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一种新型的I线和DUV线步进机的设计思路
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作者 Unge.,R 《LSI制造与测试》 1995年第2期27-37,共11页
本文讨论了新生产线上一种步进机,它是由美国半导体制造技术联合体和它的几个子公司联合开发的。它应用i线(365nm)和深紫外(DUV248nm)波长,具有高数值孔径、大视场精缩镜头特点,适用的工作焦深,i线机实用分辨率... 本文讨论了新生产线上一种步进机,它是由美国半导体制造技术联合体和它的几个子公司联合开发的。它应用i线(365nm)和深紫外(DUV248nm)波长,具有高数值孔径、大视场精缩镜头特点,适用的工作焦深,i线机实用分辨率可达0.5μm,而DUV机实用分辨率为0.35μm。结合这些设备的设计,特别是从对准区域、调焦、INSITU计量、自动校准和诊断效用方面,简述了步进机的曝光技术。该设备新添的特点。 展开更多
关键词 I线 duv线 步进机 微细曝光设备 设计
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