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E型硅杯结构偏差对膜片应力分布的影响
被引量:
1
1
作者
丁艳萍
吴坚民
郑殿忠
《仪表技术与传感器》
CSCD
北大核心
1998年第1期32-33,38,共3页
本文通过有限单元法对E型硅杯进行应力分析,研究E型硅杯的结构偏差对膜片应力分布的影响,进而给出E型硅杯的结构偏差与膜片应力非线性度的关系。
关键词
压力传感器
结构偏差
应力分析
e型硅杯
下载PDF
职称材料
题名
E型硅杯结构偏差对膜片应力分布的影响
被引量:
1
1
作者
丁艳萍
吴坚民
郑殿忠
机构
沈阳仪器仪表工艺研究所
出处
《仪表技术与传感器》
CSCD
北大核心
1998年第1期32-33,38,共3页
文摘
本文通过有限单元法对E型硅杯进行应力分析,研究E型硅杯的结构偏差对膜片应力分布的影响,进而给出E型硅杯的结构偏差与膜片应力非线性度的关系。
关键词
压力传感器
结构偏差
应力分析
e型硅杯
Keywords
Pr
e
ssur
e
S
e
nsor,Structural D
e
viation.Str
e
ss Analysis.
分类号
TP212 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
TH823.203 [机械工程—精密仪器及机械]
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作者
出处
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被引量
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1
E型硅杯结构偏差对膜片应力分布的影响
丁艳萍
吴坚民
郑殿忠
《仪表技术与传感器》
CSCD
北大核心
1998
1
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