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用光刻及离子束蚀刻技术制作DNA芯片模版 被引量：5
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作者 张新宇 汤庆乐 +2 位作者 张智 易新建 裴先登 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期129-133,共5页
采用光刻及离子束蚀刻技术制作面阵石英 DNA芯片模版 ,利用扫描电子显微镜 ( SEM)和表面轮廓仪测试了所制石英 DNA芯片模版的表面微结构形貌特征 ,分析了所制石英 DNA芯片模版出现图形畸变的原因。所用工艺为在其它衬底材料表面制作更... 采用光刻及离子束蚀刻技术制作面阵石英 DNA芯片模版 ,利用扫描电子显微镜 ( SEM)和表面轮廓仪测试了所制石英 DNA芯片模版的表面微结构形貌特征 ,分析了所制石英 DNA芯片模版出现图形畸变的原因。所用工艺为在其它衬底材料表面制作更大规模及具有复杂结构的大面阵 展开更多
关键词 离子束蚀刻 光刻 dna芯片模版
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