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Preparation,Characterization and Photothermal Study of PVA/Ti_(2)O_(3) Composite Films
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作者 尚蒙娅 HE Yanyan +3 位作者 YU Jianhui YAN Jiahui XIE Haodi 李金玲 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第3期658-663,共6页
In this work,flexible photothermal PVA/Ti_(2)O_(3) composite films with different amount(0 wt%,5 wt%,10 wt%,15 wt%)of Ti_(2)O_(3) particles modified by steric acid were prepared by a simple solution casting method.The... In this work,flexible photothermal PVA/Ti_(2)O_(3) composite films with different amount(0 wt%,5 wt%,10 wt%,15 wt%)of Ti_(2)O_(3) particles modified by steric acid were prepared by a simple solution casting method.The microstructures,XRD patterns,FTIR spectra,UV-Vis-NIR spectra thermo-conductivity,thermo-stability and photothermal effects of these composite films were all characterized.These results indicated that Ti_(2)O_(3) particles were well dispersed throughout the polyvinyl alcohol(PVA)matrix in the PVA/Ti_(2)O_(3) composite films.And Ti_(2)O_(3) particles could also effectively improve the photothermal properties of the composite films which exhibited high light absorption and generated a high temperature(about 57.4℃for film with 15 wt%Ti_(2)O_(3) amount)on the surface when it was irradiated by a simulated sunlight source(1 kW/m^(2)). 展开更多
关键词 Ti_(2)O_(3)particles solution casting method composite film photothermal conversion
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Thickness effect on solar-blind photoelectric properties of ultrathinβ-Ga_(2)O_(3)films prepared by atomic layer deposition 被引量:1
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作者 王少青 程妮妮 +6 位作者 王海安 贾一凡 陆芹 宁静 郝跃 刘祥泰 陈海峰 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第4期707-713,共7页
Theβ-Ga_(2)O_(3)films with different thicknesses are prepared by an atomic layer deposition system.The influence of film thickness on the crystal quality is obvious,indicating that the thicker films perform better cr... Theβ-Ga_(2)O_(3)films with different thicknesses are prepared by an atomic layer deposition system.The influence of film thickness on the crystal quality is obvious,indicating that the thicker films perform better crystal quality,which is verified from x-ray diffraction(XRD)and scanning electron microscope(SEM)results.The Ga_(2)O_(3)-based solar blind photodetectors with different thicknesses are fabricated and studied.The experimental results show that the responsivity of the photodetectors increases exponentially with the increase of the film thickness.The photodetectors with inter-fingered structure based on 900 growth cyclesβ-Ga_(2)O_(3)active layers(corresponding film thickness of 58 nm)exhibit the best performances including a low dark current of 134 fA,photo-to-dark current ratio of 1.5×10^(7),photoresponsivity of 1.56 A/W,detectivity of 2.77×10^(14)Jones,and external quantum efficiency of 764.49%at a bias voltage of 10 V under 254-nm DUV illumination.The photoresponse rejection ratio(R_(254)/R_(365))is up to 1.86×10^(5).In addition,we find that the photoelectric characteristics also depend on the finger spacing of the MSM structure.As the finger spacing decreases from 50μm to10μW,the photoresponsivity,detectivity,and external quantum efficiency increase significantly. 展开更多
关键词 β-Ga_(2)O_(3) film thickness solar blind photodetectors photoelectric response
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Optical and electrical properties of BaSnO_(3) and In_2O_(3) mixed transparent conductive films deposited by filtered cathodic vacuum arc technique at room temperature
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作者 姚建可 钟文森 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第1期559-562,共4页
For the crystalline temperature of BaSnO_(3)(BTO)was above 650℃,the transparent conductive BTO-based films were always deposited above this temperature on epitaxy substrates by pulsed laser deposition or molecular be... For the crystalline temperature of BaSnO_(3)(BTO)was above 650℃,the transparent conductive BTO-based films were always deposited above this temperature on epitaxy substrates by pulsed laser deposition or molecular beam epitaxy till now which limited there application in low temperature device process.In the article,the microstructure,optical and electrical of BTO and In_(2)O_(3) mixed transparent conductive BaInSnO_(x)(BITO)film deposited by filtered cathodic vacuum arc technique(FCVA)on glass substrate at room temperature were firstly reported.The BITO film with thickness of 300 nm had mainly In_(2)O_(3) polycrystalline phase,and minor polycrystalline BTO phase with(001),(011),(111),(002),(222)crystal faces which were first deposited at room temperature on amorphous glass.The transmittance was 70%–80%in the visible light region with linear refractive index of 1.94 and extinction coefficient of 0.004 at 550-nm wavelength.The basic optical properties included the real and imaginary parts,high frequency dielectric constants,the absorption coefficient,the Urbach energy,the indirect and direct band gaps,the oscillator and dispersion energies,the static refractive index and dielectric constant,the average oscillator wavelength,oscillator length strength,the linear and the third-order nonlinear optical susceptibilities,and the nonlinear refractive index were all calculated.The film was the n-type conductor with sheet resistance of 704.7Ω/□,resistivity of 0.02Ω⋅cm,mobility of 18.9 cm2/V⋅s,and carrier electron concentration of 1.6×10^(19) cm^(−3) at room temperature.The results suggested that the BITO film deposited by FCVA had potential application in transparent conductive films-based low temperature device process. 展开更多
关键词 BaSnO_(3)and In_2O_(3)mixed film filtered cathodic vacuum arc deposition transparent conductive films microstructure optical properties electrical properties
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天然红宝石结构的原位漫反射中红外光谱研究 被引量:2
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作者 于宏伟 柴嘉欣 +3 位作者 吉一帆 宗雪晴 张泽旺 吴雨靓 《玻璃搪瓷与眼镜》 CAS 2024年第4期10-14,共5页
利用原位漫反射中红外光谱研究天然红宝石的结构,发现红宝石结构的红外吸收模式主要包括:α-Al_(2)O_(3)分子中O^(2-)对静止Al^(3+)位移对应的红外吸收模式(ν_(α-Al_(2)O_(3)-O-Al))、Cr_(2)O_(3)分子中O^(2−)对静止Cr^(3+)位移对应... 利用原位漫反射中红外光谱研究天然红宝石的结构,发现红宝石结构的红外吸收模式主要包括:α-Al_(2)O_(3)分子中O^(2-)对静止Al^(3+)位移对应的红外吸收模式(ν_(α-Al_(2)O_(3)-O-Al))、Cr_(2)O_(3)分子中O^(2−)对静止Cr^(3+)位移对应的红外吸收模式(ν_(Cr_(2)O_(3)-O-Cr))、Fe_(2)O_(3)分子中O_(2)−对静止Fe3+位移对应的红外吸收模式(ν_(Fe_(2)O_(3)-O-Fe))、α-Al_(2)O_(3)分子中Al^(3+)之间位移对应的红外吸收模式(ν_(α-Al_(2)O_(3)-Al-Al))及锌尖晶石特征红外吸收模式(νZnAl_(2)O4);红宝石的主要结构包括:α-Al_(2)O_(3)、Cr_(2)O_(3)、Fe_(2)O_(3)及少量共生锌尖晶石。采用原位漫反射中红外光谱,研究小颗粒红宝石类矿物结构具有重要的应用价值。 展开更多
关键词 红宝石 原位漫反射 红外光谱 α-Al_(2)O_(3) Cr_(2)O_(3) Fe_(2)O_(3) 锌尖晶石
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纳米Cr_(2)O_(3)对铝合金微弧氧化膜组织和性能的影响
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作者 方琴 陈庚 +4 位作者 曾舟 李京筱 白莹莹 苗景国 王正云 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 北大核心 2024年第4期77-84,共8页
在恒流模式下对7050铝合金开展微弧氧化试验。用SEM、EDS、XRD、膜层测厚仪、维氏硬度计、电化学工作站和磨损试验机等研究了不同纳米Cr_(2)O_(3)含量对7050铝合金微弧氧化陶瓷膜组织和性能的影响。结果表明:添加纳米Cr_(2)O_(3)能减小... 在恒流模式下对7050铝合金开展微弧氧化试验。用SEM、EDS、XRD、膜层测厚仪、维氏硬度计、电化学工作站和磨损试验机等研究了不同纳米Cr_(2)O_(3)含量对7050铝合金微弧氧化陶瓷膜组织和性能的影响。结果表明:添加纳米Cr_(2)O_(3)能减小陶瓷膜孔径,提升致密度,优化陶瓷膜结构;当纳米Cr_(2)O_(3)由1 g/L增至5 g/L时,陶瓷膜的厚度、硬度均先增后减;与未添加相比,添加纳米Cr_(2)O_(3)的陶瓷膜的耐蚀性和耐磨性均明显提升;陶瓷膜主要由γ-Al_(2)O_(3)相和少量的α-Al_(2)O_(3)相、莫来石相、Cr_(2)O_(3)相构成;总体来看,当纳米Cr_(2)O_(3)为3 g/L时,陶瓷膜的性能最优,厚度、显微硬度、自腐蚀电流和磨耗比分别为30.98μm、1273HV0.1、5.162×10^(-8)A/cm^(2)、0.0913%。 展开更多
关键词 微弧氧化 7050铝合金 陶瓷膜 Cr_(2)O_(3)
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Al_(2)O_(3)-Ce_(2)O_(3)复合薄膜对304不锈钢抗高温氧化性能的影响
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作者 马静 王铁凝 +3 位作者 姜秋月 冯志浩 张欣 李建辉 《材料保护》 CAS CSCD 2024年第10期19-26,共8页
为提高304不锈钢的抗高温氧化性能,采用溶胶-凝胶法以异丙醇铝和CeCl_3·7H_(2)O为原料,在304不锈钢表面分别制备了Al_(2)O_(3)薄膜和Al_(2)O_(3)-Ce_(2)O_(3)复合薄膜,通过氧化动力学曲线、XRD、SEM和EDS分析,研究了不同Ce/Al比例... 为提高304不锈钢的抗高温氧化性能,采用溶胶-凝胶法以异丙醇铝和CeCl_3·7H_(2)O为原料,在304不锈钢表面分别制备了Al_(2)O_(3)薄膜和Al_(2)O_(3)-Ce_(2)O_(3)复合薄膜,通过氧化动力学曲线、XRD、SEM和EDS分析,研究了不同Ce/Al比例(摩尔比,下同)的Al_(2)O_(3)-Ce_(2)O_(3)复合薄膜对304不锈钢900℃抗高温氧化性能的影响。结果表明,涂覆Ce∶Al=1∶10的薄膜试样在900℃循环氧化100 h后的氧化增重与氧化剥落量仅为未涂覆试样的34.1%和51.8%,抗高温氧化性能最佳。Al_(2)O_(3)-Ce_(2)O_(3)复合薄膜降低了304不锈钢基体表面的氧分压,有利于生成保护性的Cr_2O_(3)氧化层,有效抑制了Cr_2O_(3)的挥发;添加Ce_(2)O_(3)降低了氧化层中的热应力,提高了其附着力;Ce_(2)O_(3)起到了活性元素效应,改变了氧化膜的生长机制,因此显著提高了不锈钢的抗高温氧化性能。 展开更多
关键词 溶胶-凝胶法 Al_(2)O_(3)-Ce_(2)O_(3)复合薄膜 高温氧化 活性元素效应
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Cr_(2)O_(3)添加量对SrAl_(12)O_(19)-Al_(2)O_(3)-ZrO_(2)复相陶瓷力学性能和微观结构影响
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作者 江书豪 杨金萍 +4 位作者 孙怡 马腾 毛君妍 章健 王士维 《陶瓷学报》 CAS 北大核心 2024年第4期720-728,共9页
以3Y-TZP、α-Al_(2)O_(3)、Sr(NO3)2为基础原料,掺杂了不同含量的Cr(NO_(3))_(3)·9H_(2)O,通过无压预烧和热等静压烧结结合的方式制备了SrO和Cr_(2)O_(3)共掺杂的ZTA复相陶瓷。研究了Cr_(2)O_(3)添加量对SrAl_(12)O_(19)-Al_(2)O_... 以3Y-TZP、α-Al_(2)O_(3)、Sr(NO3)2为基础原料,掺杂了不同含量的Cr(NO_(3))_(3)·9H_(2)O,通过无压预烧和热等静压烧结结合的方式制备了SrO和Cr_(2)O_(3)共掺杂的ZTA复相陶瓷。研究了Cr_(2)O_(3)添加量对SrAl_(12)O_(19)-Al_(2)O_(3)-ZrO_(2)复相陶瓷微观结构和力学性能的影响。XRD衍射谱显示,随着Cr_(2)O_(3)添加量的增多,α-Al_(2)O_(3)和SrAl_(12)O_(19)的衍射峰向左偏移,晶胞参数逐渐增大。结合EDS分析推测,Cr_(2)O_(3)更偏向于进入SrAl_(12)O_(19)的晶格。微观结构显示,Cr_(2)O_(3)的加入促进了晶粒生长。随着Cr_(2)O_(3)添加量的增多,断裂韧性和抗弯强度先上升后下降。当Cr_(2)O_(3)掺杂量为0.50 wt.%时力学性能最佳,其显微硬度、断裂韧性和抗弯强度分别为18.45 GPa、6.9 MPa·m^(1/2)和910 MPa。 展开更多
关键词 Cr_(2)O_(3) ZTA复相陶瓷 SrAl_(12)O_(19) 原位增韧 力学性能
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Cr-MIL-101介导的纳米Cr_(2)O_(3)高效催化正己烷脱氢反应研究
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作者 李修仪 申浩伟 +1 位作者 徐家乐 李春义 《燃料化学学报(中英文)》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第10期1506-1515,共10页
通过热解大比表面Cr-MIL-101制备纳米Cr_(2)O_(3)(n-Cr_(2)O_(3)),考察其催化正己烷脱氢反应性能,并比较与沉淀法p-Cr_(2)O_(3)-1、焙烧铬盐得到的p-Cr_(2)O_(3)-2以及工业Cr_(2)O_(3)/Al_(2)O_(3)催化正己烷脱氢活性差异。n-Cr_(2)O_(3... 通过热解大比表面Cr-MIL-101制备纳米Cr_(2)O_(3)(n-Cr_(2)O_(3)),考察其催化正己烷脱氢反应性能,并比较与沉淀法p-Cr_(2)O_(3)-1、焙烧铬盐得到的p-Cr_(2)O_(3)-2以及工业Cr_(2)O_(3)/Al_(2)O_(3)催化正己烷脱氢活性差异。n-Cr_(2)O_(3)能够催化正己烷高效脱氢为己烯和苯,并且其催化脱氢活性与焙烧温度有关。600℃焙烧的n-Cr_(2)O_(3)催化正己烷脱氢转化率最高40.6%,对产物己烯和苯的选择性分别为20.1%和69.3%。提高焙烧温度,n-Cr_(2)O_(3)催化正己烷脱氢活性下降但稳定性增强,催化剂积炭量减少。p-Cr_(2)O_(3)-1和p-Cr_(2)O_(3)-2催化正己烷脱氢转化率很低(<7.5%),比活性分别为1.5和1.7 g/(m^(2)·h),低于n-Cr_(2)O_(3)-600的(2.0 g/(m^(2)·h))。通过BET、XRD、TEM和FT-IR等表征发现,n-Cr_(2)O_(3)为具有较大比表面的纳米颗粒(10−20 nm),多暴露晶面和脱氢活性位,而p-Cr_(2)O_(3)是比表面非常小的大颗粒,所暴露脱氢活性位少。相比之下,Cr_(2)O_(3)/Al_(2)O_(3)催化剂由于大比表面Al_(2)O_(3)的分散作用,催化正己烷脱氢效率更高(2.4 g/(m^(2)·h))。因此,由Cr-MIL-101焙烧得到的n-Cr_(2)O_(3)催化正己烷脱氢的高活性源于这种纳米Cr_(2)O_(3)所具有的独特性质:小颗粒,大比表面,多暴露活性位。 展开更多
关键词 正己烷 脱氢 己烯 纳米Cr_(2)O_(3)
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预氧化处理对MP35N合金高温氧化行为的影响
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作者 刘鲁 刘亚 +2 位作者 吴长军 吴昱锋 苏旭平 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第2期60-70,共11页
目的 探索并优化合金成分、工艺以获得致密稳定的预氧化膜,提高合金抗氧化能力。方法 利用非自耗真空电弧炉熔炼合金,在真空容器中加热金属及其氧化物粉末获得平衡氧压。通过莱茵装置进行预氧化实验。通过FactSage计算Co-Ni-Cr-Mo-Al-S... 目的 探索并优化合金成分、工艺以获得致密稳定的预氧化膜,提高合金抗氧化能力。方法 利用非自耗真空电弧炉熔炼合金,在真空容器中加热金属及其氧化物粉末获得平衡氧压。通过莱茵装置进行预氧化实验。通过FactSage计算Co-Ni-Cr-Mo-Al-Si体系的合金组织相图及其氧化相图,利用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜对预氧化的试样进行物相分析。结果 在1000℃、10^(–17)atm氧压下预氧化,未含Si的MP35N合金表面出现Cr_(2)O_(3)氧化物;随着Si添加量的增加,表面氧化物变为(Al,Cr)_(2)O_(3),以Cr_(2)O_(3)为主,内氧化物为Al_(2)O_(3);当Si含量(质量分数)为3%时,内部形成了近乎连续的带状Al_(2)O_(3)氧化膜。在1 000℃、10^(–25) atm氧压下,合金表面形成连续的Al_(2)O_(3)膜;在1 000℃、10^(–17) atm氧压下,Co-Ni-20Cr-10Mo-4Al-1Si合金预氧化后的外氧化膜为Cr_(2)O_(3),内氧化物为Al_(2)O_(3);随着氧压的提高,在空气气氛下合金表面生成尖晶石相氧化物。在1 000℃、10^(–17)atm氧压下预氧化1、5、10h,Co-Ni-20Cr-10Mo-4Al-1Si合金表面外氧化膜为Cr_(2)O_(3),内氧化物为Al_(2)O_(3),随着时间延长至20 h,合金表面形成连续的Al_(2)O_(3)膜。结论 随着Si添加量的增加,Al元素的活度不断升高,从而提高了Al_(2)O_(3)的形成驱动力,提升了Al元素的扩散系数,有更多的Al元素扩散至合金表层,有利于Al元素的选择性氧化。预氧化氧压的降低和氧化时间的延长,有利于保护性外氧化Al_(2)O_(3)膜形成,可有效提高合金的抗高温氧化性能。 展开更多
关键词 MP35N Co-Ni-20Cr合金 预氧化 Al_(2)O_(3)氧化膜 氧化机制 表面改性
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Cr_(2)O_(3)掺杂量对SnO_(2)压敏电阻微观结构和电气性能的影响
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作者 郝亚超 赵洪峰 谢清云 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2024年第1期74-78,共5页
以SnO_(2)粉、CuO粉、Nb_(2)O_(5)粉、Cr_(2)O_(3)粉为原料,采用粉末冶金技术烧结制备(98.95-x)SnO_(2)-1CuO-0.05Nb_(2)O_(5-x)Cr_(2)O_(3)(x=0,0.01,0.02,0.03,0.05,物质的量分数/%)压敏电阻,研究了Cr_(2)O_(3)掺杂量对该压敏电阻微... 以SnO_(2)粉、CuO粉、Nb_(2)O_(5)粉、Cr_(2)O_(3)粉为原料,采用粉末冶金技术烧结制备(98.95-x)SnO_(2)-1CuO-0.05Nb_(2)O_(5-x)Cr_(2)O_(3)(x=0,0.01,0.02,0.03,0.05,物质的量分数/%)压敏电阻,研究了Cr_(2)O_(3)掺杂量对该压敏电阻微观结构和电气性能的影响。结果表明:随着Cr_(2)O_(3)掺杂量的增加,烧结试样的相对密度、收缩率、平均晶粒尺寸均先增大后减小,当Cr_(2)O_(3)物质的量分数为0.02%时相对密度和收缩率最高,Cr_(2)O_(3)物质的量分数为0.01%时晶粒尺寸最大,粒径分布最均匀;随着Cr_(2)O_(3)掺杂量增加,SnO_(2)压敏电阻的电压梯度增大,泄漏电流密度先减小后增大,非线性系数则先增大后减小,当Cr_(2)O_(3)物质的量分数为0.02%时,压敏电阻的泄漏电流密度最小,非线性系数最大,电压梯度较高,综合电气性能最好。 展开更多
关键词 SnO_(2)基压敏电阻 Cr_(2)O_(3) 电气性能 微观结构
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烧结助剂TiO_(2)添加量及烧结制度对Cr_(2)O_(3)烧结致密化行为的影响
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作者 于丽琴 郝留成 +5 位作者 余杨 王亚祥 王中雨 王波 赵晔 陈蕊 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2024年第10期92-98,共7页
以Cr_(2)O_(3)微粉为原料、TiO_(2)微粉为烧结助剂,在不同温度(1000~1500℃)、不同保护气体(氩气、氮气)中烧结制备Cr_(2)O_(3),研究了TiO_(2)添加量(0,1%,3%,5%,质量分数)、烧结温度和烧结气氛对Cr_(2)O_(3)烧结致密化行为的影响。结... 以Cr_(2)O_(3)微粉为原料、TiO_(2)微粉为烧结助剂,在不同温度(1000~1500℃)、不同保护气体(氩气、氮气)中烧结制备Cr_(2)O_(3),研究了TiO_(2)添加量(0,1%,3%,5%,质量分数)、烧结温度和烧结气氛对Cr_(2)O_(3)烧结致密化行为的影响。结果表明:随着TiO_(2)添加量增加,试样线收缩率和相对密度增加,致密化程度提高,当TiO_(2)添加量为5%时,线收缩率和相对密度最大,分别为16.25%,92.51%,添加TiO2后形成的(Cr_(0.88)Ti_(0.12))_(2)O_(3)置换固溶体可以提升扩散传质速率,从而促进烧结致密;随着烧结温度升高,Cr_(2)O_(3)的烧结致密化程度先升高后降低,1300°C下烧结最致密,氮气中烧结后在Cr_(2)O_(3)颗粒表面形成Cr_(2)N膜层,可以发挥类似液相作用,提高烧结速率,制备的Cr_(2)O_(3)相比在氩气中更致密。 展开更多
关键词 Cr_(2)O_(3)材料 烧结助剂 烧结温度
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Li_(7)La_(3)Zr_(2)O_(12)基氧化铝薄膜的制备及对固态电解质应用性能的影响
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作者 杨彦飞 陈志萍 +2 位作者 张立新 杨晓峰 刘烨昕 《化学研究与应用》 CAS 北大核心 2024年第5期1040-1047,共8页
Li_(7)La_(3)Zr_(2)O_(12)(LLZO)具有离子电导率高、电化学窗口宽、与锂负极相容性好的特点,在锂离子电池领域成为了传统有机液态电解质的潜在替代品。然而,LLZO极易与空气中的CO_(2)、H_(2)O反应生成副产物Li_(2)CO_(3),致使LLZO离子... Li_(7)La_(3)Zr_(2)O_(12)(LLZO)具有离子电导率高、电化学窗口宽、与锂负极相容性好的特点,在锂离子电池领域成为了传统有机液态电解质的潜在替代品。然而,LLZO极易与空气中的CO_(2)、H_(2)O反应生成副产物Li_(2)CO_(3),致使LLZO离子电导率降低,甚至丧失。针对这一问题,本研究采用先旋涂后烧结的方法在LLZO表面构筑氧化铝薄膜,借助致密氧化铝薄膜阻隔LLZO与空气的直接接触的特性,改善和提高LLZO的空气-水稳定性。结果表明,采用该方法可在LLZO表面构筑厚度约为13.34μm的无定形氧化铝薄膜层。该薄膜层有效提高了LLZO对气体的阻隔性,增大了LLZO表面疏水特性,在一定程度上抑制了Li_(2)CO_(3)的生成。同时,由于渗入LLZO中氧化铝对空隙的填充作用,强化了离子传输特性,使负载薄膜后LLZO的离子传导的活化能从0.40 eV降低至0.28eV,离子电导率从4.48×10^(5)S·cm^(-1)提高到5.06×10^(-5)S·cm^(-1),提高了13%。 展开更多
关键词 Li_(7)La_(3)Zr_(2)O_(12) 固态电解质 氧化铝薄膜 透气性 离子电导率 活化能
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Al掺杂对β-Ga_(2)O_(3)薄膜光学性质的影响研究
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作者 钟琼丽 王绪 +1 位作者 马奎 杨发顺 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2024年第8期1352-1360,共9页
近年来,半导体器件向着高散热性、高击穿场强和低能耗的方向发展,因此超宽禁带半导体材料β-Ga_(2)O_(3)具有广阔的应用前景,而有效掺杂是实现β-Ga_(2)O_(3)器件的基础。实验采用磁控溅射法制备Ga_(2)O_(3)/Al/Ga_(2)O_(3)/Al/Ga_(2)O_... 近年来,半导体器件向着高散热性、高击穿场强和低能耗的方向发展,因此超宽禁带半导体材料β-Ga_(2)O_(3)具有广阔的应用前景,而有效掺杂是实现β-Ga_(2)O_(3)器件的基础。实验采用磁控溅射法制备Ga_(2)O_(3)/Al/Ga_(2)O_(3)/Al/Ga_(2)O_(3)复合结构,经高温退火使Al原子热扩散进入薄膜中,形成Al掺杂的β-Ga_(2)O_(3)薄膜。采用激光区熔法使薄膜区域熔化再结晶,进一步提升掺杂质量。对Al掺杂β-Ga_(2)O_(3)薄膜的晶体性质、杂质含量及光学性质进行了测试表征。结果表明:Al掺杂不改变β-Ga_(2)O_(3)薄膜的晶体结构;随着Al层溅射时间延长,掺杂含量逐渐增加;当Al溅射时间为5和10 s时,薄膜紫外吸收率分别为40%和50%;随着Al溅射时间的增加,Al掺杂β-Ga_(2)O_(3)薄膜紫外区域光吸收率逐渐增强,Al溅射时间为300 s时,β-Ga_(2)O_(3)薄膜的光吸收率接近90%;低浓度的Al掺杂会导致β-Ga_(2)O_(3)薄膜的禁带宽度变窄。 展开更多
关键词 β-Ga_(2)O_(3)薄膜 AL掺杂 磁控溅射 Ga_(2)O_(3)/Al/Ga_(2)O_(3)/Al/Ga_(2)O_(3)复合结构 光吸收 光学带隙
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电沉积-热解法制备Cr_2O_3薄膜及其抗高温氧化性能 被引量:3
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作者 马静 孟凡曼 焦世坤 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2015年第4期30-32,7,共3页
Cr2O3薄膜具有保护性,采用电沉积-热解法制备还未见报道。采用电沉积-热解法在304不锈钢表面制备Cr2O3薄膜,并将其于900℃高温氧化100 h,研究了电沉积溶液[Cr(NO3)3酒精]浓度、沉积电压对Cr2O3薄膜抗高温氧化性能的影响,分析高温氧化样... Cr2O3薄膜具有保护性,采用电沉积-热解法制备还未见报道。采用电沉积-热解法在304不锈钢表面制备Cr2O3薄膜,并将其于900℃高温氧化100 h,研究了电沉积溶液[Cr(NO3)3酒精]浓度、沉积电压对Cr2O3薄膜抗高温氧化性能的影响,分析高温氧化样的组织结构。结果表明:电沉积-热解法制备的Cr2O3薄膜显著提高了304不锈钢的抗高温氧化性能;沉积电压为25 V,电沉积溶液浓度为0.10 mol/L条件下制备的Cr2O3薄膜抗高温氧化性能最佳。 展开更多
关键词 CR2O3 薄膜 电沉积-热解法 Cr(NO3)3酒精溶液 沉积电压 高温氧化性能
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Al_(2)O_(3)对Ti膜离子注入表面损伤及D滞留量的影响研究
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作者 胡江钰 范宇 +3 位作者 梁参军 郝丽娟 刘朝伟 宋勇 《分析测试学报》 CAS CSCD 北大核心 2024年第10期1664-1668,共5页
为提高中子管Ti膜的储氢及抗溅射损伤性能,该研究通过在Ti膜表面沉积一层Al_(2)O_(3)保护层,研究了该保护层对Ti膜在D离子注入过程中表面损伤及D滞留量的影响。采用射频磁控溅射技术完成了Ti膜和表面有Al_(2)O_(3)保护层的Ti膜(Al_(2)O_... 为提高中子管Ti膜的储氢及抗溅射损伤性能,该研究通过在Ti膜表面沉积一层Al_(2)O_(3)保护层,研究了该保护层对Ti膜在D离子注入过程中表面损伤及D滞留量的影响。采用射频磁控溅射技术完成了Ti膜和表面有Al_(2)O_(3)保护层的Ti膜(Al_(2)O_(3)/Ti膜)样品的制备,开展了D离子注入实验,利用扫描电子显微镜(SEM)对D离子注入前后的表面形貌进行分析,并通过热脱附谱(TDS)实验研究保护层对Ti膜中D滞留量的影响。SEM结果表明,注入5×10^(17)个D离子后,Ti膜表面出现开裂和剥离现象,而Al_(2)O_(3)/Ti膜表面无开裂和剥离现象,Al_(2)O_(3)保护层抑制了Ti膜的开裂和剥离,可提高Ti膜使用寿命。TDS实验结果表明,增加Al_(2)O_(3)保护层后,D脱附峰值温度提升4.9%,膜内D滞留量提升10.3%,在D离子注入过程中Al_(2)O_(3)保护层可阻止膜内D原子的释放进而提升Ti膜内D滞留量。该文初步验证了Al_(2)O_(3)有作为中子管Ti膜保护层材料的潜力。 展开更多
关键词 中子管靶 Ti膜 Al_(2)O_(3)保护层 离子注入 D滞留量
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p-Si/n-Ga_(2)O_(3)异质结制备与特性研究
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作者 陈沛然 焦腾 +6 位作者 陈威 党新明 刁肇悌 李政达 韩宇 于含 董鑫 《人工晶体学报》 北大核心 2024年第1期73-81,共9页
本实验采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)工艺,在p(111)型Si衬底上制备了p-Si/n-Ga_(2)O_(3)结构的PN结。通过X射线衍射仪、原子力显微镜等对样品进行了晶体结构、表面形貌、表面粗糙度等的表征分析;通过磁控溅射与蒸镀方法在样品上生长T... 本实验采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)工艺,在p(111)型Si衬底上制备了p-Si/n-Ga_(2)O_(3)结构的PN结。通过X射线衍射仪、原子力显微镜等对样品进行了晶体结构、表面形貌、表面粗糙度等的表征分析;通过磁控溅射与蒸镀方法在样品上生长Ti/Au电极并进行I-V特性曲线、开启电压、开关电流比、反向饱和电流、理想因子、零偏压下的势垒高度等结特性测试,研究了掺杂浓度与薄膜厚度对PN结特性的影响,并对其原因进行了分析;通过二步生长法和缓冲层温度优化实验,减少了Si衬底与β-Ga_(2)O_(3)之间的晶格失配与热失配带来的影响,对薄膜与器件特性进行了优化。最终获得了表面粗糙度最低可达到4.21 nm的高质量n型β-Ga_(2)O_(3)薄膜,以及具有较低理想因子(42.1)的PN结。 展开更多
关键词 β-Ga_(2)O_(3)薄膜 金属有机化学气相沉积 p-Si/n-Ga_(2)O_(3) PN结 晶体质量 电学特性
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Pd/Ga_(2)O_(3)/AlGaN/GaN HEMT基氢气传感器研究
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作者 钟远婷 孙爱发 +1 位作者 刘阳泉 钟爱华 《传感器与微系统》 CSCD 北大核心 2024年第3期18-21,共4页
氢气易燃易爆,因此需要海量快速响应的氢气传感器对加氢站、运输车及氢能源汽车等氢能源各个环节进行预警预报。本文研究了基于贵金属钯(Pd)为栅极的高速二维电子气晶体管(HEMT)型氢气传感器,金属Pd栅极为敏感电极,Ti/Al/Ti/Au为源漏极... 氢气易燃易爆,因此需要海量快速响应的氢气传感器对加氢站、运输车及氢能源汽车等氢能源各个环节进行预警预报。本文研究了基于贵金属钯(Pd)为栅极的高速二维电子气晶体管(HEMT)型氢气传感器,金属Pd栅极为敏感电极,Ti/Al/Ti/Au为源漏极。结果表明:该晶体管开关比为3.58×10^(7)。实验研究了不同厚度Ga_(2)O_(3)插入层对氢气响应特性的影响规律。随着Ga_(2)O_(3)插入层的厚度增大,传感器的饱和体积分数明显增大,从1×10^(-3)提高到7×10^(-3)。对于Ga_(2)O_(3)插入层厚度为10 nm的器件,其综合性能最好,饱和浓度为5×10^(-3),且具有很高的响应度,1×10^(-3)时的响应度为4300%。特别地,其响应速度非常快,最快可以2 s内完成氢气检测。 展开更多
关键词 氧化镓薄膜 氢气传感器 HEMT 选择性
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基于SF_(6)/Ar的电感耦合等离子体干法刻蚀β-Ga_(2)O_(3)薄膜
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作者 曾祥余 马奎 杨发顺 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第7期624-628,共5页
使用SF_(6)/Ar混合气体作为刻蚀气体,采用电感耦合等离子体(ICP)刻蚀方法,研究了不同激励功率和偏置功率对Ga_(2)O_(3)薄膜刻蚀速率的影响以及不同刻蚀时间对表面粗糙度的影响,并观察了光刻胶的损伤情况以调整刻蚀工艺参数。实验结果表... 使用SF_(6)/Ar混合气体作为刻蚀气体,采用电感耦合等离子体(ICP)刻蚀方法,研究了不同激励功率和偏置功率对Ga_(2)O_(3)薄膜刻蚀速率的影响以及不同刻蚀时间对表面粗糙度的影响,并观察了光刻胶的损伤情况以调整刻蚀工艺参数。实验结果表明,适度地增大激励功率和偏置功率可以提高刻蚀速率;合适的刻蚀时间可以在得到低粗糙度表面的同时不会过度损伤光刻胶掩膜。通过优化工艺参数,在激励功率为600 W、偏置功率为150 W、刻蚀时间为17 min下,可得到30 nm/min的Ga_(2)O_(3)薄膜刻蚀速率,刻蚀表面的垂直度高、粗糙度低,同时光刻胶掩膜形貌完好。 展开更多
关键词 电感耦合等离子体(ICP)刻蚀 Ga_(2)O_(3)薄膜 刻蚀速率 光刻胶掩膜 低粗糙度表面
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非醇盐法制备铌酸钾钠薄膜的工艺及性能研究
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作者 朱海勇 张伟 《中国陶瓷》 CAS CSCD 北大核心 2024年第8期39-46,共8页
为了利用低成本的Nb_(2)O_(5)为原料在传统硅衬底上制备高质量的K_(0.5)Na_(0.5)NbO_(3)(KNN)薄膜,利用溶胶-凝胶法非醇盐法制备KNN薄膜,对比了典型和改良的两种工艺流程,并利用表征工具分析两种工艺制备薄膜结构和性能。同时,通过改良... 为了利用低成本的Nb_(2)O_(5)为原料在传统硅衬底上制备高质量的K_(0.5)Na_(0.5)NbO_(3)(KNN)薄膜,利用溶胶-凝胶法非醇盐法制备KNN薄膜,对比了典型和改良的两种工艺流程,并利用表征工具分析两种工艺制备薄膜结构和性能。同时,通过改良的工艺制备不同层数的薄膜,利用表征工具和理论计算分析层数对KNN薄膜的晶体结构、应变、表面形貌和电性能的影响。XRD结果表明利用改进的工艺可以在硅衬底上制备出(100)高度择优取向的KNN薄膜,薄膜的最佳热解温度从500℃降低为150℃,并且薄膜的介电性能和铁电性能都得到改善。利用Scherrer和SSP公式计算表明随着薄膜层数的增加,薄膜的晶粒尺寸随之增加,晶相由四方相向立方相转变。当层数为14层时,观察到这种转变,此时薄膜应变达到最低值。SEM再次表明随着层数的增加,薄膜的晶粒尺寸随之增加,薄膜表面缺陷也得到改善。在层数为18时,1 kHz下薄膜的介电常数值达到最大值622.9。 展开更多
关键词 Nb_(2)O_(5) K_(0.5)Na_(0.5)NbO_(3)薄膜 层数 非醇盐法
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Cr_(2)O_(3)对ZnO-Bi_(2)O_(3)基高压压敏陶瓷性能的影响
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作者 桂阳海 涂远生 +3 位作者 田宽 郭会师 黄海 张心华 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第4期54-60,共7页
采用固相烧结法制备ZnO-Bi_(2)O_(3)-Co_(2)O_(3)-NiO-Mn_(3)O_(4)-SiO_(2)-Cr_(2)O_(3)压敏陶瓷,研究不同掺杂量的Cr_(2)O_(3)对ZnO压敏陶瓷的微观结构和电气性能的影响。通过X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)及电化学... 采用固相烧结法制备ZnO-Bi_(2)O_(3)-Co_(2)O_(3)-NiO-Mn_(3)O_(4)-SiO_(2)-Cr_(2)O_(3)压敏陶瓷,研究不同掺杂量的Cr_(2)O_(3)对ZnO压敏陶瓷的微观结构和电气性能的影响。通过X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)及电化学工作站分别对样品的物相、微观形貌及电性能进行表征。结果表明:Cr_(2)O_(3)的加入不仅具有抑制ZnO晶粒异常生长和提升晶粒均匀分布的作用,而且能显著降低ZnO晶粒电阻,增加晶界电阻。在Cr_(2)O_(3)添加量为0%~0.21%(摩尔分数,下同)范围内,随着添加量的增大,压敏陶瓷的非线性系数表现为先增加后减小。当Cr_(2)O_(3)掺杂量为0.14%时,ZnO压敏陶瓷具有优异的电气性能:电位梯度E_(1 mA)=216 V·mm^(-1)、泄漏电流J_L=0.36μA·cm^(-2)、非线性系数α=25、残压比K=1.815、老化系数K_(ct)=0.647。此外,该压敏陶瓷在4/10μs波形下100 kA脉冲电流冲击2次后U_(1 mA)仍保持为初始的96.75%,表现出良好的冲击稳定性,在配电系统避雷器中具有巨大的应用潜力。 展开更多
关键词 ZNO压敏陶瓷 Cr_(2)O_(3)掺杂 微观结构 电气性能 阻抗性能
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