含N-烷基吲哚环方酸菁染料的合成及性能

本文合成了七个Ｎ－烷基取代吲哚环的方酸菁染料，通过红外光谱、核磁共振氢谱、质谱与元素分析确认其结构．测定它们的电子吸收光谱、熔点、溶解度和光褪色．结果表明共轭链上引入方酸桥环提高了光稳定性，Ｎ－烷基对染料的λｍａｘ的影响很小，但较大地改进了溶解度与熔点，带有支链的烷基有更好的溶解性能．

含喹啉环端基不对称三甲川菁的合成与性能

含喹啉环端基不对称三甲川菁的合成与性能姚祖光，陈峡华，张清华（华东理工大学精细化工研究所，上海，２００２３７）关键词菁，电子吸收光谱，光稳定性，光谱增感菁染料是一种卤化银乳剂的有效光谱增感剂［１］，近年来随着光源的变化，特别是半导体激光器的研制成功，...

氯取代硫三碳菁染料的合成及性能

本文合成了七个硫三碳菁.其中四个具有桥环的菁染料。测定了它们的电子吸收光谱,讨论了结构对光稳定性的影响。并发现镍络合物能有效地抑制菁染料的光退色。