期刊文献+
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
电解致酸脱保护DNA在片合成研究 被引量:3
1
作者 王轶文 徐吉庆 +1 位作者 陈扬 何农跃 《东南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期77-80,共4页
提出了以电解致酸脱保护法为特征的电助DNA在片合成新方法 .在 2 .0V电解电位下电解水 ,释放氢离子并富集于阳极极板附近 ,导致局部酸度增强 ,使核酸单体分子发生脱保护反应 .测定了该合成方法的合成产率与电解时间 ,支持电解质浓度 ,... 提出了以电解致酸脱保护法为特征的电助DNA在片合成新方法 .在 2 .0V电解电位下电解水 ,释放氢离子并富集于阳极极板附近 ,导致局部酸度增强 ,使核酸单体分子发生脱保护反应 .测定了该合成方法的合成产率与电解时间 ,支持电解质浓度 ,水浓度等条件的关系 .结果表明 ,电解时间越长 ,脱保护效率越高 ,两者基本呈线性关系 ; 展开更多
关键词 基因芯片 在片合成 电解致酸脱保护 金片硫醇自组装 DMT紫外中收 dna微探针阵列
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部