基于运动补偿的DMD无掩模光刻拼接误差校正

在DMD光刻设备中,由于机械装调产生的机械误差导致曝光图像间产生拼接误差,进而造成曝光图像出现错位、交叠等问题。为了消除DMD在大面积曝光过程中的曝光误差,对误差校正方法进行研究。首先,利用显微镜对曝光后的基板进行测量得到曝光误差。然后,在曝光误差的基础上建立误差模型。最后,根据误差模型提出了基于运动补偿的DMD光刻系统误差校正的方法,该方法有别于目前已有的误差校正方法。实验结果表明,在微米级图像曝光过程中,曝光误差减少了80%以上,DMD曝光中心偏移距离由175μm减少为21μm。有效提高曝光图像的拼接精度,满足对大面积曝光图像的高质量、高精度等要求。