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Three modes of a direct-current plasma jet operated underwater to degrade methylene blue 被引量:5
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作者 Xuechen LI Biao WANG +3 位作者 Pengying JIA Linwei YANG Yaru LI Jingdi CHU 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第11期75-81,共7页
A direct-current air plasma jet operated underwater presents three stable modes including an intermittently-pulsed discharge, a periodically-pulsed discharge and a continuous discharge with increasing the power voltag... A direct-current air plasma jet operated underwater presents three stable modes including an intermittently-pulsed discharge, a periodically-pulsed discharge and a continuous discharge with increasing the power voltage. The three discharge modes have different appearances for the plasma plumes. Moreover, gap voltage-current characteristics indicate that the continuous discharge is in a normal glow regime. Spectral lines from reactive species(OH, N2, N2^+, Hα,and O) have been revealed in the emission spectrum of the plasma jet operated underwater.Spectral intensities emitted from OH radical and oxygen atom increase with increasing the power voltage or the gas flow rate, indicating that reactive species are abundant. These reactive species cause the degradation of the methylene blue dye in solution. Effects of the experimental parameters such as the power voltage, the gas flow rate and the treatment time are investigated on the degradation efficiency. Results indicate that the degradation efficiency increases with increasing the power voltage, the gas flow rate or the treatment time. Compared with degradation in the intermittently-pulsed mode or the periodically-pulsed one, it is more efficient in the continuous mode, reaching 98% after 21 min treatment. 展开更多
关键词 plasma jet direct current glow discharge plasma degradation methylene blue
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Optical characterization of single-crystal diamond grown by DC arc plasma jet CVD
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作者 Li-fu Hei Yun Zhao +3 位作者 Jun-jun Wei Jin-long Liu Cheng-ming Li Fan-xiu Lü 《International Journal of Minerals,Metallurgy and Materials》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第12期1424-1430,共7页
Optical centers of single-crystal diamond grown by DC arc plasma jet chemical vapor deposition(CVD) were examined using a low-temperature photoluminescence(PL) technique. The results show that most of the nitrogen-vac... Optical centers of single-crystal diamond grown by DC arc plasma jet chemical vapor deposition(CVD) were examined using a low-temperature photoluminescence(PL) technique. The results show that most of the nitrogen-vacancy(NV) complexes are present as NV-centers, although some H2 and H3 centers and B-aggregates are also present in the single-crystal diamond because of nitrogen aggregation resulting from high N_2 incorporation and the high mobility of vacancies under growth temperatures of 950–1000°C. Furthermore, emissions of radiation-induced defects were also detected at 389, 467.5, 550, and 588.6 nm in the PL spectra. The reason for the formation of these radiation-induced defects is not clear. Although a Ni-based alloy was used during the diamond growth, Ni-related emissions were not detected in the PL spectra. In addition, the silicon-vacancy(Si-V)-related emission line at 737 nm, which has been observed in the spectra of many previously reported microwave plasma chemical vapor deposition(MPCVD) synthetic diamonds, was absent in the PL spectra of the single-crystal diamond prepared in this work. The high density of NV-centers, along with the absence of Ni-related defects and Si-V centers, makes the single-crystal diamond grown by DC arc plasma jet CVD a promising material for applications in quantum computing. 展开更多
关键词 DIAMOND single CRYSTALS direct current ARC plasma jet chemical vapor deposition PHOTOLUMINESCENCE optical SPECTRA
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类金刚石膜的结构与性能研究 被引量:14
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作者 程宇航 吴一平 +2 位作者 陈建国 乔学亮 谢长生 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第4期452-457,共6页
用激光Raman谱和XRD谱对用直流射频等离子体化学气相沉积法制备的类金刚石膜的结构进行了分析,并研究了工艺参数对膜的沉积速率、内应力和直流电阻率的影响。结果表明:类金刚石膜是由sp2和sp3键组成的非晶态碳膜,当负... 用激光Raman谱和XRD谱对用直流射频等离子体化学气相沉积法制备的类金刚石膜的结构进行了分析,并研究了工艺参数对膜的沉积速率、内应力和直流电阻率的影响。结果表明:类金刚石膜是由sp2和sp3键组成的非晶态碳膜,当负偏压高于300V时,膜中sp3/sp2键的比值随负偏压的升高而降低。类金刚石膜的沉积速率与负偏压Vb成正比。膜内存在1~4.7GPa的压应力,随负偏压的升高而降低。膜的电阻率随负偏压的升高先增后降,这与膜中sp2/sp3的比值相对应。 展开更多
关键词 类金刚石膜 化学气相沉积 结构 性能 金刚石薄膜
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直流电弧等离子体点火器化学效应研究 被引量:5
4
作者 赵兵兵 何立明 +2 位作者 沈英 白晓峰 于锦禄 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第5期1171-1174,共4页
为研究直流电弧等离子体点火器的化学效应,测量了点火器喷出的等离子体射流的发射光谱,分析得到等离子体射流与常压环境空气相互作用产生的粒子种类,通过烟气分析仪定量测量了距离点火器出口8cm处的NO和CO含量,并研究了点火器弧电流、... 为研究直流电弧等离子体点火器的化学效应,测量了点火器喷出的等离子体射流的发射光谱,分析得到等离子体射流与常压环境空气相互作用产生的粒子种类,通过烟气分析仪定量测量了距离点火器出口8cm处的NO和CO含量,并研究了点火器弧电流、工作介质流量对NO和CO体积分数的影响。实验结果表明:等离子体点火器喷出的等离子体射流与环境空气相互作用可产生活性粒子H,O和N,带电粒子O2+,N2+和激发态粒子N2(A3),N2(B3),N2(C3)和O2(b1)等;增大弧电流、工作介质流量,等离子体射流头部附近NO和CO体积分数增大。 展开更多
关键词 直流电弧 等离子体射流 化学效应 发射光谱 活性粒子
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DC-PCVD法快速制备Si_3N_4薄膜 被引量:5
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作者 周海 吴大兴 +1 位作者 杨川 高国庆 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第4期489-493,共5页
采用DCPCVD方法,控制工艺参数,在GCr15钢试样上获得40μm厚的、以Si3N4为主要成分的非晶态绝缘薄膜,沉积速率约为37/s。讨论了沉积速率高的原因。
关键词 直流等离子体 化学气相沉积 氮化硅薄膜 镀膜
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层流氩等离子体射流温度的测量 被引量:5
6
作者 孟显 李腾 +2 位作者 潘文霞 陈熙 吴承康 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第3期783-786,共4页
采用给水冷管状静电探针施加负偏置电压、并使探针以一定速度垂直于射流轴线扫过层流氩等离子体射流的方法,测量探针所收集到的累积离子饱和电流随侧向位置的变化,利用Abel变换推导出了局部离子饱和电流密度沿射流径向的分布;采用自制... 采用给水冷管状静电探针施加负偏置电压、并使探针以一定速度垂直于射流轴线扫过层流氩等离子体射流的方法,测量探针所收集到的累积离子饱和电流随侧向位置的变化,利用Abel变换推导出了局部离子饱和电流密度沿射流径向的分布;采用自制的水冷动压探针,以动态扫描法测量了射流动压沿射流径向的分布;根据局部离子饱和电流密度和射流动压的测量数据,由理论关系式推导出了等离子体射流横截面上的温度分布,同时,采用谱线相对强度法测量了等离子体射流的激发温度。结果表明:两种方法得到的等离子体射流中心温度吻合较好,所得到的射流中心温度随弧电流加大而增大的变化趋势也一致。 展开更多
关键词 温度测量 层流等离子体射流 离子饱和电流 动压 光谱法
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SiC/C纳米复合材料的制备与性能表征 被引量:9
7
作者 甘小荣 薛方红 +5 位作者 黄昊 董星龙 汪晓允 于洪涛 刘艳明 全燮 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第2期75-80,86,共7页
在Ar气的保护下,以微米级的石墨粉和Si粉为原料,H2为活性气体,通过直流电弧等离子体法原位合成SiC/C纳米复合材料.采用XRD,Raman和红外光谱分析产物的成分;应用SEM和TEM观察产物的形貌和微结构;使用紫外可见漫反射光谱仪和紫外可见分光... 在Ar气的保护下,以微米级的石墨粉和Si粉为原料,H2为活性气体,通过直流电弧等离子体法原位合成SiC/C纳米复合材料.采用XRD,Raman和红外光谱分析产物的成分;应用SEM和TEM观察产物的形貌和微结构;使用紫外可见漫反射光谱仪和紫外可见分光光度计分别测试了产物的光吸收性质和对亚甲基兰的光催化降解性能.结果表明:产物是由占主相的β-SiC和少量的C组分构成的SiC/C球状复合物;包覆的C壳层厚度为60nm,核层是平均粒径50nm的SiC颗粒,复合体的尺寸约为0.5~1μm;带隙为2.35eV,此复合材料具有较好的电子迁移性能和一定的光催化性能. 展开更多
关键词 直流电弧等离子体法 纳米复合材料 光催化
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微图形定向碳纳米管场发射阵列冷阴极的研究 被引量:12
8
作者 陈长青 丁明清 +4 位作者 李兴辉 白国栋 张甫权 冯进军 邵文生 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第5期363-366,共4页
本文介绍了一种微图形化碳纳米管场发射阵列冷阴极,每个图形的直径仅为1μm,构成一个发射单元。制作工艺如下:首先在硅(100)基片上沉积氮化钛缓冲层,然后采用曝光工艺获得直径为1μm的胶孔阵列,沉积催化剂铁,最后采用直流等离子体增强... 本文介绍了一种微图形化碳纳米管场发射阵列冷阴极,每个图形的直径仅为1μm,构成一个发射单元。制作工艺如下:首先在硅(100)基片上沉积氮化钛缓冲层,然后采用曝光工艺获得直径为1μm的胶孔阵列,沉积催化剂铁,最后采用直流等离子体增强化学气相沉积(DC-PECVD)生长直立的碳纳米管。并对17500个发射单元的阵列阴极进行了表面形貌表征及场发射特性测试。结果表明,碳纳米管阵列阴极的一致性较好;最低开启电场为1 V/μm;电场为17 V/μm时,测得的电流密度已达到90 mA/cm2;发射电流为550μA时,在2.5 h内的波动小于5.6%。 展开更多
关键词 微图形 定向碳纳米管 场发射阵列冷阴极 直流等离子体增强化学气相沉积
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大气压氩气射流等离子体的光谱特性研究 被引量:4
9
作者 李雪辰 张春艳 +1 位作者 李霁媛 鲍文婷 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第12期3305-3309,共5页
等离子体喷枪是一种重要的等离子体源,已成为近几年低温等离子体研究的一个重要课题。本文利用钨针-钨丝网电极制作了直流喷枪装置,在大气压空气中产生了稳定的等离子体羽,并采用发射光谱的方法,对等离子体羽的等离子体参数进行了研究... 等离子体喷枪是一种重要的等离子体源,已成为近几年低温等离子体研究的一个重要课题。本文利用钨针-钨丝网电极制作了直流喷枪装置,在大气压空气中产生了稳定的等离子体羽,并采用发射光谱的方法,对等离子体羽的等离子体参数进行了研究。在钨针电极与钨丝网电极之间放出耀眼的白光,钨丝网电极出口的气流下游有火苗形状的等离子体羽喷出。在电压保持不变的条件下(13.5kV),等离子体羽长度随气体流量增加而增大;在气体流量保持不变的条件下(10L·min^(-1)),羽长度随外加电压的增大而增大。在气体流量一定的条件下,放电电压和放电电流呈反比例关系,即电压随着电流的增大而减小,说明放电属于辉光放电。采集了该喷枪在300~800nm范围内的放电发射光谱,通过玻尔兹曼方法对放电等离子体电子激发温度进行了测量。结果表明,电子的激发温度随外加电压的增大而降低,随着工作气体流量的减小而升高。利用放电的基本理论对上述现象做了解释。这些研究结果对大气压均匀放电等离子体源的研制和工业应用具有重要意义。 展开更多
关键词 等离子体羽 辉光放电 直流喷枪 电子激发温度
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类金刚石膜结构的红外分析 被引量:8
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作者 程宇航 吴一平 +3 位作者 陈建国 乔学亮 谢长生 孙育斌 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第4期508-512,共5页
采用直流-射频等离子化学气相沉积方法制备出类金刚石薄膜,用Fourier透射谱和吸收谱对类金刚石膜的结构进行了研究.类金刚石膜中大部分碳原子以sp3组态存在.结合在膜中的氢原子与碳原子之间可形成sp3C—CH2,sp... 采用直流-射频等离子化学气相沉积方法制备出类金刚石薄膜,用Fourier透射谱和吸收谱对类金刚石膜的结构进行了研究.类金刚石膜中大部分碳原子以sp3组态存在.结合在膜中的氢原子与碳原子之间可形成sp3C—CH2,sp3C—CH3和sp2C—CH2基,其含量以sp3C—CH2基为主.增加Ar气分压与提高极板负偏压对类金刚石膜结构产生的影响是相似的,增大极板负偏压或Ar气的含量将减小类金刚石膜中sp3/sp2比值和H的含量以及CH2基的含量,同时增加薄膜的交联,减少聚合相的含量. 展开更多
关键词 类金刚石薄膜 结构 红外光谱 气相沉积
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掺氮金刚石电极性能及其氧化降解硝基苯研究 被引量:3
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作者 严世胜 彭鸿雁 +6 位作者 赵志斌 潘孟美 羊大立 阿金华 叶国林 王崇太 郭心玮 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2018年第5期565-569,共5页
采用热阴极直流辉光等离子体化学气相沉积法制备亚微米晶氮掺杂金刚石膜(NDD),采用SEM分析样品的表面形貌,分别用Hall测试和循环伏安法测试氮掺杂金刚石电极的电学和电化学性能。实验结果表明,当氮气流量低于30 sccm时,膜的电导率随氮... 采用热阴极直流辉光等离子体化学气相沉积法制备亚微米晶氮掺杂金刚石膜(NDD),采用SEM分析样品的表面形貌,分别用Hall测试和循环伏安法测试氮掺杂金刚石电极的电学和电化学性能。实验结果表明,当氮气流量低于30 sccm时,膜的电导率随氮气流量的增大略有提高;氮气流量继续增大则电导率迅速下降,电导率最大为5.091 S/cm。氮掺杂金刚石电极具有较好的伏安性能,在酸性、中性和碱性介质中均具有较宽的电位窗口和较低的背景电流。以硝基苯为目标污染物测试NDD材料作为阳极氧化降解的电催化性能。在0.1 mol/L Na2SO4溶液的支持电解质中,以氮掺杂金刚石为阳极降解0.5 mmol/L的硝基苯,反应时间300 min,硝基苯的降解率达到94%,化学需氧量(COD)去除率约68%。 展开更多
关键词 热阴极直流辉光等离子体化学气相沉积 掺氮亚微米晶金刚石电极 电催化氧化 硝基苯降解
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直流电弧等离子体喷射(DCPJ)法在沉积金刚石膜上的应用 被引量:1
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作者 翟华嶂 曹传宝 朱鹤孙 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第1期32-34,共3页
直流电弧等离子体喷射法是制备金刚石膜的一项很有前途的技术。综述了直流电弧等离子体喷射法的原理、进展状况、工艺上的改进和建立机理模型上的努力。
关键词 等离子体喷射 化学气相沉积 金刚石 薄膜 DCPJ
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a-C:H(N)薄膜的制备及性能 被引量:1
13
作者 程宇航 吴一平 +3 位作者 陈建国 乔学亮 谢长生 许德胜 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1999年第4期601-606,共6页
采用射频直流等离子化学气相沉积法用 C2 H2 、 N2 和 Ar 组成的混合气体制备a C: H ( N) 薄膜, 研究了薄膜的制备工艺、结构及直流导电特性实验结果表明, a C: H ( N) 薄膜的沉积速率随混合气体中... 采用射频直流等离子化学气相沉积法用 C2 H2 、 N2 和 Ar 组成的混合气体制备a C: H ( N) 薄膜, 研究了薄膜的制备工艺、结构及直流导电特性实验结果表明, a C: H ( N) 薄膜的沉积速率随混合气体中 C2 H2 含量的增加而增大, 当混合气体中 N2 含量增加到75 % 时, 薄膜的含氮量增大到909 % 薄膜中 C、 N 原子以 C≡ N 和 C N 键的形式存在, 展开更多
关键词 C:H(N)薄膜 化学气相沉积 制备 工艺 电阻率
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原位弯曲阴极法测量不同基体上电沉积铜膜和镍膜的内应力 被引量:2
14
作者 殷立涛 任凤章 +3 位作者 马战红 苏娟华 田保红 贾淑果 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2010年第2期40-42,46,共4页
利用直流电沉积法,在碳素钢和铜基体上沉积Ni膜,以及在碳素钢基体上沉积Cu膜。用自行设计的原位弯曲阴极测量装置,测量了不同基体上不同薄膜的内应力。实验表明,原位弯曲阴极法比普通悬臂梁法更精确、简便。薄膜材料的内应力与基体材料... 利用直流电沉积法,在碳素钢和铜基体上沉积Ni膜,以及在碳素钢基体上沉积Cu膜。用自行设计的原位弯曲阴极测量装置,测量了不同基体上不同薄膜的内应力。实验表明,原位弯曲阴极法比普通悬臂梁法更精确、简便。薄膜材料的内应力与基体材料有关。碳素钢基体和纯铜基体上沉积的Ni膜内应力随膜厚呈相反的变化趋势。碳素钢基体上电沉积Cu膜的内应力随膜厚的增加而降低;而碳素钢基体上电沉积Ni膜的内应力随膜厚的增加而增大,但当膜厚增大到一定程度时,内应力变化平缓。 展开更多
关键词 薄膜 直流电沉积 原位弯曲阴极法 内应力
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聚乙烯在等离子体射流水平床内的热解特性 被引量:1
15
作者 吴昂山 聂勇 +2 位作者 江小波 孙艳朋 计建炳 《化学反应工程与工艺》 CAS CSCD 北大核心 2009年第2期188-192,共5页
为了强化等离子体射流与有机固体废弃物的混合接触和反应特性,提出了一种有别于常规下行床结构的水平床,并以有机固体废弃物中的聚乙烯(PE)为热解对象,研究了直流电弧氮等离子体射流水平床内PE的热解特性,考察了PE进料速率对热解产物的... 为了强化等离子体射流与有机固体废弃物的混合接触和反应特性,提出了一种有别于常规下行床结构的水平床,并以有机固体废弃物中的聚乙烯(PE)为热解对象,研究了直流电弧氮等离子体射流水平床内PE的热解特性,考察了PE进料速率对热解产物的分布影响,并比较了不同反应器结构参数下的PE热解气体产物中氢气浓度。结果表明,PE热解产物中以氢气和纳米炭黑为主,有少量的低碳烃。进料速率对热解气体主产物氢气浓度的影响最大,而对低碳烃浓度影响甚小。作为水平床中连接等离子体射流与反应腔的中间石墨接头的出进口直径比越大,越有利于PE穿越等离子体射流的湍流边界进入射流的高温区域,更好地热解制氢。水平床反应腔内的保温石墨管的长度对水平床出口氢气浓度影响不大,PE热解反应在水平床的石墨接头内已迅速完成。 展开更多
关键词 直流电弧 等离子体射流水平床 聚乙烯 热解
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稀土氮化物ScN、YN微晶的制备与表征 被引量:2
16
作者 丛日东 崔航 +1 位作者 张健 崔啟良 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2016年第11期1171-1176,共6页
利用直流电弧等离子体方法制备出稀土氮化物ScN、YN微晶,这是一种快速、低成本、高产量的新方法,可用来制备稀土金属氮化物。结构物性表征和能谱成分分析结果表明,所制备的ScN晶体为满足化学计量比的单晶,而YN晶体为非化学计量比的多晶... 利用直流电弧等离子体方法制备出稀土氮化物ScN、YN微晶,这是一种快速、低成本、高产量的新方法,可用来制备稀土金属氮化物。结构物性表征和能谱成分分析结果表明,所制备的ScN晶体为满足化学计量比的单晶,而YN晶体为非化学计量比的多晶,其中Y的含量高于N。综合XRD、EDS、HRTEM和PL结果分析表明,YN晶体主要由大量随机取向的单晶颗粒组成,单晶颗粒间分布着一些非晶的金属Y,光谱结果分析表明YN中存在大量的N空位。此外,对样品的微观结构形成机理进行了系统分析,由于Y族金属氮化物中有限组分较高的解离压力以及产物在生长过程中经历较高的淬火速率(103 K/s),导致YN解离而形成的Y金属团簇的无序排列,进而使其在冷却过程中形成了非晶结构。 展开更多
关键词 直流电弧等离子体方法 SCN YN微晶 化学计量比 非晶金属Y
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CVD金刚石薄膜热导率的研究 被引量:1
17
作者 陈灵 黄元盛 +2 位作者 邱万奇 刘正义 瞿全炎 《理化检验(物理分册)》 CAS 2002年第2期50-52,共3页
研究了直流等离子体喷射沉积金刚石膜的晶粒尺寸、晶粒取向、膜厚、杂质和缺陷对金刚石膜的热导率的影响。结果表明 ,随着晶粒尺寸的增大 ,金刚石膜的热导率先慢后快逐渐增大 ;随着膜的增厚 ,热导率先大幅度提高 ,达到一定值后 ,变化率... 研究了直流等离子体喷射沉积金刚石膜的晶粒尺寸、晶粒取向、膜厚、杂质和缺陷对金刚石膜的热导率的影响。结果表明 ,随着晶粒尺寸的增大 ,金刚石膜的热导率先慢后快逐渐增大 ;随着膜的增厚 ,热导率先大幅度提高 ,达到一定值后 ,变化率变小 ;晶粒 (111)取向对金刚石膜的热导率最有利 ,其次是 (110 ) ;非金刚石碳相和缺陷都降低膜的热导率 。 展开更多
关键词 直流等离子体射流法 CVD 金刚石薄膜 热导率 晶间空隙
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热阴极直流辉光等离子体化学气相沉积法制备纳米晶金刚石膜的研究 被引量:2
18
作者 彭鸿雁 赵万邦 +2 位作者 赵立新 姜宏伟 孙丽 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第4期6-9,17,共5页
采用热阴极直流辉光等离子体CVD方法,在氩气/甲烷/氢气混合气氛中制备出纳米晶金刚石膜,研究不同氩气/氢气流量比对纳米晶金刚石膜沉积的影响。对样品形貌的SEM测试表明,随着氩气与氢气流量比由40/160增加到190/10,膜中金刚石晶粒尺寸由... 采用热阴极直流辉光等离子体CVD方法,在氩气/甲烷/氢气混合气氛中制备出纳米晶金刚石膜,研究不同氩气/氢气流量比对纳米晶金刚石膜沉积的影响。对样品形貌的SEM测试表明,随着氩气与氢气流量比由40/160增加到190/10,膜中金刚石晶粒尺寸由约600nm减小到约30nm。金刚石膜Raman谱中金刚石特征峰逐渐减弱,石墨G峰逐渐增强,反式聚乙炔特征峰及其伴峰强度加大。等离子体光谱分析表明C2是生长纳米晶金刚石膜的主要活性基团。 展开更多
关键词 纳米晶金刚石膜 热阴极直流辉光等离子体化学气相沉积 氩气/甲烷/氢气混合气
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射频-直流等离子体增强化学气相沉积设备的研制 被引量:1
19
作者 陈建国 程宇航 +1 位作者 吴一平 乔学亮 《真空与低温》 1998年第1期30-34,共5页
综合利用射频和直流辉光放电的特点研制成功射频-直流等离子化学气相沉积设备。成功地用该设备制备出类金刚石薄膜。类金钢石薄膜的沉积速率随极板负偏压、气体工作压力的增加而增大。
关键词 等离子体 化学气相沉积 类金刚石 薄膜 设备
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多电极组合电提取离子法在某金矿的应用研究 被引量:1
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作者 王文龙 肖力 +1 位作者 路彦明 杨拴海 《黄金地质》 2001年第4期52-55,共4页
从电解质溶液的“离子氛”理论及配阴离子理论出发 ,以降低目标离子运移过程中的阻力为目的 ,提出多电极组合电提取离子法。电提取离子法和直流激电相结合 ,可同时测量目标离子提取量 (ΔC ,指示电极上目标离子含量 )、极化率 (ηs)、... 从电解质溶液的“离子氛”理论及配阴离子理论出发 ,以降低目标离子运移过程中的阻力为目的 ,提出多电极组合电提取离子法。电提取离子法和直流激电相结合 ,可同时测量目标离子提取量 (ΔC ,指示电极上目标离子含量 )、极化率 (ηs)、视电阻 (ρs)、自然电位 (ΔV)。测量这些参数 ,能提高对异常属性的判断力 ,缩短电提取离子法的工作时间 。 展开更多
关键词 金矿床 直流电法 离子氛 有效提取域 松驰力 电泳力 地球物理勘探 电提取离子法
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