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导通孔和通孔填孔镀用的CuSO_4电镀工艺“Cu-BRITE TFⅡ”
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作者 蔡积庆(编译) 《印制电路信息》 2009年第12期38-42,共5页
概述了CuSO4电镀工艺"CU-BRITE TFⅡ"的开发和特性,适用于镀铜层填充导通孔和贯通孔。
关键词 导通孔填充 贯通孔填充 cuso4电镀工艺 Cu-BRITE TFⅡ
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