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Metal-modulated epitaxy of Mg-doped Al_(0.80)In_(0.20)N-based layer for application as the electron blocking layer in deep ultraviolet light-emitting diodes
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作者 Horacio Irán Solís-Cisneros Carlos Alberto Hernández-Gutiérrez +1 位作者 Enrique Campos-González Máximo López-López 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2024年第5期80-89,共10页
This work reports the growth and characterization of p-AlInN layers doped with Mg by plasma-assisted molecular beam epitaxy(PAMBE).AlInN was grown with an Al molar fraction of 0.80 by metal-modulated epitaxy(MME)with ... This work reports the growth and characterization of p-AlInN layers doped with Mg by plasma-assisted molecular beam epitaxy(PAMBE).AlInN was grown with an Al molar fraction of 0.80 by metal-modulated epitaxy(MME)with a thickness of 180 nm on Si(111)substrates using AlN as buffer layers.Low substrate temperatures were used to enhance the incorporation of indium atoms into the alloy without clustering,as confirmed by X-ray diffraction(XRD).Cathodoluminescence measurements revealed ultraviolet(UV)range emissions.Meanwhile,Hall effect measurements indicated a maximum hole mobility of 146 cm^(2)/(V∙s),corresponding to a free hole concentration of 1.23×10^(19)cm^(−3).The samples were analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy(XPS)estimating the alloy composition and extracting the Fermi level by valence band analysis.Mg-doped AlInN layers were studied for use as the electron-blocking layer(EBL)in LED structures.We varied the Al composition in the EBL from 0.84 to 0.96 molar fraction to assess its theoretical effects on electroluminescence,carrier concentration,and electric field,using SILVACO Atlas.The results from this study highlight the importance and capability of producing high-quality Mg-doped p-AlInN layers through PAMBE.Our simulations suggest that an Al content of 0.86 is optimal for achieving desired outcomes in electroluminescence,carrier concentration,and electric field. 展开更多
关键词 metal-modulated epitaxy ALINN duv-led EBL simulation
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Realization of high-efficiency AlGaN deep ultraviolet light-emitting diodes with polarization-induced doping of the p-AlGaN hole injection layer
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作者 曹一伟 吕全江 +4 位作者 杨天鹏 米亭亭 王小文 刘伟 刘军林 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第5期690-696,共7页
We investigate the polarization-induced doping in the gradient variation of Al composition in the pAl_(0.75)Ga_(0.25)N/Al_xGa_(1-x)N hole injection layer(HIL)for deep ultraviolet light-emitting diodes(DUV-LEDs)with an... We investigate the polarization-induced doping in the gradient variation of Al composition in the pAl_(0.75)Ga_(0.25)N/Al_xGa_(1-x)N hole injection layer(HIL)for deep ultraviolet light-emitting diodes(DUV-LEDs)with an ultrathin p-GaN(4 nm)ohmic contact layer capable of emitting 277 nm.The experimental results show that the external quantum efficiency(EQE)and wall plug efficiency(WPE)of the structure graded from 0.75 to 0.55 in the HIL reach 5.49%and 5.04%,which are improved significantly by 182%and 209%,respectively,compared with the structure graded from 0.75 to 0.45,exhibiting a tremendous improvement.Both theoretical speculations and simulation results support that the larger the difference between 0.75 and x in the HIL,the higher the hole concentration that should be induced;thus,the DUV-LED has a higher internal quantum efficiency(IQE).Meanwhile,as the value of x decreases,the absorption of the DUV light emitted from the active region by the HIL is enhanced,reducing the light extraction efficiency(LEE).The IQE and LEE together affect the EQE performance of DUV-LEDs.To trade off the contradiction between the enhanced IQE and decreased LEE caused by the decrease in Al composition,the Al composition in the HIL was optimized through theoretical calculations and experiments. 展开更多
关键词 deep ultraviolet light-emitting diode(duv-led) polarization-induced doping ALGAN light extraction efficiency
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基于外延层转移的超薄垂直结构深紫外LED 被引量:2
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作者 严嘉彬 孙志航 +2 位作者 房力 王林宁 王永进 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第2期321-327,共7页
AlGaN基深紫外(Deep ultraviolet,DUV)发光二极管(Light-emitting diode,LED)可用于杀菌、水体净化、光疗、固化、传感和非视距通信等场合,在生物、环境、工业、医疗和军事等领域具有广阔的应用前景。针对现阶段DUV LED外量子效率较低... AlGaN基深紫外(Deep ultraviolet,DUV)发光二极管(Light-emitting diode,LED)可用于杀菌、水体净化、光疗、固化、传感和非视距通信等场合,在生物、环境、工业、医疗和军事等领域具有广阔的应用前景。针对现阶段DUV LED外量子效率较低的问题,本文提出了一种超薄垂直结构的DUV LED方案。该方案基于蓝宝石-硅晶圆键合和物理减薄工艺实现了高质量DUV LED外延层从蓝宝石衬底到高导热硅基板的转移,并采用转移后亚微米厚度的超薄外延层制备出垂直结构的AlGaN DUV LED。器件的出光面在减薄工艺后无需特殊的化学处理便可实现纳米级的粗化,配合超薄外延层结构具备显著的失谐微腔效应,有助于破坏高阶波导模式,从而增加TM波的出光并提升器件的出光效率。测试表明,转移后的外延层厚度约为710 nm,制备出的DUV LED发光光谱峰值波长约为271 nm。该垂直结构DUV LED制备方案为实现高效DUV光源提供了可行路径。 展开更多
关键词 深紫外发光二极管 外延层转移 晶圆键合 减薄工艺
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高气密性的深紫外LED半无机封装技术 被引量:1
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作者 万垂铭 曾照明 +3 位作者 肖国伟 蓝义安 谢子敬 王洪 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第10期1842-1848,共7页
深紫外LED可通过物理方式破坏病毒和细菌的结构,从而获得高效消毒的效果。相比于工艺成熟的蓝光LED,如何提高深紫外LED的封装可靠性和出光率仍是关键问题。本文采用基底预热方式微固化封装胶,结合阵列点胶方式将石英玻璃固定在镀铜围坝... 深紫外LED可通过物理方式破坏病毒和细菌的结构,从而获得高效消毒的效果。相比于工艺成熟的蓝光LED,如何提高深紫外LED的封装可靠性和出光率仍是关键问题。本文采用基底预热方式微固化封装胶,结合阵列点胶方式将石英玻璃固定在镀铜围坝,制备了半无机封装的深紫外LED。该器件的输出波长为275 nm,半峰宽约为11 nm。对比传统类透明材料封装的器件,石英封装的深紫外LED有更高的出光率。在真空红墨水和氦气漏率实验中,采用本文提出的半无机封装技术的深紫外LED器件表现出高密封性。此外,在加速老化测试中,该封装器件的光衰速率在20%以内。实验结果表明,对比有机封装的深紫外LED器件,在基底预热条件下,采用阵列点胶固定石英玻璃是现阶段提高深紫外LED可靠性的一种封装方法。 展开更多
关键词 深紫外LED 可靠性 出光率 基底预热 阵列点胶
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基于铝镓氮深紫外光电技术的智能消毒装备研发与验证评价
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作者 孙世颖 刘亚巍 +1 位作者 王泓江 王劲 《中国医学装备》 2023年第11期1-6,共6页
目的:研制基于铝镓氮(AlGaN)深紫外光电技术的智能消毒装备,以实现消毒装备无汞、非接触、无残留、无污染和高效快速地完成物体表面消毒。方法:通过制作AlGaN高质量外延和全无机方式封装芯片,研发深紫外发光二极管(LED)和消毒模块。使... 目的:研制基于铝镓氮(AlGaN)深紫外光电技术的智能消毒装备,以实现消毒装备无汞、非接触、无残留、无污染和高效快速地完成物体表面消毒。方法:通过制作AlGaN高质量外延和全无机方式封装芯片,研发深紫外发光二极管(LED)和消毒模块。使用消毒模块、光学模组、电控模块结合人工智能(AI)技术研制智能消毒装备。结果:研制的智能高精度消毒机器人和手持消毒机等智能消毒装备以非接触、无残留和无污染的方式运行。输出可控C波段紫外线,输出中心波长275.1 nm、辐射强度18750μW/cm^(2)(标准工作距离)的紫外线。通过第三方机构对智能消毒装备进行测试,可实现在5 s内对新型冠状病毒等病原微生物灭活,灭活率为99.99%。研制的智能消毒装备为北京冬奥会、首都机场和医院等场所提供了可靠的智能消毒保障。结论:基于AlGaN深紫外光电技术的智能消毒装备无汞,以非接触、无残留、无污染和高效的方式,有效杀灭物体表面的病原微生物,能够完成各种环境的物体表面消毒。 展开更多
关键词 人工智能(AI) 紫外消毒 铝镓氮 深紫外发光二极管(LED)
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p-EBL中低Al组分插入层对AlGaN基深紫外LED光电性能的影响
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作者 高一品 刘超 《微纳电子与智能制造》 2023年第3期29-34,共6页
对于AlGaN基深紫外发光二极管(DUV LED),高Al组分的电子阻挡层(EBL)在抑制电子泄露的同时,也不可避免地造成空穴注入效率的严重下降。在本文中,我们研究了EBL中p型掺杂的低Al组分插入层对DUV LED性能的影响,借助APSYS仿真软件对器件的... 对于AlGaN基深紫外发光二极管(DUV LED),高Al组分的电子阻挡层(EBL)在抑制电子泄露的同时,也不可避免地造成空穴注入效率的严重下降。在本文中,我们研究了EBL中p型掺杂的低Al组分插入层对DUV LED性能的影响,借助APSYS仿真软件对器件的光电性能、能带结构,以及载流子分布进行了系统的分析。结果表明,低Al组分插入层的引入能够降低空穴的有效势垒高度,进而提高空穴的注入效率,改善有源区中载流子的分布。此外,本文还发现p型掺杂的低Al组分插入层在EBL中的相对位置和DUV LED的性能之间有着紧密的联系。 展开更多
关键词 ALGAN DUV LED 插入层
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Al和N极性AlN生长特性的第一性原理 被引量:1
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作者 庄芹芹 林伟 +1 位作者 王元樟 张小英 《厦门理工学院学报》 2013年第3期30-34,共5页
使用第一性原理计算方法对Al和N极性AlN表面和生长特性的差异开展了研究.构建未吸附和吸附一个原子或原子层的Al和N极性AlN表面结构进行模拟和理论计算.结果表明:Al极性AlN比N极性AlN更稳定,并且在生长时将具有更高的生长速率;在富N的... 使用第一性原理计算方法对Al和N极性AlN表面和生长特性的差异开展了研究.构建未吸附和吸附一个原子或原子层的Al和N极性AlN表面结构进行模拟和理论计算.结果表明:Al极性AlN比N极性AlN更稳定,并且在生长时将具有更高的生长速率;在富N的生长环境下,N极性AlN的生长容易在表面形成双N原子层而出现反型畴;Al和N原子在Al极性表面上更容易扩散,所以外延生长的Al极性面AlN将会具有更加平整的表面形貌. 展开更多
关键词 深紫外LED ALN 极性可控生长 第一性原理计算
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High-Sensitivity Ozone Sensing Using 280 nm Deep Ultraviolet Light-Emitting Diode for Detection of Natural Hazard Ozone 被引量:1
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作者 Yoshinobu Aoyagi Misaichi Takeuchi +6 位作者 Kaoru Yoshida Masahito Kurouchi Tsutomu Araki Yasushi Nanishi Hiroyasi Sugano Yumi Ahiko Hirotaka Nakamura 《Journal of Environmental Protection》 2012年第8期695-699,共5页
Recently ozone is one of natural hazards which comes from cars, industry using ozone for sterilization of organic and inorganic materials and for water purification. So, ozone sensing becomes very important, and conve... Recently ozone is one of natural hazards which comes from cars, industry using ozone for sterilization of organic and inorganic materials and for water purification. So, ozone sensing becomes very important, and convenient and accurate ozone sensor is required. A new high sensitivity ozone sensing system using an deep ultra-violet light emitting diode (DUV-LED) operated at the wavelength of 280 nm has been successfully constructed. The fabrication of diode operated at 280 nm is much easier than that of DUV-LED operated at Hg lamp wavelength of 254 nm. The system is compact and possible to sense the ozone concentration less than 0.1 ppm with an accuracy of 0.5% easily with low power DUV-LED of around 200 micro Watts operated at 280 nm without any data processing circuit. 展开更多
关键词 OZONE SENSING Deep Ultra VIOLET Light EMITTING Diode duv-led High Sensitivity Long Life Compact
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用于AlGaN基DUV LED封装的高反射镀铝DPC陶瓷基板 被引量:4
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作者 杨宇铭 李燕 +5 位作者 郑怀文 于飞 杨华 伊晓燕 王军喜 李晋闽 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2020年第10期991-999,共9页
传统的直接镀铜(DPC)陶瓷基板的焊盘上镀有Ni/Au金属覆盖层,它会强烈吸收紫外(UV)光。为了提高深紫外发光二极管(DUV LED)的光提取效率(LEE),设计并制备了镀Al的双层金属镀层DPC陶瓷基板。这种基板拥有一层完全覆盖基板焊盘的Ni/Au镀层... 传统的直接镀铜(DPC)陶瓷基板的焊盘上镀有Ni/Au金属覆盖层,它会强烈吸收紫外(UV)光。为了提高深紫外发光二极管(DUV LED)的光提取效率(LEE),设计并制备了镀Al的双层金属镀层DPC陶瓷基板。这种基板拥有一层完全覆盖基板焊盘的Ni/Au镀层为LED提供电互连,以及一层部分覆盖Ni/Au镀层的高反射Al镀层为UV光提供优异的反射。测量了分别由镀Al的DPC陶瓷基板和仅有一层Ni/Au镀层的传统DPC陶瓷基板所封装的DUV LED的光学、电学和热学性质,并建立了LED封装体的模型并进行了分析。结果表明,通过使用镀Al的DPC陶瓷基板,DUV LED的光输出功率(LOP)提高了19.2%,功率效率(WPE)和外量子效率(EQE)则分别提高为传统封装的1.20和1.19倍。此外,经过160 h的老化测试,使用镀Al的DPC陶瓷基板封装的LED表现出了更好的可靠性。这种镀Al的双层金属镀层DPC陶瓷基板为通过封装改善DUV LED的LEE提供了可行的方法。 展开更多
关键词 DUV LED封装 DPC陶瓷基板 光学特性 热阻
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深紫外LED封装技术现状与展望 被引量:18
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作者 彭洋 陈明祥 罗小兵 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第4期542-559,共18页
深紫外发光二极管(Deep-ultraviolet light-emitting diode,DUV-LED)具有环保无汞、寿命长、功耗低、响应快、结构轻巧等诸多优势,在杀菌消毒、生化检测、医疗健康、隐秘通讯等领域具有重要应用价值。近年来,深紫外LED技术取得了快速发... 深紫外发光二极管(Deep-ultraviolet light-emitting diode,DUV-LED)具有环保无汞、寿命长、功耗低、响应快、结构轻巧等诸多优势,在杀菌消毒、生化检测、医疗健康、隐秘通讯等领域具有重要应用价值。近年来,深紫外LED技术取得了快速发展,主要体现在光效和可靠性的不断提高,这一方面得益于芯片制造过程中氮化物材料外延和掺杂技术的进步,另一方面归功于深紫外LED封装技术的发展。但是,与波长较长的近紫外和蓝光LED相比,深紫外LED的光效和可靠性仍有很大提升空间。本综述重点对深紫外LED封装关键技术进行了系统分析,包括封装材料选择、封装结构设计、封装工艺优化、反射光损耗机制以及结温和热管理等,同时从提高光效与器件可靠性角度阐述了深紫外LED封装的最新研究进展,并对后续技术发展进行了展望。 展开更多
关键词 深紫外LED 封装技术 光效 可靠性
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具有渐变量子垒的氮极性AlGaN基LED实现载流子调控和性能增强(英文) 被引量:3
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作者 陆义 闫建昌 +6 位作者 李晓航 郭亚楠 吴卓辉 张亮 谷文 王军喜 李晋闽 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第7期42-53,共12页
为了获得高效率的AlGaN基深紫外发光二极管,提出了具有渐变量子垒的氮极性结构来调控载流子的传输.通过氮极性结构在p型电子阻挡层中形成的反向极化诱导势垒,改善空穴注入和电子泄漏问题.另外研究了不同的渐变方向和渐变程度对器件性能... 为了获得高效率的AlGaN基深紫外发光二极管,提出了具有渐变量子垒的氮极性结构来调控载流子的传输.通过氮极性结构在p型电子阻挡层中形成的反向极化诱导势垒,改善空穴注入和电子泄漏问题.另外研究了不同的渐变方向和渐变程度对器件性能的影响.模拟结果显示,在12nm的AlGaN量子垒上沿着(000-1)方向从Al组分0.65线性渐变到0.6,可以有效平衡量子垒的势垒高度和斜率,从而极大的增强空穴注入,光输出功率相较于传统结构提高了53.6%.该设计为电子泄漏和空穴注入问题提供了直接而有效的解决方案,在实现更高效率的深紫外发光二极管方面显示出广阔的前景. 展开更多
关键词 深紫外LED ALGAN 氮极性 渐变量子垒 载流子调控
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俄歇复合、电子泄漏和空穴注入对深紫外发光二极管效率衰退的影响 被引量:5
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作者 王玮东 楚春双 +3 位作者 张丹扬 毕文刚 张勇辉 张紫辉 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第7期897-903,共7页
研究了俄歇复合、电子泄漏和空穴注入对深紫外发光二极管(DUV LED)效率衰退的影响。结果表明,当俄歇复合系数从10^(-32) cm^(6)·s^(-1)增大到10^(-30) cm^(6)·s^(-1)时,俄歇复合对效率衰退的影响很小。当俄歇复合系数增大到10... 研究了俄歇复合、电子泄漏和空穴注入对深紫外发光二极管(DUV LED)效率衰退的影响。结果表明,当俄歇复合系数从10^(-32) cm^(6)·s^(-1)增大到10^(-30) cm^(6)·s^(-1)时,俄歇复合对效率衰退的影响很小。当俄歇复合系数增大到10^(-29) cm^(6)·s^(-1)时,俄歇复合对效率衰退有显著的影响。然而,对于AlGaN材料而言,俄歇复合系数很难达到10^(-29) cm^(6)·s^(-1)。此外,本研究还发现,即使设置的俄歇复合系数等于10^(-32) cm^(6)·s^(-1),DUV LED的效率衰退依旧随着电子泄漏的增加而增大。因此,这进一步证明了电子泄漏是导致DUV LED效率衰退的主要因素。此外,本工作还证明了空穴注入效率的提高可以有效地抑制DUV LED的效率衰退问题,这主要是由于更多的电子与空穴在量子阱中复合产生了光子,降低了电子从有源区中泄漏的几率。 展开更多
关键词 深紫外发光二极管 俄歇复合 电子泄漏 空穴注入 效率衰退
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具有Al组分V型渐变电子阻挡层的深紫外LED设计与分析 被引量:1
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作者 赵志斌 曲轶 +4 位作者 陈浩 乔忠良 李林 李再金 刘国军 《光电子技术》 CAS 2021年第2期99-103,共5页
为了使基于AlGaN外延材料的深紫外发光二极管(DUV LED)的内量子效率(IQE)随驱动电流的增大而降低的幅度减小,有助于DUV LED在一个较大的驱动电流区间可以稳定地工作,提出并研究具有Al组分V型渐变P型电子阻挡层(P-EBL)结构的DUV LED。通... 为了使基于AlGaN外延材料的深紫外发光二极管(DUV LED)的内量子效率(IQE)随驱动电流的增大而降低的幅度减小,有助于DUV LED在一个较大的驱动电流区间可以稳定地工作,提出并研究具有Al组分V型渐变P型电子阻挡层(P-EBL)结构的DUV LED。通过Crosslight APSYS软件对常规P型电子阻挡层(P-EBL)和Al组分V型渐变P-EBL结构DUV LED的能带、极化体电荷、电子电流、空穴浓度、内量子效率、输出功率和自发辐射光谱进行了数值研究。结果表明,在260 mA电流注入时,相比常规P-EBL结构,Al组分V型渐变P-EBL结构DUV LED的效率降低的幅度减小了5.86%,改善了DUV LED输出性能。根据数值模拟和分析,器件输出性能改善的原因是Al组分三角形渐变P-EBL沿生长方向产生的极化体电荷,抵消P-EBL与最后一个量子垒层异质结界面处存在的极化面电荷,从而减小了界面处的极化电场。 展开更多
关键词 深紫外发光二极管 Al组分V型渐变P型电子阻挡层 极化体电荷 电子泄漏 效率降低
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Al组分三角形渐变P-EBL结构AlGaN基DUV LED数值分析
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作者 赵志斌 曲轶 +4 位作者 陈浩 乔忠良 李林 李再金 刘国军 《光学与光电技术》 2021年第3期20-24,共5页
效率陡降严重影响AlGaN基深紫外发光二极管(DUV LED)的输出性能,也是近年来DUV LED的一个瓶颈性问题。对常规电子阻挡层(P-EBL)和Al组分三角形渐变P-EBL两种结构DUV LED进行了数值分析。研究了能带、电子电流、空穴浓度、电场、内量子... 效率陡降严重影响AlGaN基深紫外发光二极管(DUV LED)的输出性能,也是近年来DUV LED的一个瓶颈性问题。对常规电子阻挡层(P-EBL)和Al组分三角形渐变P-EBL两种结构DUV LED进行了数值分析。研究了能带、电子电流、空穴浓度、电场、内量子效率、输出功率和自发辐射光谱的分布特性。模拟结果表明,在260 mA电流注入时,相比常规PEBL结构,Al组分三角形渐变P-EBL结构DUV LED的效率陡降减小了5.85%,改善了DUV LED输出性能。根据数值模拟和分析,器件输出性能改善的原因是Al组分三角形渐变P-EBL结构提高导带势垒高度和增强空穴在P型区域获得的动能,从而减小电子泄漏,并提高了空穴注入效率。 展开更多
关键词 紫外发光二极管 Al组分三角形渐变P-EBL 电子泄漏 效率陡降
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