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Nitrogen Removal from Molten Steel under Argon DC Glow Plasma
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作者 SUNMing-shan DINGWei-zhong LUXiong-gang 《Journal of Iron and Steel Research International》 SCIE CAS CSCD 2005年第4期6-8,共3页
Under argon DC glow plasma, the nitrogen removal from molten steel was studied. The experimental result showed that nitrogen mass percent could be reduced to 0000 8%. The change of polarity had no impact on nitrogen r... Under argon DC glow plasma, the nitrogen removal from molten steel was studied. The experimental result showed that nitrogen mass percent could be reduced to 0000 8%. The change of polarity had no impact on nitrogen removal when the nitrogen mass percent was low. The mechanism of denitrogenation of molten steel under argon DC glow plasma was discussed. 展开更多
关键词 argon dc glow plasma nitrogen removal molten steel KINETIC
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Characterization of a New DC-Glow Discharge Plasma Set-Up to Enhance the Electronic Circuits Performance 被引量:1
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作者 A. A. Talab Ashraf Yahia +1 位作者 M. A. Saudy M. Elsayed 《Journal of Modern Physics》 2020年第7期1044-1057,共14页
The (DC-GDPAU) is a DC glow discharge plasma experiment that was designed, established, and operated in the Physics Department at Ain Shams University (Egypt). The aim of this experiment is to study and improve some p... The (DC-GDPAU) is a DC glow discharge plasma experiment that was designed, established, and operated in the Physics Department at Ain Shams University (Egypt). The aim of this experiment is to study and improve some properties of a printed circuit board (PCB) by exposing it to the plasma. The device consists of cylindrical discharge chamber with movable parallel circular copper electrodes (cathode and anode) fixed inside it. The distance between them is 12 cm. This plasma experiment works in a low-pressure range (0.15 - 0.70 Torr) for Ar gas with a maximum DC power supply of 200 W. The Paschen curves and electrical plasma parameters (current, volt, power, resistance) characterized to the plasma have been measured and calculated at each cm between the two electrodes. Besides, the electron temperature and ion density are obtained at different radial distances using a double Langmuir probe. The electron temperature (<em>KT<sub>e</sub></em>) was kept stable in range 6.58 to 10.44 eV;whereas the ion density (<em>ni</em>) was in range from 0.91 × 10<sup>10</sup> cm<sup><span style="white-space:nowrap;">&minus;</span>3</sup> to 1.79 × 10<sup>10</sup> cm<sup><span style="white-space:nowrap;">&minus;</span>3</sup>. A digital optical microscope (800×) was employed to draw a comparison between the pre-and after effect of exposure to plasma on the shaping of the circuit layout. The experimental results show that the electrical conductivity increased after plasma exposure, also an improvement in the adhesion force in the Cu foil surface. A significant increase in the conductivity can be directly related to the position of the sample surfaces as well as to the time of exposure. This shows the importance of the obtained results in developing the PCBs manufacturing that uses in different microelectronics devices like those onboard of space vehicles. 展开更多
关键词 dc glow Discharge Paschen Curve Cold plasma Characteristics Double Electric Probe Printed Circuit Board (PCB) Properties Electronic plasma Application
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DC Plasma Technology Applied to Powder Metallurgy: an Overview 被引量:1
3
作者 A. N. KLEIN R. P. CARDOSO +7 位作者 H. C. PAVANATI C. BINDER A. M. MALISKA G. HAMMES D. FUSAO A. SEEBER S. F. BRUNATTO J. L. R. MUZART 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第1期70-81,共12页
DC plasma is a very promising technology for processing different materials, and is becoming especially interesting when low environmental impact and high-performance treatments are needed. Some of the intrinsic chara... DC plasma is a very promising technology for processing different materials, and is becoming especially interesting when low environmental impact and high-performance treatments are needed. Some of the intrinsic characteristics of DC plasma technology, which make it suitable for powder metallurgy (PM) and powder injection molding (PIM) parts production, are low- pressure processing and plasma environment high reactivity. Moreover it can be considered as a highly competitive green technology. In this work, an overview of some of the important DC plasma techniques applied to PM and PIM parts processing is presented. Emphasis is given to the descriptions of the main characteristics and the technique potentials of plasma-assisted nitriding, plasma-assisted thermal debinding, plasma-assisted sintering, and simultaneously plasma-assisted sintering and surface alloying. The aspects presented and discussed in this paper indicate that DC plasma processes are promising and competitive techniques for PM and PIM parts processing. 展开更多
关键词 powder metallurgy dc glow discharge plasma nitriding plasma sintering plasma-assisted thermal debinding surface alloying
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Self-Consistent Model for Pulsed Direct-Current N_2 Glow Discharge
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作者 刘成森 王德真 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2005年第2期2745-2747,共3页
A self-consistent analysis of a pulsed direct-current (DC) N2 glow discharge is presented. The model is based on a numerical solution of the continuity equations for electron and ions coupled with Poisson's equati... A self-consistent analysis of a pulsed direct-current (DC) N2 glow discharge is presented. The model is based on a numerical solution of the continuity equations for electron and ions coupled with Poisson's equation. The spatial-temporal variations of ionic and electronic densities and electric field are obtained. The electric field structure exhibits all the characteristic regions of a typical glow discharge (the cathode fall, the negative glow, and the positive column). Current-voltage characteristics of the discharge can be obtained from the model. The calculated current-voltage results using a constant secondary electron emission coefficient for the gas pressure 133.32 Pa are in reasonable agreement with experiment. 展开更多
关键词 pulsed dc glow discharge plasma nitriding self-consistent model
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双辉等离子渗铬界面层对类石墨碳基涂层力学及磨蚀性能的影响
5
作者 闫江山 郭鹏 +7 位作者 林乃明 张应鹏 马冠水 周小卉 汪汝佳 严凯 李小凯 汪爱英 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第1期169-181,共13页
目的 研究渗铬界面层对铬/类石墨碳(Cr/Graphite-Like Carbon,GLC)复合涂层力学性能、结合强度及磨蚀行为的影响,阐明Cr/GLC复合涂层的抗磨蚀机理。方法 以316L不锈钢(316L)为基体,先借助双辉等离子表面合金化(DGPSA)技术制备渗铬界面层... 目的 研究渗铬界面层对铬/类石墨碳(Cr/Graphite-Like Carbon,GLC)复合涂层力学性能、结合强度及磨蚀行为的影响,阐明Cr/GLC复合涂层的抗磨蚀机理。方法 以316L不锈钢(316L)为基体,先借助双辉等离子表面合金化(DGPSA)技术制备渗铬界面层,再采用直流磁控溅射(DCMS)技术制备顶层GLC涂层。利用扫描电子显微镜(SEM)、共聚焦显微拉曼光谱仪(Raman)和X射线衍射仪(XRD)表征涂层的微结构与成分,采用纳米压痕仪、划痕仪、摩擦磨损仪和电化学工作站测试复合涂层的力学性能、断裂韧性、结合强度和抗磨蚀性能。结果 渗铬界面层能够促进GLC涂层的石墨化转变,实现硬度分布的梯度变化(基体为3.65 GPa,渗铬界面层为8.97 GPa,表面为13.15 GPa),有效阻碍了裂纹的扩展。与GLC涂层相比,Cr/GLC复合涂层具有较高的断裂韧性和结合强度(≥50 N),在3.5%NaCl溶液中具有更低的摩擦系数(0.055)和更低的磨损率(3.22×10^(-7)mm^(3)/Nm),其抗腐蚀性和化学稳定性也明显更优。结论 通过界面设计,实现了Cr/GLC复合涂层硬度分布的梯度过渡,提高了复合涂层的断裂韧性以及与316L的结合强度,赋予了复合涂层优异的抗磨蚀性能,为其在海洋苛刻环境下的磨蚀防护提供了有益借鉴。 展开更多
关键词 双辉等离子表面合金化 直流磁控溅射 类石墨碳 渗铬界面层 结合强度 磨蚀
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直流辉光和磁控增强放电等离子体的空间分辨发射光谱技术 被引量:3
6
作者 于红 张家良 +2 位作者 任春生 王友年 马腾才 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期255-259,共5页
光学发射光谱 (OES)方法是等离子体诊断的有力工具之一 ,可以定量地给出等离子体的多种重要参数 ,如等离子体中的物种成分、粒子能态分布、激发温度、粒子相对密度等。本文介绍了一种用于电子回旋共振 (ECR)微波等离子体磁控溅射靶附近... 光学发射光谱 (OES)方法是等离子体诊断的有力工具之一 ,可以定量地给出等离子体的多种重要参数 ,如等离子体中的物种成分、粒子能态分布、激发温度、粒子相对密度等。本文介绍了一种用于电子回旋共振 (ECR)微波等离子体磁控溅射靶附近的增强放电和直流辉光放电等离子体空间分辨诊断的发射光谱装置。其特点是光学收集系统的位置可以水平精细移动 ,因而可以对放电区域进行空间分辨发射光谱测量。作者利用这套装置对氩气的ECR微波等离子体和直流辉光放电等离子体进行诊断。在ECR微波等离子体的下游区内氩离子谱线的发射强度很弱 ,主要是高激发态原子的辐射。在磁共振增强放电区 ,离子谱线强度有所增加但仍比原子谱线弱 ,类似于直流辉光放电正柱区的光发射特性。 展开更多
关键词 发射光谱 直流辉光放电 激发态原子 激发温度 类似 行空间 微波等离子体 空间分辨 光发射 电子回旋共振
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低气压直流氩气辉光放电的数值模拟研究 被引量:5
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作者 邵先军 马跃 +2 位作者 李娅西 张增辉 张冠军 《西安交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第12期50-54,共5页
建立了一维氩气直流辉光放电自洽流体模型,采用对流与扩散方程来描述带电粒子在间隙中迁移、扩散以及电子的能量变化过程,并考虑了空间电荷对电场的影响以及离子撞击阴极产生的二次电子发射作用.采用有限元法对放电模型进行数值求解,得... 建立了一维氩气直流辉光放电自洽流体模型,采用对流与扩散方程来描述带电粒子在间隙中迁移、扩散以及电子的能量变化过程,并考虑了空间电荷对电场的影响以及离子撞击阴极产生的二次电子发射作用.采用有限元法对放电模型进行数值求解,得到了放电电流随时间的演化波形,以及放电稳定后带电粒子的浓度与总通量密度的空间分布,同时也求得了电子能量与电场的空间分布.计算结果表明:加压25μs后,放电逐渐趋于稳定状态;当放电稳定后,在阴极位降区附近,离子密度比电子密度高几个数量级,在正柱区附近两者浓度几乎相等;电子能量在阴极位降区内达到峰值29 eV,而在负辉区及正柱区几乎保持不变;放电电流密度在阴极位降区主要由流向阴极的氩离子及其产生的二次电子所贡献,而在负辉区和正柱区,电子成了放电电流密度的主要贡献者. 展开更多
关键词 直流辉光放电 低温等离子体 电子能量 数值模拟
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在冶金熔体中产生直流辉光等离子体的控制电路 被引量:1
8
作者 孙铭山 丁伟中 +1 位作者 杨松华 鲁雄刚 《钢铁研究学报》 CAS CSCD 北大核心 2002年第2期52-54,共3页
论述了等离子体的特性以及在冶金熔体中应用直流辉光等离子体的意义 ,阐述了如何根据直流辉光等离子体的电路特性和熔体的特殊条件设计产生直流辉光等离子体的控制电路 ,并用低熔点的熔融金属铅和钢液作为阴极对该电路进行了测试。
关键词 直流辉光 等离子体 熔体 控制电路
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氩直流辉光等离子体钢液脱氮的研究 被引量:1
9
作者 徐芳泓 孙铭山 +1 位作者 丁伟中 鲁雄刚 《特殊钢》 北大核心 2007年第5期7-9,共3页
用25 kg真空感应炉对0.02%C钢液进行氩直流(DC)辉光等离子体条件的脱氮实验,研究了氩辉光等离子体对钢液脱氮动力学的影响。结果表明,氩辉光等离子体钢液脱氮速度和脱氮效果明显优于真空钢液脱氮,当钢液氧含量为180×10^(-6),在氩... 用25 kg真空感应炉对0.02%C钢液进行氩直流(DC)辉光等离子体条件的脱氮实验,研究了氩辉光等离子体对钢液脱氮动力学的影响。结果表明,氩辉光等离子体钢液脱氮速度和脱氮效果明显优于真空钢液脱氮,当钢液氧含量为180×10^(-6),在氩辉光等离子体下钢液中氮含量可降至9×10^(-6)。氩辉光等离子体对钢液的脱氮效果体现在界面化学反应上,提供了加速脱氮反应的动力学条件。 展开更多
关键词 氩直流辉光等离子体 低碳钢液 脱氮
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直流辉光放电等离子体增强化学气相法制备金刚石及氮化碳薄膜
10
作者 于威 王淑芳 +4 位作者 丁学成 韩理 刘志强 张连水 傅广生 《河北大学学报(自然科学版)》 CAS 2000年第1期78-82,共5页
采用直流辉光放电等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术方法 ,在Si(100)衬底上制备了金刚石薄膜 。
关键词 直流辉光放电 化学气相沉积 金刚石 氮化碳
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直流辉光氧等离子体刻蚀金刚石膜的研究 被引量:5
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作者 郑先锋 马志斌 +3 位作者 张磊 王传新 满卫东 汪建华 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2007年第1期35-38,43,共5页
在直流辉光放电等离子体装置上,利用不同直流功率和工作气压下产生的氧等离子体对CVD金刚石厚膜的表面进行了刻蚀。利用扫描电子显微镜、Raman光谱和电子微量分析天平,分别对刻蚀前后金刚石膜表面的形貌、结构和刻蚀速率进行了观测。结... 在直流辉光放电等离子体装置上,利用不同直流功率和工作气压下产生的氧等离子体对CVD金刚石厚膜的表面进行了刻蚀。利用扫描电子显微镜、Raman光谱和电子微量分析天平,分别对刻蚀前后金刚石膜表面的形貌、结构和刻蚀速率进行了观测。结果发现:在工作气压一定时,刻蚀速率随着直流功率的增加而增大,并且刻蚀由各向同性逐渐转变为各向异性。在直流功率一定时,工作气压的降低会导致刻蚀速率的增加,并且刻蚀由各向同性转变为各向异性。但过高的直流功率会导致金刚石膜表面沉积出无定形碳。基于实验研究结果和相关基本理论建立了刻蚀模型,并根据模型得到了影响刻蚀的主要原因在于等离子体中的电子温度和金刚石膜的悬浮鞘电位。 展开更多
关键词 金刚石膜 刻蚀 直流辉光放电薄 氧离子体
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低气压直流辉光等离子体实验装置 被引量:1
12
作者 龙珏 吴振辉 +2 位作者 周旋 夏明荣 马志斌 《大学物理实验》 2009年第1期75-78,共4页
介绍了低气压下直流辉光放电等离子体的实验装置,该装置具有结构合理、调节方便、测量参数多等特点,可在其上开展等离子体参数测量、等离子体激发机理研究等多项教学实验。
关键词 直流辉光等离子体 电子温度与浓度 帕邢定律
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低温等离子体精炼效应的实验
13
作者 蒋敏辉 张玉文 +1 位作者 孙铭山 丁伟中 《上海大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2005年第6期634-638,共5页
研究探索了直流辉光低温等离子体对Sn-S合金熔体的精炼效应.实验结果表明:在氢等离子体作用下熔体中的硫可以脱除到极低的水平,但是只有在熔体作为阴极时才能获得良好的精炼效果.通过改变气体种类、压力和熔体极性,研究了各种因素对熔... 研究探索了直流辉光低温等离子体对Sn-S合金熔体的精炼效应.实验结果表明:在氢等离子体作用下熔体中的硫可以脱除到极低的水平,但是只有在熔体作为阴极时才能获得良好的精炼效果.通过改变气体种类、压力和熔体极性,研究了各种因素对熔体脱硫的影响.根据实验结果和等离子体物理知识,讨论了直流辉光等离子体精炼效应的机理,认为主要是由于低温等离子体中活性氢粒子与熔体中杂质反应生成气态的产物,它们随气体排出而达到精炼的目的. 展开更多
关键词 低温等离子体 精炼效应 直流辉光等离子体
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一种低温等离子体清洗机的研制
14
作者 关自强 《真空》 CAS 2014年第5期25-31,共7页
本文介绍了干法清洗中发展较快、优势明显的等离子体清洗的机理、类型、工艺特点等。并根据在低气压下由直流辉光放电产生等离子体的方法,研制了一种适用于PCB微切片清洗的等离子体清洗机,同时对该等离子体清洗机的真空系统、高压电源... 本文介绍了干法清洗中发展较快、优势明显的等离子体清洗的机理、类型、工艺特点等。并根据在低气压下由直流辉光放电产生等离子体的方法,研制了一种适用于PCB微切片清洗的等离子体清洗机,同时对该等离子体清洗机的真空系统、高压电源、控制过程的设计作出了详细的说明。 展开更多
关键词 等离子体清洗 PCB 直流辉光放电 真空度 高压电源
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Experimental Investigation of the Effects of Various Plasma Actuator Configurations on Lift and Drag Coefficients of a Circular Cylinder Including the Effects of Electrodes 被引量:4
15
作者 Siavash TABATABAEIAN Masoud MIRZAEI +2 位作者 Asghar SADIGHZADEH Vahid DAMIDEH Abdollah SHADARAM 《Chinese Journal of Aeronautics》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第3期311-324,共14页
In this paper, the effects of the existence of plasma actuator electrodes and also various configurations of the actuator for controlling the flow field around a circular cylinder are experimentally investigated. The ... In this paper, the effects of the existence of plasma actuator electrodes and also various configurations of the actuator for controlling the flow field around a circular cylinder are experimentally investigated. The cylinder is made of PVC (Polyvinyl Chloride) and considered as a dielectric barrier. Two electrodes are fiush-mounted on the surface of the cylinder and are connected to a DC high voltage power supply lbr generation of electrical discharge. Pressure distribution results show that the existence of the electrodes and also the plasma are able to change the pressure distribution around the cylinder and consequently the lili and drag coefficients. It is found that the effect of the existence of the electrodes is comparable with the effect of plasma actuator in con- trolling the flow field around the cylinder and this effect is not reported by other researchers. Eventually it is concluded that the existence of the electrodes or any extra obiects on the cylinder and also the existence of the plasma are capable of changing the flow field structure around the cylinder so that the behavior of the lift and drag coefficients of the cylinder will be changed significantly. 展开更多
关键词 plasma actuator dc high voltage power supply generalized glow regime flow control wind tunnel
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直流辉光等离子体的边缘效应 被引量:2
16
作者 冯军 陈美艳 +5 位作者 金凡亚 但敏 聂军伟 沈丽如 童洪辉 赖新春 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 2016年第6期89-93,共5页
结合辉光渗氮试验结果,对直流辉光等离子体材料处理中的边缘效应进行了研究,根据相关鞘层理论,对工件边角处及其附近的鞘层厚度S、电场强度E及离子密度n进行了定性分析。结果表明:在边缘效应范围d内,当远离边角时,S将变大、E及n变小。... 结合辉光渗氮试验结果,对直流辉光等离子体材料处理中的边缘效应进行了研究,根据相关鞘层理论,对工件边角处及其附近的鞘层厚度S、电场强度E及离子密度n进行了定性分析。结果表明:在边缘效应范围d内,当远离边角时,S将变大、E及n变小。主等离子体密度n0的减少将使边缘效应的影响范围d变大,因此降低工作气压p及电流I可减弱边缘效应。采用改进措施渗氮后,工件边缘效应得到抑制,且渗氮效果较好。 展开更多
关键词 边缘效应 直流辉光 鞘层理论 辉光渗氮
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直流辉光放电冷等离子体在高分子材料表面改性上的应用 被引量:5
17
作者 林立中 《物理》 CAS 1999年第7期417-421,共5页
报道了利用直流辉光放电正柱区产生冷等离子体对高分子材料进行表面改性的工作,阐述了它在纺织材料和非极性塑料制品表面改性上的应用。
关键词 直流辉光放电 正柱区 等离子体 表面改性 高分子
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直流辉光放电低温等离子灭菌装置的研制 被引量:2
18
作者 刘牮 张网军 《中国消毒学杂志》 CAS 2010年第5期549-551,646,共4页
目的研制直流辉光放电低温等离子灭菌装置。方法采用直流辉光放电等离子技术与激发过氧化氢气体,产生低温等离子体实施灭菌。结果通过最新设计和工艺条件,设计制造出了直流辉光放电低温等离子灭菌装置,利用直流辉光放电的方式在低气压... 目的研制直流辉光放电低温等离子灭菌装置。方法采用直流辉光放电等离子技术与激发过氧化氢气体,产生低温等离子体实施灭菌。结果通过最新设计和工艺条件,设计制造出了直流辉光放电低温等离子灭菌装置,利用直流辉光放电的方式在低气压的情况下产生低温过氧化氢等离子体。设置自控运行程序,实现"预真空阶段、第一次灭菌阶段、第二次灭菌阶段、排气干燥阶段"灭菌运行程序化。结论所研制的该直流辉光放电低温等离子灭菌装置,达到了设计要求。 展开更多
关键词 低温等离子体 直流辉光放电 灭菌装置
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