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粉末涂敷法制备CuInSe_2薄膜的硒化烧结过程研究
被引量:
3
1
作者
聂洪波
王延来
+1 位作者
王义民
果世驹
《粉末冶金技术》
CAS
CSCD
北大核心
2009年第2期132-137,共6页
用粉末涂敷法在Mo箔上涂敷CuInSe2前驱体薄膜,进而在H2气氛中热处理制备了太阳能薄膜电池吸收层用CuInSe2薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)和其配备的能谱仪(EDS)对CuInSe2薄膜进行分析和表征,对硒化烧结过程中化学反应的可...
用粉末涂敷法在Mo箔上涂敷CuInSe2前驱体薄膜,进而在H2气氛中热处理制备了太阳能薄膜电池吸收层用CuInSe2薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)和其配备的能谱仪(EDS)对CuInSe2薄膜进行分析和表征,对硒化烧结过程中化学反应的可能性进行了热力学计算。结果表明:硒化烧结过程分为三个阶段:二元化合物CuSe和三元化合物CuInSe2的形成均出现在硒化烧结的前两个阶段;第三个阶段主要是CuInSe晶粒长大和薄膜的致密化过程。H气氛在CuInSe薄膜烧结过程中可能起到催化剂的作用。
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关键词
cu
INSE2
cu—in合金
烧结
热力学
下载PDF
职称材料
恒电流电沉积法制备Cu-In薄膜
被引量:
4
2
作者
李健
朱洁
《金属学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第6期667-672,共6页
以金属Ti为阳极,不锈钢薄片和镀Mo玻璃为阴极,采用恒电流电沉积的方法制备了化学计量比为1:1、厚度为 1 μm且致密均匀的Cu-In薄膜.分析了镀液离子浓度、电流密度、络合剂含量及添加剂种类对薄膜成分及形貌的影响.在除电流密度外其它...
以金属Ti为阳极,不锈钢薄片和镀Mo玻璃为阴极,采用恒电流电沉积的方法制备了化学计量比为1:1、厚度为 1 μm且致密均匀的Cu-In薄膜.分析了镀液离子浓度、电流密度、络合剂含量及添加剂种类对薄膜成分及形貌的影响.在除电流密度外其它工艺条件相同的情况下,采用不同阴极材料为衬底沉积Cu-In薄膜时,薄膜形貌、成分无差别,且电流密度对薄膜的形貌和成分控制起着关键的作用.此外,在镀液离子低浓度范围内,及Cu/In离子浓度比不变的前提下,镀液中金属离子总浓度的改变不会影响镀层的成分和形貌;十二烷基硫酸钠和苯亚磺酸钠可作为理想的辅助添加剂,能改善薄膜形貌,使其表面均匀、规整.由该方法制备的Cu-In预置膜可以进一步硒化得到理想的CuInSe2薄膜.
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关键词
cu—in合金
膜
电沉积
表面形貌
合金
成分
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职称材料
题名
粉末涂敷法制备CuInSe_2薄膜的硒化烧结过程研究
被引量:
3
1
作者
聂洪波
王延来
王义民
果世驹
机构
北京科技大学材料科学与工程学院
出处
《粉末冶金技术》
CAS
CSCD
北大核心
2009年第2期132-137,共6页
文摘
用粉末涂敷法在Mo箔上涂敷CuInSe2前驱体薄膜,进而在H2气氛中热处理制备了太阳能薄膜电池吸收层用CuInSe2薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)和其配备的能谱仪(EDS)对CuInSe2薄膜进行分析和表征,对硒化烧结过程中化学反应的可能性进行了热力学计算。结果表明:硒化烧结过程分为三个阶段:二元化合物CuSe和三元化合物CuInSe2的形成均出现在硒化烧结的前两个阶段;第三个阶段主要是CuInSe晶粒长大和薄膜的致密化过程。H气氛在CuInSe薄膜烧结过程中可能起到催化剂的作用。
关键词
cu
INSE2
cu—in合金
烧结
热力学
Keywords
cu
lnSe2
cu
-In alloys
sintering
thermodynamics
分类号
O642.1 [理学—物理化学]
TN304.055 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
恒电流电沉积法制备Cu-In薄膜
被引量:
4
2
作者
李健
朱洁
机构
北京科技大学新金属材料国家重点实验室
出处
《金属学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第6期667-672,共6页
基金
北京科技大学"422高层次创新人才工程"基金资助项目00007411
文摘
以金属Ti为阳极,不锈钢薄片和镀Mo玻璃为阴极,采用恒电流电沉积的方法制备了化学计量比为1:1、厚度为 1 μm且致密均匀的Cu-In薄膜.分析了镀液离子浓度、电流密度、络合剂含量及添加剂种类对薄膜成分及形貌的影响.在除电流密度外其它工艺条件相同的情况下,采用不同阴极材料为衬底沉积Cu-In薄膜时,薄膜形貌、成分无差别,且电流密度对薄膜的形貌和成分控制起着关键的作用.此外,在镀液离子低浓度范围内,及Cu/In离子浓度比不变的前提下,镀液中金属离子总浓度的改变不会影响镀层的成分和形貌;十二烷基硫酸钠和苯亚磺酸钠可作为理想的辅助添加剂,能改善薄膜形貌,使其表面均匀、规整.由该方法制备的Cu-In预置膜可以进一步硒化得到理想的CuInSe2薄膜.
关键词
cu—in合金
膜
电沉积
表面形貌
合金
成分
Keywords
cu
-In alloy film, electrodeposition, surface morphology, alloy composition
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
粉末涂敷法制备CuInSe_2薄膜的硒化烧结过程研究
聂洪波
王延来
王义民
果世驹
《粉末冶金技术》
CAS
CSCD
北大核心
2009
3
下载PDF
职称材料
2
恒电流电沉积法制备Cu-In薄膜
李健
朱洁
《金属学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006
4
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职称材料
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