.06μm。通过正交实验分析得到各因素对薄膜硬度... 应用多弧离子镀膜技术在65Mn钢基体上制备CrN薄膜,通过Nanohardness-tester、SEM、EDX和XRD测试分析了薄膜的硬度、厚度、成分结构和表面形貌。得到薄膜的最高硬度为24GPa,最大厚度为2.06μm。通过正交实验分析得到各因素对薄膜硬度影响程度的主次顺序是:偏压、氮气、氩气、弧流,对薄膜厚度影响程度的主次顺序是:弧流、氮气、偏压、氩气。 展开更多
关键词 多弧离子镀 crn薄膜 纳米硬度 正交实验
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