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导通孔和通孔填孔镀用的CuSO_4电镀工艺“Cu-BRITE TFⅡ”
1
作者
蔡积庆(编译)
《印制电路信息》
2009年第12期38-42,共5页
概述了CuSO4电镀工艺"CU-BRITE TFⅡ"的开发和特性,适用于镀铜层填充导通孔和贯通孔。
关键词
导通孔填充
贯通孔填充
cuso4电镀工艺
Cu-BRITE
TFⅡ
下载PDF
职称材料
题名
导通孔和通孔填孔镀用的CuSO_4电镀工艺“Cu-BRITE TFⅡ”
1
作者
蔡积庆(编译)
机构
江苏南京
出处
《印制电路信息》
2009年第12期38-42,共5页
文摘
概述了CuSO4电镀工艺"CU-BRITE TFⅡ"的开发和特性,适用于镀铜层填充导通孔和贯通孔。
关键词
导通孔填充
贯通孔填充
cuso4电镀工艺
Cu-BRITE
TFⅡ
Keywords
via filling
through hole filling
cuso
4
electroplating process
Cu-BRITE TFⅡ
分类号
TN41 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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作者
出处
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1
导通孔和通孔填孔镀用的CuSO_4电镀工艺“Cu-BRITE TFⅡ”
蔡积庆(编译)
《印制电路信息》
2009
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