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The interface of SiO_2/ZnS films studied by high resolution X-ray photoluminescence
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作者 Shinjita Acharya Orlando Trejo +3 位作者 Anup Dadlani Jan Torgersen Filippo Berto Fritz Prinz 《Theoretical & Applied Mechanics Letters》 CAS CSCD 2018年第1期24-27,共4页
Sharp interfaces in optoelectronic devices are key for proper band alignment. Despite its benefits as buffer layer, ZnS deposited via atomic layer deposition(ALD) renders intermixed interfaces to its substrate, which ... Sharp interfaces in optoelectronic devices are key for proper band alignment. Despite its benefits as buffer layer, ZnS deposited via atomic layer deposition(ALD) renders intermixed interfaces to its substrate, which can be detrimental for device performance. Here, we are attempting to elucidate the chemical species deriving from this metal-oxide to metal-sulfide transition studying ultrathin film ZnS on SiO_2 using high resolution X-ray photoluminescence spectroscopy(XPS).Regarding the S 2p spectra after a deposition of only three cycles of ZnS, we discover the many different chemical species in which S is present. These include intermediate oxides such as SO_4^(2-).These species become more obvious as we tilt the sample in the XPS chamber to shallower angles.Comparing the Si 2p and S 2p high resolution peaks in the depth profile, one can clearly uncover the confinement of SO_4^(2-) to the interface of the underlying substrate. This may indicate that SiO_2/ZnS interfaces contain interfacial sulphates that likely alter the electronic configuration of this interface. 展开更多
关键词 atomic Layer Deposition Metal-Sulfide Zinc SULFIDE interface High resolution X-RAY PHOTOLUMINESCENCE spectroscopy
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铸造锌铝合金稀土变质机制的电子理论研究 被引量:2
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作者 刘贵立 李荣德 《中国稀土学报》 CAS CSCD 北大核心 2003年第5期554-557,共4页
根据分子动力学理论建立了液态锌铝合金ZA27的模型,结合计算机编程构造出了ZA27合金相与液相共存时的原子结构模型,利用Recursion方法计算了稀土固溶于晶粒内和富集于晶界前沿时的电子结构。由此得出:稀土处于相界区比在晶内更稳定,从... 根据分子动力学理论建立了液态锌铝合金ZA27的模型,结合计算机编程构造出了ZA27合金相与液相共存时的原子结构模型,利用Recursion方法计算了稀土固溶于晶粒内和富集于晶界前沿时的电子结构。由此得出:稀土处于相界区比在晶内更稳定,从而解释了稀土在相内溶解度很小,结晶时富集于相界前沿液体中的事实;稀土处于液态和晶态的结构能差相对于铝较大,解释了稀土在晶界前的富集使晶枝产生熔断、游离、增殖的观点。原子间的键级积分计算也表明,稀土处于晶界前沿液体中与铝相比不容易结晶到晶体表面,起到阻碍晶粒长大,细化晶粒的作用,这就从电子层次解释了稀土的变质机制。 展开更多
关键词 金属材料 相与液相相界原子结构模型 Recursion方法 电子结构 稀土变质机制 稀土
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基于AlON的4H-SiC MOS高k栅介质电性能
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作者 夏经华 桑玲 +5 位作者 查祎英 杨霏 吴军民 王世海 万彩萍 许恒宇 《微纳电子技术》 北大核心 2020年第9期714-719,共6页
提高栅介质的界面质量和可靠性一直是功率碳化硅金属氧化物半导体(MOS)器件研发的核心任务之一。基于原子层沉积(ALD)技术,在n型4H-SiC上沉积了Al基高介电常数(k)栅介质材料AlON。在不同沉积后退火(PDA)温度下制备了AlON/4H-SiC MOS电容... 提高栅介质的界面质量和可靠性一直是功率碳化硅金属氧化物半导体(MOS)器件研发的核心任务之一。基于原子层沉积(ALD)技术,在n型4H-SiC上沉积了Al基高介电常数(k)栅介质材料AlON。在不同沉积后退火(PDA)温度下制备了AlON/4H-SiC MOS电容,对制备的AlON/4H-SiC MOS电容进行了高-低频电容-电压特性测试,并开展了介质零时击穿(TZDB)实验。发现当PDA温度为800℃时,得到的AlON/4H-SiC MOS电容有着较低的界面态密度、栅极电流密度和较高的介电击穿电场强度,表明经过合适的PDA工艺后,基于AlON高k栅介质材料的4H-SiC MOS器件栅介质的界面态密度得到显著降低,栅介质的介电性能和可靠性得到提高。 展开更多
关键词 4H-SIC 金属氧化物半导体(MOS)电容 原子层沉积(ALD) ALON 界面态 介质零时击穿(TZDB) 高k栅介质材料
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原子探针的发展及其对金属内界面的研究 被引量:2
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作者 朱逢吾 职任涛 张瑗 《物理》 CAS 1999年第10期624-629,共6页
简要介绍了原子探针,特别是三维原子探针(3 D A P) 的最新发展及其特点.3 D A P 在探测到单个原子位置的同时能鉴别其种类,因而几乎能以原子分辨力显示出材料中大部分原子在实空间中的三维分布.文章举例说明了常规 A ... 简要介绍了原子探针,特别是三维原子探针(3 D A P) 的最新发展及其特点.3 D A P 在探测到单个原子位置的同时能鉴别其种类,因而几乎能以原子分辨力显示出材料中大部分原子在实空间中的三维分布.文章举例说明了常规 A P 和3 D A P 展开更多
关键词 三维 原子探针 金属内界面 原子分辨力
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