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电解致酸脱保护DNA在片合成研究
被引量:
3
1
作者
王轶文
徐吉庆
+1 位作者
陈扬
何农跃
《东南大学学报(自然科学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第1期77-80,共4页
提出了以电解致酸脱保护法为特征的电助DNA在片合成新方法 .在 2 .0V电解电位下电解水 ,释放氢离子并富集于阳极极板附近 ,导致局部酸度增强 ,使核酸单体分子发生脱保护反应 .测定了该合成方法的合成产率与电解时间 ,支持电解质浓度 ,...
提出了以电解致酸脱保护法为特征的电助DNA在片合成新方法 .在 2 .0V电解电位下电解水 ,释放氢离子并富集于阳极极板附近 ,导致局部酸度增强 ,使核酸单体分子发生脱保护反应 .测定了该合成方法的合成产率与电解时间 ,支持电解质浓度 ,水浓度等条件的关系 .结果表明 ,电解时间越长 ,脱保护效率越高 ,两者基本呈线性关系 ;
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关键词
基因芯片
在片合成
电解致酸脱保护
金片硫醇自组装
DMT紫外中收
dna微探针阵列
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职称材料
题名
电解致酸脱保护DNA在片合成研究
被引量:
3
1
作者
王轶文
徐吉庆
陈扬
何农跃
机构
东南大学分子与生物分子电子学教育部重点实验室
南京益来基因医学有限公司
出处
《东南大学学报(自然科学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第1期77-80,共4页
基金
国家 8 63高技术项目 (10 3 13 0 5 0 110 10 10 1)
国家重大基础研究项目(G19980 5 12 0 4)
+2 种基金
国家自然科学基金资助项目 (60 0 710 0 1)
教育部"高等学校骨干教师"资助计划 (2 0 0 0 )
东南大学航科基金(1999)资助项目
文摘
提出了以电解致酸脱保护法为特征的电助DNA在片合成新方法 .在 2 .0V电解电位下电解水 ,释放氢离子并富集于阳极极板附近 ,导致局部酸度增强 ,使核酸单体分子发生脱保护反应 .测定了该合成方法的合成产率与电解时间 ,支持电解质浓度 ,水浓度等条件的关系 .结果表明 ,电解时间越长 ,脱保护效率越高 ,两者基本呈线性关系 ;
关键词
基因芯片
在片合成
电解致酸脱保护
金片硫醇自组装
DMT紫外中收
dna微探针阵列
Keywords
Absorption
Electrolysis
Genes
In situ processing
分类号
Q75 [生物学—分子生物学]
TN4 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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作者
出处
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被引量
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1
电解致酸脱保护DNA在片合成研究
王轶文
徐吉庆
陈扬
何农跃
《东南大学学报(自然科学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
3
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