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利用Batch Implant机台离子注入dose梯度分布调控注入均匀性的技术分析
1
作者
庞宏庄
国子明
《集成电路应用》
2024年第2期44-47,共4页
阐述发现batch implant机台所作业的wafer状况,在wafer面内存在规律性梯度差异的dose分布。基于wafer processing过程中的形变现象,通过fine tune beam line及优化diskangle条件,可以定量设计dose梯度分布情况。通过优化离子注入在wafe...
阐述发现batch implant机台所作业的wafer状况,在wafer面内存在规律性梯度差异的dose分布。基于wafer processing过程中的形变现象,通过fine tune beam line及优化diskangle条件,可以定量设计dose梯度分布情况。通过优化离子注入在wafer面内分布的dose对称性,可以有效改善离子注入均匀性。
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关键词
集成电路制造
dose
梯度
dose对称性
离子注入均匀性
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职称材料
题名
利用Batch Implant机台离子注入dose梯度分布调控注入均匀性的技术分析
1
作者
庞宏庄
国子明
机构
上海华虹宏力半导体制造有限公司
出处
《集成电路应用》
2024年第2期44-47,共4页
文摘
阐述发现batch implant机台所作业的wafer状况,在wafer面内存在规律性梯度差异的dose分布。基于wafer processing过程中的形变现象,通过fine tune beam line及优化diskangle条件,可以定量设计dose梯度分布情况。通过优化离子注入在wafer面内分布的dose对称性,可以有效改善离子注入均匀性。
关键词
集成电路制造
dose
梯度
dose对称性
离子注入均匀性
Keywords
integrated circuit manufacturing
dose
gradient
dose
symmetry
dose
uniformity
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
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1
利用Batch Implant机台离子注入dose梯度分布调控注入均匀性的技术分析
庞宏庄
国子明
《集成电路应用》
2024
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职称材料
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