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一种新型的I线和DUV线步进机的设计思路
1
作者
Unge.,R
《LSI制造与测试》
1995年第2期27-37,共11页
本文讨论了新生产线上一种步进机,它是由美国半导体制造技术联合体和它的几个子公司联合开发的。它应用i线(365nm)和深紫外(DUV248nm)波长,具有高数值孔径、大视场精缩镜头特点,适用的工作焦深,i线机实用分辨率...
本文讨论了新生产线上一种步进机,它是由美国半导体制造技术联合体和它的几个子公司联合开发的。它应用i线(365nm)和深紫外(DUV248nm)波长,具有高数值孔径、大视场精缩镜头特点,适用的工作焦深,i线机实用分辨率可达0.5μm,而DUV机实用分辨率为0.35μm。结合这些设备的设计,特别是从对准区域、调焦、INSITU计量、自动校准和诊断效用方面,简述了步进机的曝光技术。该设备新添的特点。
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关键词
I
线
duv线
步进机
微细曝光设备
设计
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职称材料
题名
一种新型的I线和DUV线步进机的设计思路
1
作者
Unge.,R
出处
《LSI制造与测试》
1995年第2期27-37,共11页
文摘
本文讨论了新生产线上一种步进机,它是由美国半导体制造技术联合体和它的几个子公司联合开发的。它应用i线(365nm)和深紫外(DUV248nm)波长,具有高数值孔径、大视场精缩镜头特点,适用的工作焦深,i线机实用分辨率可达0.5μm,而DUV机实用分辨率为0.35μm。结合这些设备的设计,特别是从对准区域、调焦、INSITU计量、自动校准和诊断效用方面,简述了步进机的曝光技术。该设备新添的特点。
关键词
I
线
duv线
步进机
微细曝光设备
设计
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
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1
一种新型的I线和DUV线步进机的设计思路
Unge.,R
《LSI制造与测试》
1995
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