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Fabrication of Superhydrophobic Surfaces on Aluminum Alloy Via Electrodeposition of Copper Followed by Electrochemical Modification 被引量:5
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作者 Ying Huang D.K.Sarkar X-Grant Chen 《Nano-Micro Letters》 SCIE EI CAS 2011年第3期160-165,共6页
Superhydrophobic aluminum surfaces have been prepared by means of electrodeposition of copper on aluminum surfaces, followed by electrochemical modification using stearic acid organic molecules. Scanning electron micr... Superhydrophobic aluminum surfaces have been prepared by means of electrodeposition of copper on aluminum surfaces, followed by electrochemical modification using stearic acid organic molecules. Scanning electron microscopy(SEM) images show that the electrodeposited copper films follow "island growth mode" in the form of microdots and their number densities increase with the rise of the negative deposition potentials. At an electrodeposition potential of-0.2 V the number density of the copper microdots are found to be 4.5×104cm^(-2)that are increased to 2.9×105cm^(-2)at a potential of-0.8 V. Systematically, the distances between the microdots are found to be reduced from 26.6 μm to 11.03 μm with the increase of negative electrochemical potential from-0.2 V to-0.8 V. X-ray diffraction(XRD) analyses have confirmed the formation of copper stearate on the stearic acid modified copper films. The roughness of the stearic acid modified electrodeposited copper films is found to increase with the increase in the density of the copper microdots. A critical copper deposition potential of-0.6 V in conjunction with the stearic acid modification provides a surface roughness of 6.2 μm with a water contact angle of 157?, resulting in superhydrophobic properties on the aluminum substrates. 展开更多
关键词 Superhydrophobic aluminum surface Water contact angle copper microdots Surface roughness Electrochemical modification
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A theoretical and deep learning hybrid model for predicting surface roughness of diamond-turned polycrystalline materials 被引量:2
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作者 Chunlei He Jiwang Yan +3 位作者 Shuqi Wang Shuo Zhang Guang Chen Chengzu Ren 《International Journal of Extreme Manufacturing》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第3期620-644,共25页
Polycrystalline materials are extensively employed in industry.Its surface roughness significantly affects the working performance.Material defects,particularly grain boundaries,have a great impact on the achieved sur... Polycrystalline materials are extensively employed in industry.Its surface roughness significantly affects the working performance.Material defects,particularly grain boundaries,have a great impact on the achieved surface roughness of polycrystalline materials.However,it is difficult to establish a purely theoretical model for surface roughness with consideration of the grain boundary effect using conventional analytical methods.In this work,a theoretical and deep learning hybrid model for predicting the surface roughness of diamond-turned polycrystalline materials is proposed.The kinematic–dynamic roughness component in relation to the tool profile duplication effect,work material plastic side flow,relative vibration between the diamond tool and workpiece,etc,is theoretically calculated.The material-defect roughness component is modeled with a cascade forward neural network.In the neural network,the ratio of maximum undeformed chip thickness to cutting edge radius RT S,work material properties(misorientation angle θ_(g) and grain size d_(g)),and spindle rotation speed n s are configured as input variables.The material-defect roughness component is set as the output variable.To validate the developed model,polycrystalline copper with a gradient distribution of grains prepared by friction stir processing is machined with various processing parameters and different diamond tools.Compared with the previously developed model,obvious improvement in the prediction accuracy is observed with this hybrid prediction model.Based on this model,the influences of different factors on the surface roughness of polycrystalline materials are discussed.The influencing mechanism of the misorientation angle and grain size is quantitatively analyzed.Two fracture modes,including transcrystalline and intercrystalline fractures at different RTS values,are observed.Meanwhile,optimal processing parameters are obtained with a simulated annealing algorithm.Cutting experiments are performed with the optimal parameters,and a flat surface finish with Sa 1.314 nm is finally achieved.The developed model and corresponding new findings in this work are beneficial for accurately predicting the surface roughness of polycrystalline materials and understanding the impacting mechanism of material defects in diamond turning. 展开更多
关键词 diamond turning material-defect roughness component polycrystalline copper neural network simulated annealing algorithm
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Surface characterization and electrical resistivity of electroless plating nanocrystalline copper films on glass
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作者 张会平 江中浩 +1 位作者 连建设 侯旭峰 《中国有色金属学会会刊:英文版》 CSCD 2007年第A02期736-740,共5页
Nanocrystalline copper films were prepared on the glass by electroless plating technique. The surface characterization of copper films with different deposition time was studied by field emission scanning electron mic... Nanocrystalline copper films were prepared on the glass by electroless plating technique. The surface characterization of copper films with different deposition time was studied by field emission scanning electron microscopy(FESEM) and atomic force microscopy(AFM). The results indicate that the copper films have a(111) texture. A continuous and smooth film forms on the glass substrate at deposition times of 5 min. The surface roughness of as-deposited copper films becomes rougher with large nodules as the deposition time increases. According to Fuchs-Sondheimer(F-S),Mayadas-Shatzkes(M-S) theory and a combined model,the grain boundary reflection coefficient(R) is calculated in the range of 0.40-0.75. The theoretical analysis based on the experimental results show that the grain boundaries contribute mainly to the increase of electrical resistivity of nanocrystalline copper film compared with the film surfaces. 展开更多
关键词 纳米晶铜薄膜 化学镀层 表面粗糙度 电阻系数
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阴极钛材表面处理工艺对其表面状态及铜离子电沉积初期行为的影响
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作者 何萌 贾淑果 +6 位作者 朱倩倩 谷宗治 卢伟伟 徐鹏 柳亚辉 杨斌 宋克兴 《精密成形工程》 北大核心 2024年第9期56-64,共9页
目的研究表面处理工艺对钛材表面状态的影响,进一步探究阴极钛材表面状态对铜离子电沉积初期形核行为的影响。方法利用砂纸研磨、机械/电解抛光、化学腐蚀等不同的表面处理工艺,制备出不同表面状态的钛材,对钛材的表面粗糙度和形貌分别... 目的研究表面处理工艺对钛材表面状态的影响,进一步探究阴极钛材表面状态对铜离子电沉积初期形核行为的影响。方法利用砂纸研磨、机械/电解抛光、化学腐蚀等不同的表面处理工艺,制备出不同表面状态的钛材,对钛材的表面粗糙度和形貌分别进行测试和扫描电镜观察。以不同表面状态的钛材作为阴极,进行铜离子的电沉积实验,对初始沉积层组织进行扫描电镜观察,并统计铜晶核的尺寸、覆盖率。结果砂纸研磨的钛材表面粗糙度最大,随着砂纸目数的增加,粗糙度降低,划痕变得细密,沉积的铜晶核尺寸较小、分布均匀、面覆盖率较高;抛光可显著降低钛材表面粗糙度,电解抛光的粗糙度最低,但铜晶核难以牢固附着;化学腐蚀会在钛材表面残留金属颗粒或暴露晶界组织,沉积的铜晶核分布不均匀且易发生团簇。结论铜离子的初始沉积形核行为与阴极钛材的表面粗糙度和缺陷状态密切相关,采用3000#~4000#砂纸精细研磨的方式,可使钛材表面粗糙度Rz保持在1~1.2μm,且表面覆盖有高密度均匀细小的划痕缺陷,最有利于铜离子的高密度均匀形核。 展开更多
关键词 铜离子电沉积 钛阴极 表面处理工艺 粗糙度 形核行为
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反向处理铜箔微纳组织形成机理及其对力学性能的作用机制
5
作者 高颢洋 郑月红 +3 位作者 牛嘉楠 朱敏 喇培清 祝思佳 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第16期219-228,共10页
目的第五代移动通信技术(5G)时代,高频高速信号传输过程中由于“趋肤效应”引起的信号损耗甚至“失真”越来越严重,为了解决这一问题,提出了一种反向处理铜箔的新技术,然而国内当前应用的高性能反向处理铜箔(RTF)主要依赖进口,要想在短... 目的第五代移动通信技术(5G)时代,高频高速信号传输过程中由于“趋肤效应”引起的信号损耗甚至“失真”越来越严重,为了解决这一问题,提出了一种反向处理铜箔的新技术,然而国内当前应用的高性能反向处理铜箔(RTF)主要依赖进口,要想在短时间内缩小国内外铜箔性能和生产效率的差距,最终实现这类高端铜箔的国产化,必须在明确该类铜箔微纳结构形成机理及其对性能影响的前提下,加快制备工艺的开发和优化。方法采用电镀法在阴极钛辊上沉积了电解生箔,在其光面进行粗化和镀Zn层等后续处理获得反向处理铜箔,同时以国外反向处理铜箔为参照,采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和透射电子显微镜详细分析其微纳组织与结构,采用激光共聚焦显微镜和万能试验机测量其粗糙度和拉伸性能。结果本工作中的RTF具有与国外商业产品相似的微观结构,由小的等轴晶和较大的柱状晶组成,且包含较多的纳米孪晶,孪晶界占比为30.8%,平均宽度为7.9 nm。S面是均匀的米粒状铜颗粒,而M面是较大的圆锥形铜颗粒。S面上的Zn层均匀致密,厚度约为6.5 nm,只有小部分Zn扩散到基底上形成CuZn3相。但从S面到M面,优选取向从(111)Cu逐渐变为(220)Cu,这与参比RTF略有不同。性能方面,参比RTF的Ra和Rz分别为1.22、1.42μm,抗拉强度为335.10 MPa,伸长率为15.5%,本工作中的RTF具有较低的粗糙度,Ra和Rz分别为0.68、1.03μm,其强度也具有明显优势(393.68 MPa),但延展性低于参比样品。通过对比分析,总结了铜箔在初始外延、过渡生长和电沉积条件控制的生长阶段3个阶段的生长特性,给出了影响每个阶段晶粒生长的主要因素,并且详细讨论了晶粒尺寸和纳米孪晶宽度对铜箔拉伸性能的影响。结论对RTF微观结构和性能的深入研究,有助于找到高性能铜箔国产化“瓶颈”的根源,为高性能铜箔在5G通信领域的进一步发展和应用奠定基础。 展开更多
关键词 铜箔 电镀 反向处理 微纳结构 粗糙度 拉伸性能
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纯钛表面状态对电解铜箔形核机制的影响
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作者 戎万 杨斌 +4 位作者 冯庆 王轶 贾波 张乐 操齐高 《中国材料进展》 CAS CSCD 北大核心 2024年第12期1111-1117,共7页
针对钛阴极辊表面电沉积铜箔的高质量要求,主要开展纯钛片晶粒度和表面状态对电解铜箔初始沉积层形核和生长影响规律的研究。形貌和成分分析结果表明,较高的晶粒度更有利于铜核快速形成,铜核优先在缺陷处形成,并逐渐长大连接成片;较大... 针对钛阴极辊表面电沉积铜箔的高质量要求,主要开展纯钛片晶粒度和表面状态对电解铜箔初始沉积层形核和生长影响规律的研究。形貌和成分分析结果表明,较高的晶粒度更有利于铜核快速形成,铜核优先在缺陷处形成,并逐渐长大连接成片;较大的粗糙度可使铜核快速长大,而随着粗糙度的减小,铜核会在更多的位置形成,但长大后的尺寸减小。电化学分析结果表明,适当粗糙度的钛片具有更高的耐蚀性和电荷转移能力。此外,COMSOL建模结果证明钛片表面的尖端位置具有较高的电流密度与较大的铜箔沉积厚度,电流密度和沉积厚度随着距离钛片表面的尖端位置越远而变得更小。通过研究铜箔初始沉积层的形核和生长机制,可以为钛阴极辊的制备提供理论指导,即增大钛阴极辊的晶粒度、适当减小表面粗糙度和避免尖端区域的形成对于制备厚度均匀、表面平整的电解铜箔至关重要。 展开更多
关键词 钛阴极辊 电解铜箔 晶粒度 粗糙度 初始沉积层
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低轮廓电解铜箔表面微细粗化工艺研究
7
作者 凌羽 卢伟伟 +5 位作者 宋克兴 刘海涛 武玉英 杨祥魁 樊斌锋 王庆福 《精密成形工程》 北大核心 2024年第7期173-181,共9页
目的针对低轮廓电解铜箔剥离强度不足的问题,进行铜箔表面微细粗化处理研究,通过在铜箔表面生成可控形态的针状结构粗化层,以期在不影响低轮廓铜箔表面整体轮廓的条件下,提高铜箔的抗剥离性能。方法采用电化学微细粗化法,以NaOH和K_(2)S... 目的针对低轮廓电解铜箔剥离强度不足的问题,进行铜箔表面微细粗化处理研究,通过在铜箔表面生成可控形态的针状结构粗化层,以期在不影响低轮廓铜箔表面整体轮廓的条件下,提高铜箔的抗剥离性能。方法采用电化学微细粗化法,以NaOH和K_(2)S_(2)O_(8)的混合溶液为粗化电解液,研究电流密度、NaOH浓度及K_(2)S_(2)O_(8)浓度等主要工艺参数对铜箔表面针状结构形貌、粗糙度及铜箔剥离强度的影响。结果经过微细粗化处理后,低轮廓电解铜箔表面形成了针状多面体结构,在粗化电流密度为1.5 A/dm^(2)、粗化液中NaOH质量浓度为100 g/L、K_(2)S_(2)O_(8)质量浓度为20 g/L的条件下,粗化层形成的针状多面体结构致密且均匀,铜箔的剥离强度提升至0.48 N/mm。结论通过电化学微细粗化法,在低轮廓电解铜箔表面成功制备了针状结构的粗化层,通过优化微细粗化工艺参数,实现了铜箔表面针状结构粗化层的可控制备,在保证铜箔低表面粗糙度的同时,有效提高了铜箔的剥离强度。 展开更多
关键词 电解铜箔 微细粗化处理 针状多面体 粗糙度 剥离强度
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4~5 K铟片填充下无氧铜材料接触热阻实验研究
8
作者 遆元博 卫昭夏 +4 位作者 陈志超 蒋珍华 刘少帅 吴亦农 董德平 《真空与低温》 2024年第2期166-171,共6页
在陆续开展的深空探测任务中,高精度光学探测设备需要长期稳定的深低温工作环境。传热界面由于传热介质的热阻而存在一定的传热温差,为确保设备的工作环境,避免探测效率下降、精度下降和噪声干扰增加等严重后果,对无氧铜和不锈钢两种深... 在陆续开展的深空探测任务中,高精度光学探测设备需要长期稳定的深低温工作环境。传热界面由于传热介质的热阻而存在一定的传热温差,为确保设备的工作环境,避免探测效率下降、精度下降和噪声干扰增加等严重后果,对无氧铜和不锈钢两种深低温温区常用的固体导热材料的界面接触热阻进行了实验测试。在真空、4~5.2 K、压力为3 077 N、铟片为填充物的条件下,测量了粗糙度为Ra=3.2的不锈钢-无氧铜接触热阻。结果表明:无氧铜界面间接触热阻在10^(-5)~10^(-4) m^(2)·K/W量级,且随温度的升高和粗糙度的减小而减小;无氧铜和不锈钢间的接触热阻在10^(-2) m^(2)·K/W量级。 展开更多
关键词 接触热阻 液氦温区 无氧铜 粗糙度
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铜箔粗糙度对高速高频PCB信号传输的影响研究 被引量:1
9
作者 雷璐娟 雷川 +5 位作者 曹磊磊 冯天勇 孙军 何为 陈苑明 向斌 《印制电路信息》 2024年第S01期19-27,共9页
随着印制电路板(PCB)传输速率的日益提升,新出现的56 GB/s和112 GB/s的高速系统,以及更高的224 GB/s传输速率需求,正接近传统电子硬件的物理极限,对PCB的信号完整性提出了更大的挑战。本文主要研究在高速高频材料(如M6、M7、M8)上,不同... 随着印制电路板(PCB)传输速率的日益提升,新出现的56 GB/s和112 GB/s的高速系统,以及更高的224 GB/s传输速率需求,正接近传统电子硬件的物理极限,对PCB的信号完整性提出了更大的挑战。本文主要研究在高速高频材料(如M6、M7、M8)上,不同的棕化药水对铜箔粗糙度影响导致的插损性能差异,探讨了棕化药水与PCB插损之间的关系,并提出了相应的改善措施。研究结果对于提高PCB性能具有重要的指导意义。 展开更多
关键词 高速高频PCB 棕化药水 铜箔粗糙度 插损
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普朗铜矿粗颗粒水力浮选实验研究
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作者 罗选旭 封东霞 +4 位作者 童雄 熊宇农 罗亨通 郭明龙 董梦 《矿产保护与利用》 2024年第3期81-88,共8页
针对云南普朗斑岩型铜矿难磨难选的特点,在分析矿石性质的基础上进行粗颗粒水力浮选实验。矿石中的铜主要以黄铜矿形式赋存,钼主要以辉钼矿形式赋存,脉石矿物主要为石英及钠/钙长石。采用HydroFloat水力浮选机对粗颗粒铜钼矿进行混合浮... 针对云南普朗斑岩型铜矿难磨难选的特点,在分析矿石性质的基础上进行粗颗粒水力浮选实验。矿石中的铜主要以黄铜矿形式赋存,钼主要以辉钼矿形式赋存,脉石矿物主要为石英及钠/钙长石。采用HydroFloat水力浮选机对粗颗粒铜钼矿进行混合浮选,达到抛尾目的,减少后续磨矿能耗。HydroFloat水力浮选机在传统流化床的基础上引入气泡,通过复合力场使粗颗粒悬浮后随气泡上升达到分选目的。经水力浮选后,可从铜品位0.39%和含钼0.009%的原矿浮选得到铜品位为0.73%、回收率为95.84%,钼品位为0.016%、回收率为92.05%的铜钼混合粗精矿,抛尾率可达48.80%。 展开更多
关键词 斑岩型铜矿 粗颗粒 水力浮选 铜钼混合粗精矿
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阴极辊在线抛磨参数对电解铜箔性能的影响 被引量:1
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作者 刘鹏辉 尹朋朋 +1 位作者 唐宏洁 李晓晗 《电镀与涂饰》 CAS 北大核心 2024年第1期59-63,共5页
[目的]阴极辊的表面状态会影响电解铜箔的品质,抛磨处理能够令阴极辊保持较佳的表面状态。[方法]通过对日常生产中阴极辊抛磨参数的跟踪与铜箔性能的分析,探究了电解铜箔生产中阴极辊在线抛磨对铜箔粗糙度、拉伸强度、延伸率等性能的影... [目的]阴极辊的表面状态会影响电解铜箔的品质,抛磨处理能够令阴极辊保持较佳的表面状态。[方法]通过对日常生产中阴极辊抛磨参数的跟踪与铜箔性能的分析,探究了电解铜箔生产中阴极辊在线抛磨对铜箔粗糙度、拉伸强度、延伸率等性能的影响。[结果]适当提升抛磨刷的摆动频率,降低抛磨刷与阴极辊间的接触压力,增大阴极辊抛磨长度,以及使用小粒度的抛磨刷均能降低铜箔的粗糙度,提高铜箔的常温拉伸强度,减小铜箔纵向与横向延伸率的差异,提高产品合格率。[结论]控制好阴极辊的在线抛磨参数有助于获得品质良好的电解铜箔。 展开更多
关键词 电解铜箔 阴极辊 在线抛磨 表面粗糙度 拉伸强度 延伸率
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含硫添加剂对8μm锂电铜箔性能的影响研究 被引量:1
12
作者 李谋翠 樊斌锋 +2 位作者 赵玉龙 王庆福 王绪军 《矿冶工程》 CAS 北大核心 2024年第2期188-191,共4页
采用线性扫描伏安法和循环伏安剥离法研究了Cu^(2+)、H_(2)SO_(4)、Cl^(-)浓度分别为85 g/L、100 g/L、2 mg/L的电解液中添加光亮剂聚二硫二丙烷磺酸钠(SPS)和3-巯基-1-丙磺酸钠(MPS)对铜电沉积的影响,并研究了SPS和MPS对锂电铜箔抗拉... 采用线性扫描伏安法和循环伏安剥离法研究了Cu^(2+)、H_(2)SO_(4)、Cl^(-)浓度分别为85 g/L、100 g/L、2 mg/L的电解液中添加光亮剂聚二硫二丙烷磺酸钠(SPS)和3-巯基-1-丙磺酸钠(MPS)对铜电沉积的影响,并研究了SPS和MPS对锂电铜箔抗拉强度、延伸率、光泽度及粗糙度的影响。结果表明,SPS和MPS对铜电沉积具有促进作用,且SPS的促进作用更强;SPS和MPS分别与胶原蛋白和羟乙基纤维素复配后,对铜电沉积的促进作用减弱;SPS更有利于提高铜箔抗拉强度,MPS更有利于提升铜箔延伸率;SPS浓度1.0 mg/L、MPS浓度1.5 mg/L时,铜箔毛面光泽度和粗糙度均较好,铜箔表面平整且致密。 展开更多
关键词 锂电铜箔 电解铜箔 含硫添加剂 胶原蛋白 光泽度 粗糙度 光亮剂 锂离子电池
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某铜矿提铜降硅试验研究 被引量:1
13
作者 黄一东 《黄金》 CAS 2024年第5期40-43,共4页
某铜矿经选别后所得铜精矿含SiO_(2)约26%,SiO_(2)品位过高会增加后续冶炼成本,但提高铜品位、降低SiO_(2)品位可能会降低铜回收率。为了能够更好地提铜降硅,开展了试验研究。结果表明:随着再磨细度的提高,SiO_(2)品位呈下降趋势,铜品... 某铜矿经选别后所得铜精矿含SiO_(2)约26%,SiO_(2)品位过高会增加后续冶炼成本,但提高铜品位、降低SiO_(2)品位可能会降低铜回收率。为了能够更好地提铜降硅,开展了试验研究。结果表明:随着再磨细度的提高,SiO_(2)品位呈下降趋势,铜品位呈上升趋势,铜回收率呈先上升后趋于平稳趋势;在磨矿细度-0.074 mm占75%,再磨细度-0.023 mm占85%条件下,采用一粗二扫三精的闭路试验流程,可获得铜品位23.40%,含SiO_(2 ) 12.40%,铜回收率89.42%的铜精矿。 展开更多
关键词 铜精矿 回收率 二氧化硅 浮选 粗精矿再磨
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艾萨磨在某高硫铜锌混合粗精矿铜锌分离中的应用 被引量:2
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作者 王花 张威 《现代矿业》 CAS 2024年第1期140-143,共4页
某高硫铜锌混合粗精矿在铜锌分离过程中难以获得铜品位18%以上的铜精矿,为解决铜精矿品位偏低的问题,进行了艾萨磨再磨工艺与现场球磨+水力旋流器再磨分级工艺对比试验研究。试验结果表明:采用艾萨磨工艺,铜锌分离作业可获得铜品位20.52... 某高硫铜锌混合粗精矿在铜锌分离过程中难以获得铜品位18%以上的铜精矿,为解决铜精矿品位偏低的问题,进行了艾萨磨再磨工艺与现场球磨+水力旋流器再磨分级工艺对比试验研究。试验结果表明:采用艾萨磨工艺,铜锌分离作业可获得铜品位20.52%、锌含量2.38%、铜回收率89.32%的铜精矿,与现场球磨再磨工艺相比,铜精矿品位提高了2.82个百分点,锌含量降低了1.17个百分点,铜回收率提高了3.98个百分点。 展开更多
关键词 高硫铜锌粗精矿 铜锌分离 艾萨磨再磨工艺 铜精矿
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BTA与TT-LYK对铜CMP缓蚀效果和协同效应研究
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作者 孟妮 张祥龙 +4 位作者 李相辉 谢顺帆 邱宇轩 聂申奥 何彦刚 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2024年第2期89-97,共9页
在铜化学机械抛光中,由于典型缓蚀剂苯并三氮唑(BTA)对铜表面化学保护作用非常强烈,造成铜去除速率过低的现象。为了获得更好的缓蚀效果和铜表面质量,在近中性溶液中,对BTA缓蚀剂和新型缓蚀剂2,2′-[[(甲基-1H-苯并三唑-1-基)甲基]亚氨... 在铜化学机械抛光中,由于典型缓蚀剂苯并三氮唑(BTA)对铜表面化学保护作用非常强烈,造成铜去除速率过低的现象。为了获得更好的缓蚀效果和铜表面质量,在近中性溶液中,对BTA缓蚀剂和新型缓蚀剂2,2′-[[(甲基-1H-苯并三唑-1-基)甲基]亚氨基]双乙醇-(TT-LYK)的缓蚀效果进行比较,并对2种缓蚀剂的复配效果进行研究。结果表明:在近中性溶液中,BTA和TT-LYK均可以有效抑制铜表面腐蚀;2种缓蚀剂复配后具有协同作用,添加到抛光液中可得到更好的铜表面质量和更低的粗糙度,这可能是由于2种缓蚀剂的钝化膜类别相似,使得在一种缓蚀剂形成配合物的基础上,另一种缓蚀剂对生成的钝化膜进行补充,使得双层钝化膜更致密,能更好地保护铜表面不受腐蚀。 展开更多
关键词 化学机械抛光 混合缓蚀剂 苯并三氮唑 表面粗糙度
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粗化工艺对电解铜箔抗剥离强度和劣化率的影响
16
作者 彭雪嵩 由宏伟 +5 位作者 李兰晨 宋姝嬛 乐士儒 张锦秋 杨培霞 安茂忠 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2024年第3期95-101,共7页
铜箔粗化工艺与固化工艺是铜箔表面后处理中最关键的两个环节,粗化与固化工艺的好坏直接决定铜箔的性能。根据铜箔粗化与固化工艺过程,本文研究了Cu2+浓度、电流密度、镀液温度等因素对铜箔表面形貌和抗剥离性能以及劣化率的影响,在优... 铜箔粗化工艺与固化工艺是铜箔表面后处理中最关键的两个环节,粗化与固化工艺的好坏直接决定铜箔的性能。根据铜箔粗化与固化工艺过程,本文研究了Cu2+浓度、电流密度、镀液温度等因素对铜箔表面形貌和抗剥离性能以及劣化率的影响,在优化后的工艺条件下制备出了抗剥离强度为1.29N/mm,劣化率为3.01%且无侧蚀的粗化电解铜箔。 展开更多
关键词 电解铜箔 粗化工艺 抗剥离强度 劣化率 粗糙度
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有机添加剂对超低轮廓电解铜箔性能的影响
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作者 宋言 朱若林 陈岩 《电镀与涂饰》 CAS 北大核心 2024年第11期24-31,共8页
[目的]研究电解液中聚二硫二丙烷磺酸钠(SPS)和胶原蛋白(QS)质量浓度对超低轮廓(HVLP)电解铜箔性能的影响。[方法]采用以SPS为光亮剂、QS为整平剂及含有四氢噻唑硫铜(H1)的电解液电沉积制备了HVLP铜箔。研究了SPS和QS质量浓度不同时所得... [目的]研究电解液中聚二硫二丙烷磺酸钠(SPS)和胶原蛋白(QS)质量浓度对超低轮廓(HVLP)电解铜箔性能的影响。[方法]采用以SPS为光亮剂、QS为整平剂及含有四氢噻唑硫铜(H1)的电解液电沉积制备了HVLP铜箔。研究了SPS和QS质量浓度不同时所得HVLP铜箔毛面的光泽度、粗糙度、力学性能、形貌和组织结构。[结果]SPS和QS的质量浓度都显著影响着HVLP铜箔的性能。随着SPS和QS质量浓度的增大,铜箔的抗拉强度先升后降,断裂伸长率先降后升,铜箔上Cu(200)晶面的择优取向增强,表面由沟壑状向平坦化转变。SPS和QS的质量浓度在2~8 mg/L范围内变化时所得铜箔性能均满足要求。[结论]通过调整电解液中SPS或QS的质量浓度均能制备出高光泽、低粗糙度的HVLP铜箔。 展开更多
关键词 电解铜箔 超低轮廓 粗糙度 抗拉强度 晶面取向
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聚醚类添加剂在5μm极薄电解铜箔制备中的影响
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作者 姬琳 樊斌锋 +1 位作者 王庆福 李伟涛 《矿冶工程》 CAS 北大核心 2024年第4期72-74,80,共4页
通过电化学、扫描电镜、X射线衍射仪研究了聚醚类添加剂对5μm极薄锂电铜箔性能的影响。结果表明,电解液中添加聚醚类添加剂能促使铜的沉积电位负移;适宜质量浓度的聚醚类添加剂能细化铜箔晶粒,有利于提高铜箔表面平整性;聚醚类添加剂... 通过电化学、扫描电镜、X射线衍射仪研究了聚醚类添加剂对5μm极薄锂电铜箔性能的影响。结果表明,电解液中添加聚醚类添加剂能促使铜的沉积电位负移;适宜质量浓度的聚醚类添加剂能细化铜箔晶粒,有利于提高铜箔表面平整性;聚醚类添加剂质量浓度2.3 mg/L时,所得铜箔抗拉强度620.43 MPa,延伸率3.67%,光泽度161 GU,毛面粗糙度1.02μm,综合性能极好;高抗拉强度电解铜箔具有(111)晶面择优取向特征。 展开更多
关键词 锂电铜箔 聚醚类添加剂 电化学 抗拉强度 延伸率 光泽度 粗糙度
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添加剂聚乙二醇分子量对电解铜箔性能的影响
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作者 樊斌锋 董玉佳 +3 位作者 王庆福 王坤 朱石林 程润润 《中国有色冶金》 CAS 北大核心 2024年第5期17-22,共6页
聚乙二醇(PEG)是电解铜箔制备过程中常用的润湿剂,具有细化晶粒、整平镀层的作用,同时还可调节镀层的力学性能,现有文献针对PEG浓度大小对电解铜箔性能影响研究较多,而系统研究PEG分子量大小对电解铜箔性能影响鲜有报道。本研究使用分... 聚乙二醇(PEG)是电解铜箔制备过程中常用的润湿剂,具有细化晶粒、整平镀层的作用,同时还可调节镀层的力学性能,现有文献针对PEG浓度大小对电解铜箔性能影响研究较多,而系统研究PEG分子量大小对电解铜箔性能影响鲜有报道。本研究使用分子量为200、1000、4000和8000的聚乙二醇(PEG)作为电解铜箔的添加剂,在Cl-存在的情况下,制备出添加不同分子量PEG的电解铜箔,探究PEG分子量的大小对铜的电沉积行为、铜箔的表观形貌、质重和厚度、M面亮度和粗糙度以及抗拉强度和延伸率的影响。结果表明,当PEG分子量为200时,对铜的电沉积表现为促进作用,制备出的电解铜箔与未添加PEG相比,表面晶粒尺寸稍大,粗糙度升高,抗拉强度和延伸率有所降低;当PEG分子量为1000、4000和8000时,对铜的电沉积表现为抑制作用,且抑制效果为4000>1000>8000,此时制备的铜箔表面晶粒尺寸减小且变得平整均匀,粗糙度降低,抗拉强度和延伸率也有所提升,尤其是当PEG分子量为4000时,制备出的电解铜箔的性能最优,M面粗糙度由3.79降至2.79,抗拉强度和延伸率分别提升了43%和114%;不同分子量PEG对铜箔的质重、厚度及M面亮度影响不大。本研究结果为电解铜箔时选择适宜分子量PEG提供了参考。 展开更多
关键词 电解铜箔 电沉积 聚乙二醇(PEG) 分子量 添加剂 力学性能 粗糙度
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硅烷偶联剂对高速高频板用RTF铜箔剥离强度的影响
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作者 尹卫华 张妞妞 +1 位作者 王海振 王维河 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2024年第12期101-106,共6页
随着信息化科技的飞速发展,高频高速板用铜箔正朝着低粗糙度和高剥离强度的方向发展,传统高粗糙度的标准铜箔(HTE)已不再满足要求,这就诞生了低粗糙度的反转铜箔(RTF)。RTF铜箔是对铜箔光面进行粗化处理,采用SEM、抗拉强度测试仪、剥离... 随着信息化科技的飞速发展,高频高速板用铜箔正朝着低粗糙度和高剥离强度的方向发展,传统高粗糙度的标准铜箔(HTE)已不再满足要求,这就诞生了低粗糙度的反转铜箔(RTF)。RTF铜箔是对铜箔光面进行粗化处理,采用SEM、抗拉强度测试仪、剥离强度测试仪、粗糙度仪等来表征RTF铜箔物性,主要从硅烷偶联剂角度来提高RTF铜箔与高频高速板材(988G)之间的剥离强度。分别对含有氨基、环氧基、乙烯基及巯基的活性官能团硅烷进行研究,发现乙烯基三甲氧基硅烷(KBM-1003)与988G板材之间具有更高的黏结强度,当KBM-1003水溶液浓度为2g/L、温度为25~35℃、pH值为3.0~4.0时,涂覆后的RTF铜箔与988G板材之间具有较高的剥离强度。 展开更多
关键词 高频高速板 低粗糙度 RTF铜箔 乙烯基三甲氧基硅烷
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