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金刚石薄膜制备和评价 被引量：2
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作者 邱万奇 刘正义 +5 位作者 陈剑惠 刘志唐 周克崧 代明江 王德政 丁谦 《理化检验（物理分册）》 CAS 1998年第6期14-16,36,共4页
采用平直钨丝作热解源,并借助钨丝支架的弹性恢复力,较好地解决了热丝热解化学气相沉积法(HFCVD)合成金刚石过程中热解丝的变形问题.样品独立加热,基片温度、钨丝温度、钨丝与样品基片距离均可独立调节.装置改进后,在Si(100)上合成了面... 采用平直钨丝作热解源,并借助钨丝支架的弹性恢复力,较好地解决了热丝热解化学气相沉积法(HFCVD)合成金刚石过程中热解丝的变形问题.样品独立加热,基片温度、钨丝温度、钨丝与样品基片距离均可独立调节.装置改进后,在Si(100)上合成了面积大约45mm×25mm的比较均匀的金刚石膜.用扫描电子显微镜(SEM)、Raman光谱和X射线衍射仪对制备的金刚石膜进行了分析. 展开更多
关键词 金刚石薄膜 合成 热丝 HFCVD 薄膜制备
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