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High-performance omnidirectional self-powered photodetector constructed by CsSnBr_(3)/ITO heterostructure film
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作者 Dong Liu Feng-Jing Liu +6 位作者 Jie Zhang Zi-Xu Sa Ming-Xu Wang Sen Po Yip Jun-Chen Wan Peng-Sheng Li Zai-Xing Yang 《Journal of Electronic Science and Technology》 EI CAS CSCD 2023年第2期78-86,共9页
Omnidirectional photodetectors attract enormous attention due to their prominent roles in optical tracking systems and omnidirectional cameras.However,it is still a challenge for the construction of high-performance o... Omnidirectional photodetectors attract enormous attention due to their prominent roles in optical tracking systems and omnidirectional cameras.However,it is still a challenge for the construction of high-performance omnidirectional photodetectors where the incident light can be effectively absorbed in multiple directions and the photo-generated carriers can be effectively collected.Here,a high-performance omnidirectional self-powered photodetector based on the CsSnBr_(3)/indium tin oxide(ITO)heterostructure film was designed and demonstrated.The as-fabricated photodetector exhibited an excellent self-powered photodetection performance,showing responsivity and detectivity up to 35.1 mA/W and 1.82×10^(10) Jones,respectively,along with the smart rise/decay response time of 4 ms/9 ms.Benefitting from the excellent photoelectric properties of the CsSnBr_(3) film as well as the ability of the CsSnBr_(3)/ITO heterostructure to efficiently separate and collect photo-generated carriers,the as-fabricated photodetector also exhibited an excellent omnidirectional self-powered photodetection performance.All the results have certified that this work finds an efficient way to realize high-performance omnidirectional self-powered photodetectors. 展开更多
关键词 Chemical vapor deposition cssnbr_(3)/ito heterostructure film OMNIDIRECTIONAL Self-powered photodetector
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CsSnBr_(3)钙钛矿微晶体的化学气相沉淀生长、结构、稳定性及光学性能的系统研究
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作者 何婷 董纳 +1 位作者 姚一 徐法强 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第4期477-485,I0036,共10页
尽管铅基卤化物钙钛矿在光电器件中的应用前景广阔,但这些应用严格受限于材料的毒性,因此有必要开发无铅的全无机替代物,锡基卤化物钙钛矿虽然在可控合成和稳定性方面存在巨大挑战,但依然是理想的选择之一,本文利用化学气相沉积法进行... 尽管铅基卤化物钙钛矿在光电器件中的应用前景广阔,但这些应用严格受限于材料的毒性,因此有必要开发无铅的全无机替代物,锡基卤化物钙钛矿虽然在可控合成和稳定性方面存在巨大挑战,但依然是理想的选择之一,本文利用化学气相沉积法进行了高质量的CsSnBr_(3)微晶体在SiO_(2)/Si表面的可控生长.制备的新鲜产物主要呈现三角星和钉状棒两种形貌,二者均具有立方相结构,产物在空气中暴露后有SnO_(2)生成,表明CsSnBra_(3)钙钛矿具有结构不稳定性,通过调变生长温度实现了对CsSnBr_(3)微晶体的成核密度及尺寸的控制.变功率和变温的光致发光结果表明,不同形貌的CsSnBr_(3)微晶体具有不同的激子结合能,而且由于量子限域效应对电子-空穴相互作用的影响而产生了不同的光激发物种。 展开更多
关键词 化学气相沉积 cssnbr_(3)微晶体 稳定性 光致发光 光激发物种
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ITO/Al_2O_3复合透明导电膜的制备及光电性能 被引量:3
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作者 季振国 王超 刘坤 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2003年第3期173-175,172,共4页
采用磁控溅射技术 ,在预先沉积有金属Al膜的玻璃衬底上制备了ITO薄膜。通过高温热处理 ,获得了透射率高、导电性能好的ITO/Al2 O3 复合透明导电膜。研究了不同Al薄膜厚度下ITO薄膜的晶体结构及其光、电性能 ,结果表明 ,当预沉积Al层厚度... 采用磁控溅射技术 ,在预先沉积有金属Al膜的玻璃衬底上制备了ITO薄膜。通过高温热处理 ,获得了透射率高、导电性能好的ITO/Al2 O3 复合透明导电膜。研究了不同Al薄膜厚度下ITO薄膜的晶体结构及其光、电性能 ,结果表明 ,当预沉积Al层厚度为 4 0nm左右时 ,ITO的结晶质量得到提高 ,取向性能变好 ,电阻降低 ,而且在 4 0 0 - 80 0nm范围内具有很高的可见光透过率。实验表明 ,通过改变预沉积Al膜的厚度 ,可以改变ITO薄膜最大透过率对应的波长 。 展开更多
关键词 ito AL2O3 复合膜 磁控溅射
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ITO及WO_3在电解液中的交流阻抗特性 被引量:2
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作者 李竹影 刘祖黎 +1 位作者 姚凯伦 宋玉苏 《海军工程大学学报》 CAS 北大核心 2006年第3期30-33,共4页
采用表面过程法拉第阻纳表达式方法与等效电路方法,研究透明ITO平面电极及带WO3薄膜层的ITO平面电极处于1 mol LiClO4丙烯碳酸酯电解液中的电化学阻抗谱.分析显示WO3薄膜层有效地阻止了表面吸附参量对ITO电极反应的影响,使电极反应仅受... 采用表面过程法拉第阻纳表达式方法与等效电路方法,研究透明ITO平面电极及带WO3薄膜层的ITO平面电极处于1 mol LiClO4丙烯碳酸酯电解液中的电化学阻抗谱.分析显示WO3薄膜层有效地阻止了表面吸附参量对ITO电极反应的影响,使电极反应仅受电极电位的影响,并且随WO3薄膜在电解液中浸泡时间的增加,WO3薄膜的常相位角元件的特性最终回归为电容效应. 展开更多
关键词 ito 电解液 交流阻抗 WO3薄膜
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ITO靶材第二相In4Sn3O12的结构及其对靶材性能的影响 被引量:2
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作者 谢斌 杨硕 +1 位作者 王伟宁 郗雨林 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第S01期29-33,共5页
以自制的纳米ITO气化粉为原料,采用注浆成型工艺制备了不同SnO 2含量的ITO靶材,并采用不同烧结温度对SnO 2含量为10%(质量分数)的靶材进行了烧结,通过SEM分析了不同SnO 2含量ITO靶材的组织及第二相在靶材中的数量、形貌、分布。结果表明... 以自制的纳米ITO气化粉为原料,采用注浆成型工艺制备了不同SnO 2含量的ITO靶材,并采用不同烧结温度对SnO 2含量为10%(质量分数)的靶材进行了烧结,通过SEM分析了不同SnO 2含量ITO靶材的组织及第二相在靶材中的数量、形貌、分布。结果表明,在1575℃烧结温度下,随着SnO 2含量的增加,靶材晶粒得到细化,晶界交汇处第二相数量明显增多;当烧结温度提高至1600℃时,晶界处第二相发生分解,并向母相中转移。采用王水对1575℃烧结的SnO 2含量为10%的靶材进行腐蚀,提取第二相,并通过EDS、XRD、TEM、TGA分析了第二相的组分、物相结构及热重情况。研究表明,10%SnO 2含量ITO靶材晶界交汇处形成的第二相为六方结构的In 4Sn 3O 12,且靶材的氧含量与In 4Sn 3O 12有关。通过对不同SnO 2含量ITO靶材在密度、电阻率和热扩散系数方面的分析,间接研究了第二相对靶材性能的影响,发现SnO 2含量的增加有利于靶材密度的提高,同时使靶材电阻率增大、氧含量增高、热扩散系数减小。 展开更多
关键词 ito靶材 第二相 In4Sn3O12 氧含量
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热处理对掺杂WO_3的ITO薄膜性能的影响 被引量:1
6
作者 李竹影 刘冶 刘辉 《海军工程大学学报》 CAS 北大核心 2011年第4期43-47,共5页
用磁控溅射镀膜方法,制备掺杂WO3的ITO(xWO3-ITO)薄膜,经过热处理后对掺杂薄膜的表面形貌、吸收和透射光谱、面电阻等性能进行了测试。结果表明:适当的热处理能够提高xWO3-ITO薄膜在可见光范围内的透过率和在波长为228nm处的吸光度。同... 用磁控溅射镀膜方法,制备掺杂WO3的ITO(xWO3-ITO)薄膜,经过热处理后对掺杂薄膜的表面形貌、吸收和透射光谱、面电阻等性能进行了测试。结果表明:适当的热处理能够提高xWO3-ITO薄膜在可见光范围内的透过率和在波长为228nm处的吸光度。同时,该薄膜热处理后的方块电阻明显降低,导电性能得到明显提高。 展开更多
关键词 热处理 ito薄膜 WO3
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Alq_3/ITO结构的表面和界面电子状态的XPS研究 被引量:2
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作者 郑代顺 李海蓉 +1 位作者 王延勇 张福甲 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第4期351-356,共6页
用传统的真空蒸镀法制备了Alq3/ITO样品,并用X光电子能谱(XPS)研究了Alq3/ITO紧密接触的表面和界面电子化学状态。对Alq3/ITO样品的表面分析表明,在lq3分子中,Al原子的束缚能(Eb)为70.7... 用传统的真空蒸镀法制备了Alq3/ITO样品,并用X光电子能谱(XPS)研究了Alq3/ITO紧密接触的表面和界面电子化学状态。对Alq3/ITO样品的表面分析表明,在lq3分子中,Al原子的束缚能(Eb)为70.7eV和75.1eV。分别对应于Al(0)和Al(Ⅲ)态,C原子的束缚能为285.8eV、286.3eV和286.8eV,分别对应于C-C、C-O和C-N键;N原子的主峰位于 401.0eV,对应于 C-N=C键;而 O原子主要与 H原子成键,其束缚能为532.8eV。为了研究Alq3/ITO的界面电子状态,我们用氩离子束对样品表面进行了溅射剥蚀,当溅射时间分别为30,35,45分钟时进行XPS采谱分析。结果表明,随着氩离子束溅射时间增长,Al2p、C1s、N1s、O1s、In3d5/2和Sn3d5/2峰都向低束缚能方向有微小移动,且Al2p、C1s和N1s峰变弱,这是受ITO中扩散进入Alq3层的O、In和Sn原子的影响所致。 展开更多
关键词 Alq3/ito XPS 结构 表面电子状态 界面电子状态 电致发光器件 8-羟基喹啉铝 发光材料
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Ga_2O_3/ITO/Ga_2O_3深紫外透明导电膜的研究 被引量:1
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作者 刘建军 闫金良 +1 位作者 石亮 李爱丽 《鲁东大学学报(自然科学版)》 2009年第4期344-346,共3页
采用常压烧结方法制备了Ga2O3陶瓷靶,用X射线衍射仪、金相显微镜对Ga2O3陶瓷靶的结构和形貌进行了研究.用射频磁控溅射Ga2O3陶瓷靶材和直流磁控溅射ITO(锡铟氧化物)靶材分别制备了Ga2O3薄膜、Ga2O3/ITO/Ga2O3膜,用紫外-可见分光光度计... 采用常压烧结方法制备了Ga2O3陶瓷靶,用X射线衍射仪、金相显微镜对Ga2O3陶瓷靶的结构和形貌进行了研究.用射频磁控溅射Ga2O3陶瓷靶材和直流磁控溅射ITO(锡铟氧化物)靶材分别制备了Ga2O3薄膜、Ga2O3/ITO/Ga2O3膜,用紫外-可见分光光度计、四探针测试仪对Ga2O3薄膜、Ga2O3/ITO/Ga2O3膜的光学透过率和电阻率进行了表征.Ga2O3薄膜不导电,光学带隙5.1 eV;Ga2O3(45 nm)/ITO(14 nm)/Ga2O3(45nm)膜在300 nm处的光学透过率71.5%,280 nm处60.6%,电阻率1.48×10-2Ω.cm.ITO层的厚度影响Ga2O3/ITO/Ga2O3膜的光电性质. 展开更多
关键词 Ga2O3陶瓷靶材 深紫外透明导电膜 Ga2O3/ito/Ga2O3 光电性质
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第一性原理对CsSnBr_(3)施加静水压力后光电性质的探究 被引量:3
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作者 高立科 赵先豪 +2 位作者 刁心峰 唐天宇 唐延林 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2021年第15期359-369,共11页
CsSnBr_(3)作为一种重要的钙钛矿太阳能电池材料已经被广泛研究.基于密度泛函理论,利用第一性原理来研究在不同静水压力下CsSnBr_(3)的光电性质.结果发现,当压力为2.6 GPa时,CsSnBr_(3)具有最佳光学带隙值1.34 eV,因此,本文只对比研究Cs... CsSnBr_(3)作为一种重要的钙钛矿太阳能电池材料已经被广泛研究.基于密度泛函理论,利用第一性原理来研究在不同静水压力下CsSnBr_(3)的光电性质.结果发现,当压力为2.6 GPa时,CsSnBr_(3)具有最佳光学带隙值1.34 eV,因此,本文只对比研究CsSnBr_(3)在0和2.6 GPa静水压力下的光电性质.当压力为2.6 GPa时,CsSnBr_(3)具有更大的介电值、电导率、吸收系数及折射率,吸收光谱有红移现象,且其电子和空穴的有效质量、激子的结合能都比较小,这表明CsSnBr_(3)是一种高效的光吸收材料.通过Born-Huang稳定标准判据,容差因子7和声子谱有无虚频的三重计算,发现在压力0和2.6 GPa下,CsSnBr_(3)都是稳定的.由加压前后CsSnBr_(3)的弹性模量值可知他们都是偏软性的,具有良好的延展性和各向异性.加压后CsSnBr_(3)的德拜温度和热容量很快趋于稳定,与温度无关;而焓和熵则随着温度升高而增加,增加的幅度大于未加压的情况;吉布斯自由能都呈现出降低的趋势,未加压时降低得稍快.本研究表明,施加静水压力后的CsSnBr_(3)是一种良好的光电材料,适合用于钙钛矿太阳能电池. 展开更多
关键词 密度泛函理论 cssnbr_(3) 钙钛矿 静水压力 光电性质
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Ag/BiFeO_(3)/CoFeB/ITO薄膜器件光控电阻开关特性研究
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作者 李秀林 陈鹏 《科学技术创新》 2021年第11期5-6,共2页
采用射频磁控溅射技术在ITO衬底上制备了BiFeO_(3)/CoFeB双层膜。在Ag/BiFeO_(3)/CoFeB/ITO结构中观察到双极性电阻开关效应。样品的电阻开关特性可以通过白光调制。本工作可用于Ag/BiFeO_(3)/CoFeB/ITO纳米薄膜器件探索光学控制非易失... 采用射频磁控溅射技术在ITO衬底上制备了BiFeO_(3)/CoFeB双层膜。在Ag/BiFeO_(3)/CoFeB/ITO结构中观察到双极性电阻开关效应。样品的电阻开关特性可以通过白光调制。本工作可用于Ag/BiFeO_(3)/CoFeB/ITO纳米薄膜器件探索光学控制非易失性存储器器件中的多功能材料和应用。 展开更多
关键词 Ag/BiFeO_(3)/CoFeB/ito 电阻开关 光控
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XPS Investigation on Surface and Interface Electronic States of Alq_3/ITO
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作者 ZHANG Fu jia, ZHENG Dai shun, WANG Yan yong, HU Hai bing (Dept. of Phys., Lanzhou University, Lanzhou 730000, CHN) 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 2001年第3期143-149,共7页
The surface and interface electronic states of tris (8 hydroxyquinoline) aluminum (Alq 3)/indium tin oxide (ITO) were measured and analyzed by X ray photoelectron spectroscopy (XPS). The results indicated that, in Alq... The surface and interface electronic states of tris (8 hydroxyquinoline) aluminum (Alq 3)/indium tin oxide (ITO) were measured and analyzed by X ray photoelectron spectroscopy (XPS). The results indicated that, in Alq 3 molecule, the binding energy ( E b) of Al atoms is 70.7 eV and 75.1 eV, corresponding to Al(O) and Al(Ⅲ), respectively; The binding energy of C is 285.8 eV, 286.3 eV, and 286.8 eV, corresponding to C of C-C group, C-O, and C-N bond, respectively. N is the main peak locating at 401.0 eV, corresponding to N atom of C-N=C. O atoms mainly bond to H atom, with the binding energy of 533.2 eV. As the sputtering time of Ar + ion beam increases, Al 2p , C 1s , N 1s , O 1s , In 3d 5/2 and Sn 3d 5/2 peaks slightly shift towards lower binding energy, and Al 2p , C 1s and N 1s peaks get weaker, which contributes to diffusing the oxygen, indium and tin in ITO into Alq 3 layer. 展开更多
关键词 X射线 光电子能谱法 表面状态 接口状态 发光二极管 发光器件
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In_2O_3-10SnO_2陶瓷中In_4Sn_3O_(12)与富Sn析出相特征 被引量:1
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作者 侯俊峰 周科朝 +2 位作者 李志友 王科 甘雪萍 《中南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第5期1494-1499,共6页
以SnO_2质量分数为10%的共沉淀ITO粉为原料,在1 600℃氧气氛下烧结制备ITO陶瓷,采用X线衍射、电子探针、透射电子显微镜、扫描电子显微镜对其物相组成、元素分布和微观结构进行研究。研究结果表明:在In_2O_3:Sn晶粒内析出纳米尺寸的体... 以SnO_2质量分数为10%的共沉淀ITO粉为原料,在1 600℃氧气氛下烧结制备ITO陶瓷,采用X线衍射、电子探针、透射电子显微镜、扫描电子显微镜对其物相组成、元素分布和微观结构进行研究。研究结果表明:在In_2O_3:Sn晶粒内析出纳米尺寸的体心立方结构的富Sn相,晶粒边缘内侧出现低Sn浓度的无析出带,其三晶交界处生成In_4Sn_3O_(12)晶粒;In_2O_3:Sn晶内富Sn析出相按照从晶粒中部到晶界边缘尺寸逐渐减小、排布由疏到密的的规律分布;随着保温时间的延长,In_4Sn_3O_(12)晶粒尺寸、In_2O_3:Sn晶内的富Sn析出相尺寸和无析出带宽度增大。 展开更多
关键词 ito陶瓷 In4Sn3O12晶粒 富Sn析出相 微观结构
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离子注入对ITO薄膜电学特性的影响(英文) 被引量:1
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作者 王文文 王峥 郝维昌 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2009年第2期187-192,共6页
对系列In2O3:Sn (ITO)薄膜样品分别实施了不同剂量的Sn+, Ag+和Mo+离子注入并将它们在250 ℃下进行了热处理。利用霍耳测量研究了原始样品及注入和退火前后各样品的电学特性。研究了ITO薄膜的电学参数受离子注入的种类及剂量的影响。实... 对系列In2O3:Sn (ITO)薄膜样品分别实施了不同剂量的Sn+, Ag+和Mo+离子注入并将它们在250 ℃下进行了热处理。利用霍耳测量研究了原始样品及注入和退火前后各样品的电学特性。研究了ITO薄膜的电学参数受离子注入的种类及剂量的影响。实验证明不同种类的离子注入会不同程度地降低ITO的导电性能,但热处理的效应与之相反。3种金属中,Sn+离子对薄膜造成的注入损伤最小,而高价的钼离子可以替换铟离子的位置成为施主,当注入剂量为1×1015cm-2时,经过Mo+离子注入和后续退火的ITO薄膜,载流子浓度提高了14 %。 展开更多
关键词 In2O3:Sn(ito) 离子注入 热退火 电学特性
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用光透薄层电极研究[Fe(phen)_3]^(2+)电子转移反应的热力学
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作者 李金良 卢祥生 王超 《江苏师范大学学报(自然科学版)》 CAS 1996年第1期34-37,共4页
使用自制的ITO导电玻璃恒温光透薄层电极,测定邻菲罗啉亚铁配合物在氯化钾介质中的电极氧化过程的电子转移数n和克式量电位,研究与温度的关系,测定了其电极反应的热力学函数,得出该电极反应为放热反应.
关键词 薄层光谱电化学 ito光透电极 [Fe(phen)3]2+
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WO_3电致变色薄膜制备过程中光学膜厚测量监控技术的研究
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作者 任豪 李筱琳 +1 位作者 毕君 罗宇强 《真空》 CAS 北大核心 2003年第5期8-11,共4页
采用真空电子束蒸发方法制备 WO3电致变色薄膜过程中 ,利用极值法光学膜厚测量技术监控薄膜的光学特性 ,对不同光学膜厚的 WO3薄膜的原始态、着色态和退色态的光谱特性进行了对比分析。测试采用二电极恒电压方法 ,用分光光度计实时测量... 采用真空电子束蒸发方法制备 WO3电致变色薄膜过程中 ,利用极值法光学膜厚测量技术监控薄膜的光学特性 ,对不同光学膜厚的 WO3薄膜的原始态、着色态和退色态的光谱特性进行了对比分析。测试采用二电极恒电压方法 ,用分光光度计实时测量透过率的变化。结果证明以 ITO玻璃作为比较片 ,极值法监控薄膜光学膜厚 ,当反射率达到第一极小值 ,即透过率达到第一极大值时 。 展开更多
关键词 WO3电致变色薄膜 制备 极值法光学膜厚测量技术 监控 光学特性 分光光度计 透过率 ito玻璃
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WO_3修饰电极检测左旋多巴
16
作者 胡玉林 刘雨果 史传国 《广东化工》 CAS 2018年第21期4-5,19,共3页
本文通过循环伏安法在ITO电极上合成了WO3,然后利用所得的WO3修饰电极,运用循环伏安法和差分脉冲伏安法对左旋多巴进行了分析检测。通过考察影响因素,找出了检测的最佳条件。在最佳检测条件下,对左旋多巴进行了检测。结果表明,WO3修饰... 本文通过循环伏安法在ITO电极上合成了WO3,然后利用所得的WO3修饰电极,运用循环伏安法和差分脉冲伏安法对左旋多巴进行了分析检测。通过考察影响因素,找出了检测的最佳条件。在最佳检测条件下,对左旋多巴进行了检测。结果表明,WO3修饰电极检测左旋多巴具有良好的重现性和抗干扰性,其线性范围为7~60μM,检测限为0.26μM。该方法的检测条件易于控制,成本低廉,易于制备,并且在使用过程中绿色环保,具有广阔的发展与应用前景。 展开更多
关键词 WO3 修饰电极 左旋多巴 ito
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PVK/Alq_3复合薄膜的磁电阻效应
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作者 杨甜甜 刘昊 +1 位作者 胡权 王伟 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2014年第1期30-33,共4页
使用匀胶法在ITO衬底上制备不同质量配比的聚乙烯基咔唑(PVK)/8-羟基喹啉铝(Alq3)复合薄膜,分别利用AFM和四探针法测量分析薄膜的成膜性能、表面形貌与低磁场强度电阻特性,研究分析在磁场下有机薄膜电阻效应的机理。研究发现PVK和Alq3... 使用匀胶法在ITO衬底上制备不同质量配比的聚乙烯基咔唑(PVK)/8-羟基喹啉铝(Alq3)复合薄膜,分别利用AFM和四探针法测量分析薄膜的成膜性能、表面形貌与低磁场强度电阻特性,研究分析在磁场下有机薄膜电阻效应的机理。研究发现PVK和Alq3的质量配比为4∶1时,PVK/Alq3材料成膜性好,薄膜表面均匀,电阻变化率达到-30.58%。分析其机理是外加磁场增强了薄膜内载流子的自旋极化,从而增加了极化子和单线态激子的形成概率。形成概率的增加提高了薄膜内载流子的迁移率,进而减小了薄膜的电阻值,导致了薄膜的电阻效应。 展开更多
关键词 聚乙烯基咔唑(PVK) 8-羟基喹啉铝(Alq3) 迁移率 电阻效应 氧化铟锡(ito)
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ITO纳米粉制备及表面修饰研究
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《无机盐工业》 CAS 北大核心 2005年第3期57-57,共1页
以InCl3·4H2O和SnCl4·5H2O为原料,采用共沉淀法制备ITO纳米粉,并对其进行修饰。其过程包括:称取一定比例的InCl3·4H2O和SnCl4·5H2O配制成一定浓度的水溶液,并加入一定量的PVA于恒温水浴中,在剧烈的搅拌下慢慢... 以InCl3·4H2O和SnCl4·5H2O为原料,采用共沉淀法制备ITO纳米粉,并对其进行修饰。其过程包括:称取一定比例的InCl3·4H2O和SnCl4·5H2O配制成一定浓度的水溶液,并加入一定量的PVA于恒温水浴中,在剧烈的搅拌下慢慢滴加NH3·H2O至一定pH为止,继续搅拌一段时间后,在此温度下静置老化,对沉淀进行离心、分离、洗涤,再进行后处理、干燥、煅烧,得ITO纳米粉,再对其进行表面修饰。 展开更多
关键词 纳米粉 制备 搅拌 表面修饰 煅烧 SNCL4·5H2O 恒温水浴 INCL3 ito 水溶液
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全球首款3D智能衣柜镜推出
19
《智能城市》 2017年第11期1-1,共1页
LOHO智能衣柜镜是一款基于海尔衣联生态、康得新3D身体测量算法及ITO电容触控镜面的智能硬件产品,具备衣服智能管理、搭配推荐、3D试衣、身体测量、健身指导等功能.
关键词 智能管理 3D 衣柜 测量算法 硬件产品 ito 身体
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高温陶瓷薄膜热流传感器动态响应有限元分析
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作者 张梅菊 郭怡雪 +3 位作者 黄漫国 杜子睿 康志鹏 张丛春 《测控技术》 2023年第11期1-5,39,共6页
航空、航天等领域的高速发展对精密热流测量技术提出了更严苛的挑战。ITO/In_(2)O_(3)陶瓷材料相比贵金属材料有着更高的塞贝克系数,并拥有低密度和优异的高温力学性能。基于有限元仿真方法,建立了ITO/In_(2)O_(3)热电堆型薄膜热流传感... 航空、航天等领域的高速发展对精密热流测量技术提出了更严苛的挑战。ITO/In_(2)O_(3)陶瓷材料相比贵金属材料有着更高的塞贝克系数,并拥有低密度和优异的高温力学性能。基于有限元仿真方法,建立了ITO/In_(2)O_(3)热电堆型薄膜热流传感器热电学仿真模型,设计了2种薄膜热流传感器结构,综合分析了热电堆在不同的热阻层分布、热阻层厚度和热流密度下的传热性能和输出动态响应变化,提出了ITO/In_(2)O_(3)薄膜热流传感器的优化设计方案。 展开更多
关键词 高温 薄膜热流传感器 ito/In_(2)O_(3)热电堆 有限元分析 动态响应
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