期刊文献+
共找到40篇文章
< 1 2 >
每页显示 20 50 100
Diagnosis of gas phase near the substrate surface in diamond film deposition by high-power DC arc plasma jet CVD
1
作者 Zuyuan Zhou Guangchao Chen +2 位作者 Bin Li Weizhong Tang Fanxiu Lv 《Journal of University of Science and Technology Beijing》 CSCD 2007年第4期365-368,共4页
Optical emission spectroscopy (OES) was used to study the gas phase composition near the substrate surface during diamond deposition by high-power DC arc plasma jet chemical vapor deposition (CVD). C2 radical was ... Optical emission spectroscopy (OES) was used to study the gas phase composition near the substrate surface during diamond deposition by high-power DC arc plasma jet chemical vapor deposition (CVD). C2 radical was determined as the main carbon radical in this plasma atmosphere. The deposition parameters, such as substrate temperature, anode-substrate distance, methane concentration, and gas flow rate, were inspected to find out the influence on the gas phase. A strong dependence of the concentrations and distribution of radicals on substrate temperature was confirmed by the design of experiments (DOE). An explanation for this dependence could be that radicals near the substrate surface may have additional ionization or dissociation and also have recombination, or are consumed on the substrate surface where chemical reactions occur. 展开更多
关键词 gas phase diamond film optical emission spectroscopy substrate surface high power dc arc plasma jet chemical vapor deposition
下载PDF
Optical characterization of single-crystal diamond grown by DC arc plasma jet CVD
2
作者 Li-fu Hei Yun Zhao +3 位作者 Jun-jun Wei Jin-long Liu Cheng-ming Li Fan-xiu Lü 《International Journal of Minerals,Metallurgy and Materials》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第12期1424-1430,共7页
Optical centers of single-crystal diamond grown by DC arc plasma jet chemical vapor deposition(CVD) were examined using a low-temperature photoluminescence(PL) technique. The results show that most of the nitrogen-vac... Optical centers of single-crystal diamond grown by DC arc plasma jet chemical vapor deposition(CVD) were examined using a low-temperature photoluminescence(PL) technique. The results show that most of the nitrogen-vacancy(NV) complexes are present as NV-centers, although some H2 and H3 centers and B-aggregates are also present in the single-crystal diamond because of nitrogen aggregation resulting from high N_2 incorporation and the high mobility of vacancies under growth temperatures of 950–1000°C. Furthermore, emissions of radiation-induced defects were also detected at 389, 467.5, 550, and 588.6 nm in the PL spectra. The reason for the formation of these radiation-induced defects is not clear. Although a Ni-based alloy was used during the diamond growth, Ni-related emissions were not detected in the PL spectra. In addition, the silicon-vacancy(Si-V)-related emission line at 737 nm, which has been observed in the spectra of many previously reported microwave plasma chemical vapor deposition(MPCVD) synthetic diamonds, was absent in the PL spectra of the single-crystal diamond prepared in this work. The high density of NV-centers, along with the absence of Ni-related defects and Si-V centers, makes the single-crystal diamond grown by DC arc plasma jet CVD a promising material for applications in quantum computing. 展开更多
关键词 DIAMOND single CRYSTALS direct current arc plasma JET chemical vapor deposition PHOTOLUMINESCENCE optical SPECTRA
下载PDF
Synthesis of carbon nanotube array using corona discharge plasma-enhanced chemical vapor deposition
3
作者 LIMingwei LUYinong 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 2003年第6期534-537,共4页
A corona discharge plasma-enhanced chemical vapor deposition with the features of atmospheric pressure and low temperature has been developed to synthesize the carbon nanotube array. The array was synthesized from met... A corona discharge plasma-enhanced chemical vapor deposition with the features of atmospheric pressure and low temperature has been developed to synthesize the carbon nanotube array. The array was synthesized from methane and hydrogen mixture in anodic aluminum oxide template channels in that cobalt was electrodeposited at the bottom. The characterization results by the scanning elec-tron microscopy, transmission electron microscopy, energy dispersive X-ray spectroscopy and Raman spectroscopy in-dicate that the array consists of carbon nanotubes with the diameter of about 40 nm and the length of more than 4 mm, and the carbon nanotubes are mainly restrained within the channels of templates. 展开更多
关键词 电晕放电等离子体 增强化学汽相沉积 碳纳米管阵列 合成方法 阳极氧化铝模板
原文传递
直流电弧等离子体喷射(DCPJ)法在沉积金刚石膜上的应用 被引量:1
4
作者 翟华嶂 曹传宝 朱鹤孙 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第1期32-34,共3页
直流电弧等离子体喷射法是制备金刚石膜的一项很有前途的技术。综述了直流电弧等离子体喷射法的原理、进展状况、工艺上的改进和建立机理模型上的努力。
关键词 等离子体喷射 化学气相沉积 金刚石 薄膜 dcPJ
下载PDF
甲烷浓度对等离子喷射金刚石厚膜生长稳定性的影响 被引量:6
5
作者 陈荣发 左敦稳 +3 位作者 李多生 相炳坤 赵礼刚 王珉 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第10期1091-1094,共4页
采用高功率直流电弧等离子体CVD工艺制备了不同厚度的无裂纹自支撑金刚石厚膜.实验中观察到在金刚石厚膜生长过程中出现了形貌不稳定性,其程度随甲烷浓度的不同而变化.从理论和实验两个方面对这种不稳定性进行了讨论,认为直流电弧等离... 采用高功率直流电弧等离子体CVD工艺制备了不同厚度的无裂纹自支撑金刚石厚膜.实验中观察到在金刚石厚膜生长过程中出现了形貌不稳定性,其程度随甲烷浓度的不同而变化.从理论和实验两个方面对这种不稳定性进行了讨论,认为直流电弧等离子体的高温造成碳源高饱和度是生长不稳定性的根本原因.实验结果表明,在沉积金刚石厚膜时,为了稳定地获得高质量的厚膜,甲烷浓度不宜过高. 展开更多
关键词 金刚石厚膜 生长稳定性 甲烷浓度 直流等离子喷射 化学汽相沉积
下载PDF
直流弧光放电等离子体CVD金刚石薄膜中的晶体类型与特征 被引量:4
6
作者 张湘辉 汪灵 +2 位作者 龙剑平 常嗣和 周九根 《矿物岩石》 CAS CSCD 北大核心 2005年第3期100-104,共5页
采用自主研制的直流弧光放电等离子体CVD设备,以甲烷和氢气为气源,在YG 6硬质合金基体上制备出主显晶面为(100)、(111)以及纳米晶粒的金刚石薄膜涂层。SEM观测其晶体类型主要为立方体、八面体、立方八面体,其中以立方八面体为主。随着... 采用自主研制的直流弧光放电等离子体CVD设备,以甲烷和氢气为气源,在YG 6硬质合金基体上制备出主显晶面为(100)、(111)以及纳米晶粒的金刚石薄膜涂层。SEM观测其晶体类型主要为立方体、八面体、立方八面体,其中以立方八面体为主。随着碳源气体浓度的增加,金刚石晶体的形态会呈现从八面体-立方八面体-立方体顺序转变的趋势;而薄膜的表面形貌呈现从主显(111)晶面-(111)与(100)晶面混杂-主显(100)晶面顺序转变的特征。此外,CVD金刚石薄膜中还存在有许多类似接触孪晶、贯穿孪晶、复合孪晶,以及球形或聚晶晶粒形态的晶体,并且多数孪晶属于类似{111}复合孪晶结构。 展开更多
关键词 金刚石 金刚石薄膜 直流弧光放电等离子体CVD YG6硬质合金 晶体类型
下载PDF
氩气对直流弧光放电PCVD金刚石薄膜晶体特征的影响 被引量:7
7
作者 张湘辉 汪灵 +1 位作者 龙剑平 常嗣和 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期130-134,共5页
本文采用自主研制的直流弧光放电等离子体CVD设备,在YG6硬质合金基体上进行了不同氩气流量下金刚石薄膜的制备研究。采用SEM对金刚石薄膜的晶体特征进行了观察。结果表明,氩气对直流弧光放电等离子体CVD金刚石薄膜的晶体特征有明显影响... 本文采用自主研制的直流弧光放电等离子体CVD设备,在YG6硬质合金基体上进行了不同氩气流量下金刚石薄膜的制备研究。采用SEM对金刚石薄膜的晶体特征进行了观察。结果表明,氩气对直流弧光放电等离子体CVD金刚石薄膜的晶体特征有明显影响。在CH4/H2恒定时(0.8%),硬质合金基体上制备的金刚石薄膜表面形貌随Ar流量增加而变化的规律,即从以(111)八面体晶面为主→(111)和(100)立方八面体混杂晶面→以(100)立方体晶面为主→菜花状的顺序转变;当Ar流量为420~700mL/min时,金刚石晶粒的平均尺寸由1.5μm逐步增大到7μm;Ar流量为700~910mL/min时,金刚石晶粒的平均尺寸由7μm急剧减小到纳米尺度,约50nm。 展开更多
关键词 金刚石薄膜 晶体特征 直流弧光放电等离子体CVD
下载PDF
热阴极辉光放电对金刚石膜沉积的影响 被引量:8
8
作者 白亦真 金曾孙 +1 位作者 姜志刚 韩雪梅 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第5期537-540,共4页
研究了在热阴极辉光放电等离子体化学气相沉积金刚石膜过程中,热阴极辉光放电特性与金刚石膜沉积工艺的关系。结果表明,适当的阴极温度是保证大电流、高气压辉光放电的必要条件。阴极的温度影响辉光放电阴极位降区的放电性质。金刚石膜... 研究了在热阴极辉光放电等离子体化学气相沉积金刚石膜过程中,热阴极辉光放电特性与金刚石膜沉积工艺的关系。结果表明,适当的阴极温度是保证大电流、高气压辉光放电的必要条件。阴极的温度影响辉光放电阴极位降区的放电性质。金刚石膜的沉积速率随着气体压力(16~20 kPa)的升高而上升,在18.6 kPa左右出现最高值,而阳极位降区电场强度的降低使膜品质下降。放电电流(8~12 A)对沉积速率的影响与气体压力的影响具有相似的规律。 展开更多
关键词 无机非金属材料 热阴极 等离子体化学气相沉积 辉光放电 金刚石膜
下载PDF
类金刚石膜结构的红外分析 被引量:8
9
作者 程宇航 吴一平 +3 位作者 陈建国 乔学亮 谢长生 孙育斌 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第4期508-512,共5页
采用直流-射频等离子化学气相沉积方法制备出类金刚石薄膜,用Fourier透射谱和吸收谱对类金刚石膜的结构进行了研究.类金刚石膜中大部分碳原子以sp3组态存在.结合在膜中的氢原子与碳原子之间可形成sp3C—CH2,sp... 采用直流-射频等离子化学气相沉积方法制备出类金刚石薄膜,用Fourier透射谱和吸收谱对类金刚石膜的结构进行了研究.类金刚石膜中大部分碳原子以sp3组态存在.结合在膜中的氢原子与碳原子之间可形成sp3C—CH2,sp3C—CH3和sp2C—CH2基,其含量以sp3C—CH2基为主.增加Ar气分压与提高极板负偏压对类金刚石膜结构产生的影响是相似的,增大极板负偏压或Ar气的含量将减小类金刚石膜中sp3/sp2比值和H的含量以及CH2基的含量,同时增加薄膜的交联,减少聚合相的含量. 展开更多
关键词 类金刚石薄膜 结构 红外光谱 气相沉积
下载PDF
两种不同制备方法的多壁碳纳米管光学性质的对比 被引量:5
10
作者 袁艳红 柯磊 杨党强 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第6期645-648,共4页
分别采用化学气相沉积法和电弧放电法制备了多壁碳纳米管.利用扫描电镜测量了两种不同方法所制备样品的形貌,并在室温下测量了这两种样品的喇曼光谱、吸收光谱和光致发光光谱.结果显示:电弧法所制的纳米管管径较小,且纳米管相互缠绕明显... 分别采用化学气相沉积法和电弧放电法制备了多壁碳纳米管.利用扫描电镜测量了两种不同方法所制备样品的形貌,并在室温下测量了这两种样品的喇曼光谱、吸收光谱和光致发光光谱.结果显示:电弧法所制的纳米管管径较小,且纳米管相互缠绕明显;两种样品的喇曼光谱中均存在D模和G模,但化学气相沉积法制备的碳管的结构更完美,石墨化程度和碳管纯度更高;两种样品都在250nm处有一个强的吸收峰,当采用共振激发时,两种样品均在480nm处有带状发射光谱,而用550nm的光激发时,化学气相沉积法制备的多壁碳纳米管在820nm处具有光致发光,电弧法制备的样品在此波段则无光致发光. 展开更多
关键词 多壁碳纳米管 化学气相沉积法 电弧放电法 光学性质
下载PDF
直流弧光放电PCVD金刚石膜制备中基底控温系统的研制与应用 被引量:4
11
作者 张湘辉 汪灵 龙剑平 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第1期75-82,共8页
基于直流弧光放电PCVD金刚石薄膜沉积设备的特点,设计开发了基底自动控温系统。将该系统应用于金刚石薄膜的制备中,并采用SEM、Raman光谱等测试方法对所制备的薄膜的形貌、品质进行了表征。结果证明该系统具有较好的稳定性,其应用时所... 基于直流弧光放电PCVD金刚石薄膜沉积设备的特点,设计开发了基底自动控温系统。将该系统应用于金刚石薄膜的制备中,并采用SEM、Raman光谱等测试方法对所制备的薄膜的形貌、品质进行了表征。结果证明该系统具有较好的稳定性,其应用时所制备的金刚石薄膜的品质明显得到提高,具有广泛的应用前景。 展开更多
关键词 直流弧光放电 等离子体CVD 金刚石薄膜 基底托架 温度自动控制
下载PDF
采用空心阴极放电等离子体化学气相沉积方法制备a-CH薄膜 被引量:2
12
作者 陈志梅 吴卫东 +3 位作者 唐永建 许华 唐晓虹 李常明 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期611-614,共4页
 研究了不同衬底 阴极距离、直流电压和H2流量对a CH薄膜沉积速率的影响。结果表明:衬底 阴极距离必须大于0.5cm,随着该距离的增加,薄膜的沉积速率减少;直流电压达550V时沉积速率最大;随着H2含量的增加,CH4含量相对减少,沉积速率随之...  研究了不同衬底 阴极距离、直流电压和H2流量对a CH薄膜沉积速率的影响。结果表明:衬底 阴极距离必须大于0.5cm,随着该距离的增加,薄膜的沉积速率减少;直流电压达550V时沉积速率最大;随着H2含量的增加,CH4含量相对减少,沉积速率随之降低。用AFM观察了以该方法制得的448.4nmCH薄膜的表面形貌,表面粗糙度约为10nm。最后测出了不同条件下CH薄膜的UV VIS谱,由此可以计算得到薄膜的禁带宽度及折射率。 展开更多
关键词 等离子体 化学气相沉积 空心阴极放电 CH薄膜
下载PDF
直流电弧等离子体CVD金刚石膜工艺参数优化 被引量:3
13
作者 张鬲君 苗晋琦 钟国防 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2008年第3期70-73,共4页
为了研究工艺对CVD金刚石膜生长的影响,本文采用电镜、激光Raman谱分析等手段研究工艺参数对CVD金刚石膜生长速率和生长质量的影响。结果显示:金刚石薄膜的生长速率随甲烷浓度(3%-10%)、基片温度(800-1200℃)的增加而增加,随工作... 为了研究工艺对CVD金刚石膜生长的影响,本文采用电镜、激光Raman谱分析等手段研究工艺参数对CVD金刚石膜生长速率和生长质量的影响。结果显示:金刚石薄膜的生长速率随甲烷浓度(3%-10%)、基片温度(800-1200℃)的增加而增加,随工作气压的升高先是增加,而后降低,峰值在15-20 kPa处。金刚石薄膜中非金刚石碳的相对含量先随基片温度的增加逐渐降低,在1080-1100℃达到最小值以后又开始急剧增加,膜的质量(结晶形态好和非金刚石碳的相对含量少)在1080-1100℃处达到最佳。 展开更多
关键词 直流电弧等离子体喷射 化学气相沉积 金刚石膜 工艺参数
下载PDF
掺杂C_(60)薄膜的制备及光电特性 被引量:1
14
作者 邹云娟 宋雪梅 +2 位作者 王波 陈光华 严辉 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第4期359-363,共5页
在电弧法制备的过程中添加氮气或B2O3 粉末,制备了氮、硼替位式掺杂C60 。硼掺杂和氮掺杂C60 均显示明显的半导体导电特性,且室温电导率比未掺杂C60 薄膜提高1 ~2 个量级。用共蒸发的方法制备出了硫掺杂C60 薄膜... 在电弧法制备的过程中添加氮气或B2O3 粉末,制备了氮、硼替位式掺杂C60 。硼掺杂和氮掺杂C60 均显示明显的半导体导电特性,且室温电导率比未掺杂C60 薄膜提高1 ~2 个量级。用共蒸发的方法制备出了硫掺杂C60 薄膜,其电导率~温度曲线中存在一个过渡区,过渡区两侧表现出明显的半导体导电特性,这与掺入C60 薄膜中的硫杂质的存在状态有关。其室温电导率比掺杂前提高4个量级,光致发光也明显增强。另外还报道了用离子注入和射频等离子体辅助真空沉积的方法制备掺杂C60 薄膜的初步结果。 展开更多
关键词 掺杂 电导率 碳60 光电性 薄膜 半导体
下载PDF
基底温度控制方式对直流弧光放电PCVD金刚石膜的影响 被引量:2
15
作者 张湘辉 汪灵 龙剑平 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第6期1554-1560,共7页
如何精确、高效地实现对基底温度的测控,并获得优化的温度参数,对于CVD金刚石制备技术至关重要。本文采用自主研制的具有新型基底温度自动控制系统的直流弧光放电PCVD设备,分别进行了基底温度开环、闭环及开闭环复合控制下的金刚石薄膜... 如何精确、高效地实现对基底温度的测控,并获得优化的温度参数,对于CVD金刚石制备技术至关重要。本文采用自主研制的具有新型基底温度自动控制系统的直流弧光放电PCVD设备,分别进行了基底温度开环、闭环及开闭环复合控制下的金刚石薄膜制备研究,并采用SEM,激光Raman光谱仪对所制备薄膜的形貌品质进行了分析。研究结果表明:基底温控方式的不同会明显影响CVD金刚石膜的晶体、生长特征及品质,尤其造成了薄膜生长中二次形核密度以及非金刚石成分的显著变化;在保证系统稳定运行的前提下,当其它沉积参数恒定时,受控下的基底温度控制精度及控制品质的实时变化是影响CVD金刚石膜生长性能的主要因素,其中控制精度介于±5℃~±15℃间变化,而控制品质受控制方式的影响较大;相对于控制精度而言,控制品质的变化对常规金刚石薄膜生长性能的影响更为明显。对于此系统,只有采用开-闭环复合控制,且开环流量维持在其单独工作流量的20%时,才能保证基底温度控制精度、控制品质及所制备的CVD金刚石薄膜的质量最佳。 展开更多
关键词 直流弧光放电PCVD法 金刚石薄膜 基底温度 开环、闭环及开闭环复合控制方式
下载PDF
射频放电辅助热丝CVD金刚石生长速率的研究 被引量:1
16
作者 孙心瑗 周灵平 +2 位作者 李宇农 易学华 陈本敬 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期460-463,共4页
在传统的HFCVD系统中,引入射频电源后,通过与灯丝或者衬底的连接,组成了射频放电辅助下的四种不同沉积金刚石的生长模式。在各种生长模式下,分别以酒精和丙酮为碳源,沉积出了金刚石多晶球,并就不同辅助模式下的金刚石的生长速率进行了... 在传统的HFCVD系统中,引入射频电源后,通过与灯丝或者衬底的连接,组成了射频放电辅助下的四种不同沉积金刚石的生长模式。在各种生长模式下,分别以酒精和丙酮为碳源,沉积出了金刚石多晶球,并就不同辅助模式下的金刚石的生长速率进行了研究。结果表明,等离子体增强法能够明显促进金刚石的生长,而电子促进法的生长速率最慢,甚至慢于偏压等离子体的生长速率;与等离子体促进增强法相比,偏压等离子体增强法的生长速率也有所变慢,并且随着偏压射频电流的增大,其生长速率越来越慢;而传统热丝法的生长速率与沉积金刚石时所选用碳源的分子结构有很大的关系。 展开更多
关键词 金刚石多晶球 射频放电 等离子体增强 热丝化学气相沉积
下载PDF
直流辉光放电CVD法均匀生长纳米金刚石薄膜的研究 被引量:1
17
作者 游志恒 满卫东 +5 位作者 吕继磊 阳硕 何莲 徐群峰 白华 江南 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第10期2746-2750,共5页
采用直流辉光放电化学气相沉积设备,以H2/CH4/Ar混合气体为工作气体,在2英寸硅片沉积出了晶粒尺寸为20~40 nm的纳米金刚石薄膜。采用SEM、Raman、微摩擦试验机等分析了不同CH4浓度、Ar浓度对NCD薄膜生长特性的影响。研究结果表明:金刚... 采用直流辉光放电化学气相沉积设备,以H2/CH4/Ar混合气体为工作气体,在2英寸硅片沉积出了晶粒尺寸为20~40 nm的纳米金刚石薄膜。采用SEM、Raman、微摩擦试验机等分析了不同CH4浓度、Ar浓度对NCD薄膜生长特性的影响。研究结果表明:金刚石薄膜的晶粒尺寸随着CH4浓度的增加而减小,但是过高的CH4浓度会导致石墨相大量生成;随着Ar浓度的增加,金刚石薄膜的晶粒尺寸逐渐细化,但过量Ar的掺入会降低金刚石薄膜的质量;在合适的工艺参数下,薄膜摩擦系数最低可以降低到0.12,NCD薄膜的最大沉积直径为140 mm。 展开更多
关键词 直流辉光放电 化学气相沉积 纳米金刚石 摩擦系数
下载PDF
碳纳米管的性质和制备方法 被引量:3
18
作者 姜靖雯 彭峰 《广州化工》 CAS 2003年第2期1-3,43,共4页
较全面地介绍了碳纳米管的性质,综述了近年来碳纳米管的制备方法,尤其是对电弧法和化学气相沉积法的进展进行了介绍。
关键词 碳纳米管 性质 制备方法 电弧法 化学气相沉积法
下载PDF
用直流等离子化学气相沉积法在硬质合金上沉积氮化钛膜的研究 被引量:4
19
作者 戴达煌 谢红希 +3 位作者 侯惠君 黄邵江 刘兴诚 代明江 《广东有色金属学报》 1996年第2期119-124,共6页
用直流等离子化学气相沉积法在硬质合金上沉积TiN膜,研究了沉积工艺参数对膜层结构、膜层成分、断口形貌和膜层硬度的影响.结果表明,在500~700℃温度范围内,可以沉积出单相的TiN膜,膜层结构致密,硬度可达Hv215... 用直流等离子化学气相沉积法在硬质合金上沉积TiN膜,研究了沉积工艺参数对膜层结构、膜层成分、断口形貌和膜层硬度的影响.结果表明,在500~700℃温度范围内,可以沉积出单相的TiN膜,膜层结构致密,硬度可达Hv21560N/mm2.在500片刀片装炉量的情况下,沉积室中不同部位的刀片均可得到相同结构和优异性能的膜层,因此采用此沉积法可以实现批量化生产. 展开更多
关键词 化学气相沉积法 硬质合金 氮化钛 镀膜
下载PDF
直流辉光放电等离子体增强化学气相法制备金刚石及氮化碳薄膜
20
作者 于威 王淑芳 +4 位作者 丁学成 韩理 刘志强 张连水 傅广生 《河北大学学报(自然科学版)》 CAS 2000年第1期78-82,共5页
采用直流辉光放电等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术方法 ,在Si(100)衬底上制备了金刚石薄膜 。
关键词 直流辉光放电 化学气相沉积 金刚石 氮化碳
下载PDF
上一页 1 2 下一页 到第
使用帮助 返回顶部