直流等离子体喷射镀膜设备的传热数学模型

介绍了对直流等离子体喷射镀膜设备中传热过程所进行的理论和实验研究，探讨影响上述复杂传热过程的各种因素的影响规律及各种因素之间的相互关系，以及对有效控制金刚石膜形成的影响程度．在理论研究的基础上，建立了射流温度分布以及辐射、寻热及基片热平衡等5组数学模型，并进行了编程计算，计算结果与实验结果对比，证明两者吻合很好．

直流等离子体喷射法制备氮化碳涂层的研究

氮化碳因预言具有超金刚石硬度、高热稳定性及优异的摩擦磨损性能,在刀具涂层的应用领域具有巨大的潜力,引起了世界上科研工作者的广泛关注。本文以CF4+N2+H2+Ar为反应气体,通过直流等离子体喷射法(DC Plasma Jet CVD),在Si[100]基底上以金刚石薄膜为过渡层,成功制备了氮化碳涂层。利用扫描隧道显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、拉曼光谱(Raman)等现代理化测试手段,对所制备涂层的表面形貌、成分结构进行了表征和分析。研究结果表明:所制备的涂层中金刚石过渡层表面生长了线度约300-600nm的C3N4晶粒,为亚微米级别,晶形较为清晰,呈现不规整的柱状,样品中主要含有α-C3N4与β-C3N4,涂层中N的含量为9.8%。