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EBCMOS钝化层表面残气吸附特性
1
作者
李书涵
陈文娥
+3 位作者
王重霄
陈卫军
宋德
李野
《半导体光电》
CAS
北大核心
2023年第6期901-906,共6页
基于密度泛函理论,研究了电子轰击互补金属氧化物半导体(EBCMOS)钝化层表面的残气吸附机制,并分析其电学特性。结果表明,以Al_(2)O_(3)钝化层为例,真空腔内残余气体H_(2)在Al_(2)O_(3)不同表面的吸附为物理吸附,在(001)面的吸附距离最大...
基于密度泛函理论,研究了电子轰击互补金属氧化物半导体(EBCMOS)钝化层表面的残气吸附机制,并分析其电学特性。结果表明,以Al_(2)O_(3)钝化层为例,真空腔内残余气体H_(2)在Al_(2)O_(3)不同表面的吸附为物理吸附,在(001)面的吸附距离最大,吸附强度最低,电荷转移最少。对比CO,N_(2),CO_(2),H_(2)O等残余气体分子在(001)表面的吸附结果发现,(001)面对残气分子的吸附均为物理吸附,(001)面相比于其他表面,对残余气体分子有更好的抑制作用,所生成钝化层能提高EBCMOS器件电子倍增层的电荷收集效率。研究结果对研制寿命长而稳定的EBCMOS器件具有理论指导意义。
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关键词
ebcmos
密度泛函理论
Al_(2)O_(3)钝化层
气体吸附
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职称材料
EBCMOS近贴聚焦结构及电场分布对电子运动轨迹的影响
被引量:
5
2
作者
王巍
李野
+2 位作者
陈卫军
宋德
王新
《中国光学》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020年第4期713-721,共9页
为获得高分辨率的电子轰击型CMOS(EBCMOS)成像器件,本文就近贴聚焦结构内电场分布对电子运动轨迹的影响进行了研究。设计了不同的EBCMOS结构并得到3种电场分布情况,分别为光电阴极和背面轰击型CMOS(BSBCMOS)之间的等势面不平行、部分平...
为获得高分辨率的电子轰击型CMOS(EBCMOS)成像器件,本文就近贴聚焦结构内电场分布对电子运动轨迹的影响进行了研究。设计了不同的EBCMOS结构并得到3种电场分布情况,分别为光电阴极和背面轰击型CMOS(BSBCMOS)之间的等势面不平行、部分平行和彼此平行。根据电磁学理论结合蒙特卡洛模拟方法,分别模拟了每种电场分布情况下的电子运动轨迹。研究结果表明:当设计的电子倍增层表面覆盖一层30 nm的超薄重掺杂层,保持极间电压为4000 V且极间距为1 mm时,光生电子轰击BSB-CMOS表面时扩散直径可减小至30μm。此结构具有电子聚焦作用,有助于实现高分辨率的EBCMOS。同时,进一步研究了光电阴极与BSB-CMOS之间的距离和电压对电子扩散直径的影响。研究发现,近贴间距越小、加速电压越高,相应的电场强度就越高,越有利于电子聚焦。本文工作将为改进电子轰击型CMOS成像器件的分辨率特性提供理论指导。
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关键词
微光像增强器
电子轰击成像
近贴聚焦结构
ebcmos
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职称材料
电子倍增层表层掺杂分布对EBCMOS电荷收集效率的影响
被引量:
3
3
作者
田佳峰
宋德
+1 位作者
陈卫军
李野
《半导体光电》
CAS
北大核心
2021年第1期45-51,105,共8页
设计了电子倍增层的多种表层结构,并模拟分析了表层掺杂分布对电子轰击型CMOS(EBCMOS)成像器件的电荷收集效率的影响。结合离子注入工艺优化设计电子倍增层表层结构,并利用离子注入模拟软件TRIM模拟分析了不同掩蔽层种类、厚度、离子注...
设计了电子倍增层的多种表层结构,并模拟分析了表层掺杂分布对电子轰击型CMOS(EBCMOS)成像器件的电荷收集效率的影响。结合离子注入工艺优化设计电子倍增层表层结构,并利用离子注入模拟软件TRIM模拟分析了不同掩蔽层种类、厚度、离子注入剂量、注入角度和注入能量次数对掺杂分布的影响。再依据载流子传输理论并结合蒙特卡洛模拟方法,模拟分析了相应结构下EBCMOS中电子倍增层的电荷收集效率。模拟研究结果表明:通过选择SiO2作为掩蔽层、减小掩蔽层厚度、增加注入能量次数等方法可以提高电荷收集效率。在注入剂量选择方面,对电子倍增层表层进行重掺杂,使掺杂浓度下降幅度足够大、下降速度足够缓慢,也可以有效提高电荷收集效率。仿真优化后表层结构所对应器件的电荷收集效率最高可以达到93.61%。
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关键词
ebcmos
梯度掺杂
电场分布
电荷收集效率
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职称材料
EBCMOS电荷收集效率模拟研究
被引量:
2
4
作者
徐子皓
《传感器技术与应用》
2022年第2期187-192,共6页
对P型基底均匀掺杂情况下电子轰击有源像素传感器(EBCMOS)的运动轨迹进行了理论模拟研究,依据载流子传输理论并结合蒙特卡罗计算方法,利用数学建模软件MATLAB,模拟了光电子经过光电阴极、近贴区、死层、扩散区、耗尽区中的运动轨迹,并...
对P型基底均匀掺杂情况下电子轰击有源像素传感器(EBCMOS)的运动轨迹进行了理论模拟研究,依据载流子传输理论并结合蒙特卡罗计算方法,利用数学建模软件MATLAB,模拟了光电子经过光电阴极、近贴区、死层、扩散区、耗尽区中的运动轨迹,并根据最终的电子落点分布,计算出相应的电荷收集效率。通过改变基底掺杂浓度来观察电荷收集效率的变化,并总结了变化原因。本文可以为高性能的EBCMOS器件的研发提供一定的理论依据。
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关键词
ebcmos
微光成像
近贴区
死层
蒙特卡罗方法
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职称材料
微光视频器件及其技术的进展
被引量:
38
5
作者
金伟其
陶禹
+1 位作者
石峰
李本强
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2015年第11期3167-3176,共10页
微光夜视技术作为当今拓展人眼夜间视觉感知的主要技术之一,在军事和民用领域都有广泛的应用。随着数字图像处理技术的发展,微光视频器件为通过图像处理进一步提升夜视图像质量,为与红外热成像的图像信息融合,为提高夜间对目标探测/识...
微光夜视技术作为当今拓展人眼夜间视觉感知的主要技术之一,在军事和民用领域都有广泛的应用。随着数字图像处理技术的发展,微光视频器件为通过图像处理进一步提升夜视图像质量,为与红外热成像的图像信息融合,为提高夜间对目标探测/识别和场景理解能力等方面提供了广泛空间,成为当前国内外夜视技术发展的重要方向之一。论文综述了微光视频器件发展,分析了电真空+固体微光视频成像器件(如像增强CCD/CMOS(ICCD/ICMOS)器件、电子轰击EBCCD/EBCMOS器件等)、全固体微光视频成像器件(如电子倍增CCD器件、超低照度CMOS器件等)的特点和发展趋势,并结合法国PHOTONIS公司的LYNX计划,对微光夜视技术的发展进行了分析和讨论。
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关键词
微光
视频器件
进展
EBCCD/
ebcmos
EMCCD
CMOS
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职称材料
热处理对背照式CMOS传感器信噪比影响的实验研究
被引量:
5
6
作者
王生凯
靳川
+4 位作者
乔凯
焦岗成
程宏昌
刘晖
苗壮
《红外技术》
CSCD
北大核心
2019年第6期585-590,共6页
基于真空光电阴极和背照式CMOS图像传感器研制了电子轰击CMOS(EBCMOS)混合型光电探测器。为了对BSI-CMOS图像传感器在EBCMOS混合型光电探测器领域的应用提供可靠性指导,对BSI-CMOS图像传感器进行了100℃~325℃的变温热处理实验,着重分...
基于真空光电阴极和背照式CMOS图像传感器研制了电子轰击CMOS(EBCMOS)混合型光电探测器。为了对BSI-CMOS图像传感器在EBCMOS混合型光电探测器领域的应用提供可靠性指导,对BSI-CMOS图像传感器进行了100℃~325℃的变温热处理实验,着重分析了热处理后的BSI-CMOS图像传感器的光响应输出信号值、固定模式噪声(fixed pattern noise,FPN)、随机噪声及信噪比(signal-to-noise ration,SNR)随热处理温度的变化规律。实验结果表明:随着热处理温度的升高,样品器件的光响应输出信号值基本保持不变,当温度升高至325℃时,样品器件的固定模式噪声由32e.升高至246e.,随机噪声由51e.升高至70e.,信噪比由17.76dB降低至4.81dB,其中信噪比的降低主要归因于固定模式噪声的增大,热处理温度达到325℃会导致BSI-CMOS图像传感器信噪比明显降低。
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关键词
ebcmos
背照式CMOS图像传感器
热处理温度
信噪比
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职称材料
题名
EBCMOS钝化层表面残气吸附特性
1
作者
李书涵
陈文娥
王重霄
陈卫军
宋德
李野
机构
长春理工大学物理学院
出处
《半导体光电》
CAS
北大核心
2023年第6期901-906,共6页
基金
国家自然科学基金项目(U2141239)。
文摘
基于密度泛函理论,研究了电子轰击互补金属氧化物半导体(EBCMOS)钝化层表面的残气吸附机制,并分析其电学特性。结果表明,以Al_(2)O_(3)钝化层为例,真空腔内残余气体H_(2)在Al_(2)O_(3)不同表面的吸附为物理吸附,在(001)面的吸附距离最大,吸附强度最低,电荷转移最少。对比CO,N_(2),CO_(2),H_(2)O等残余气体分子在(001)表面的吸附结果发现,(001)面对残气分子的吸附均为物理吸附,(001)面相比于其他表面,对残余气体分子有更好的抑制作用,所生成钝化层能提高EBCMOS器件电子倍增层的电荷收集效率。研究结果对研制寿命长而稳定的EBCMOS器件具有理论指导意义。
关键词
ebcmos
密度泛函理论
Al_(2)O_(3)钝化层
气体吸附
Keywords
ebcmos
density functional theory
Al_(2)O_(3)surface
gas absorption
分类号
O482 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
EBCMOS近贴聚焦结构及电场分布对电子运动轨迹的影响
被引量:
5
2
作者
王巍
李野
陈卫军
宋德
王新
机构
长春理工大学理学院
长春工业大学发展规划与政策法规处
出处
《中国光学》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020年第4期713-721,共9页
基金
国家自然科学基金资助项目(No.11874091)
吉林省科技厅重点科技研发项目(No.20180201034GX)。
文摘
为获得高分辨率的电子轰击型CMOS(EBCMOS)成像器件,本文就近贴聚焦结构内电场分布对电子运动轨迹的影响进行了研究。设计了不同的EBCMOS结构并得到3种电场分布情况,分别为光电阴极和背面轰击型CMOS(BSBCMOS)之间的等势面不平行、部分平行和彼此平行。根据电磁学理论结合蒙特卡洛模拟方法,分别模拟了每种电场分布情况下的电子运动轨迹。研究结果表明:当设计的电子倍增层表面覆盖一层30 nm的超薄重掺杂层,保持极间电压为4000 V且极间距为1 mm时,光生电子轰击BSB-CMOS表面时扩散直径可减小至30μm。此结构具有电子聚焦作用,有助于实现高分辨率的EBCMOS。同时,进一步研究了光电阴极与BSB-CMOS之间的距离和电压对电子扩散直径的影响。研究发现,近贴间距越小、加速电压越高,相应的电场强度就越高,越有利于电子聚焦。本文工作将为改进电子轰击型CMOS成像器件的分辨率特性提供理论指导。
关键词
微光像增强器
电子轰击成像
近贴聚焦结构
ebcmos
Keywords
low-light-level image intensifier
electron-bombarding image
proximity focusing structure
ebcmos
分类号
TN223 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
电子倍增层表层掺杂分布对EBCMOS电荷收集效率的影响
被引量:
3
3
作者
田佳峰
宋德
陈卫军
李野
机构
长春理工大学理学院
出处
《半导体光电》
CAS
北大核心
2021年第1期45-51,105,共8页
基金
国家自然科学基金项目(11874091)
吉林省教育厅“十三五”科学技术研究项目(JJKH20200733KJ)。
文摘
设计了电子倍增层的多种表层结构,并模拟分析了表层掺杂分布对电子轰击型CMOS(EBCMOS)成像器件的电荷收集效率的影响。结合离子注入工艺优化设计电子倍增层表层结构,并利用离子注入模拟软件TRIM模拟分析了不同掩蔽层种类、厚度、离子注入剂量、注入角度和注入能量次数对掺杂分布的影响。再依据载流子传输理论并结合蒙特卡洛模拟方法,模拟分析了相应结构下EBCMOS中电子倍增层的电荷收集效率。模拟研究结果表明:通过选择SiO2作为掩蔽层、减小掩蔽层厚度、增加注入能量次数等方法可以提高电荷收集效率。在注入剂量选择方面,对电子倍增层表层进行重掺杂,使掺杂浓度下降幅度足够大、下降速度足够缓慢,也可以有效提高电荷收集效率。仿真优化后表层结构所对应器件的电荷收集效率最高可以达到93.61%。
关键词
ebcmos
梯度掺杂
电场分布
电荷收集效率
Keywords
ebcmos
gradient doping
electric field distribution
charge collection efficiency
分类号
TN223 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
EBCMOS电荷收集效率模拟研究
被引量:
2
4
作者
徐子皓
机构
长春理工大学物理学院
出处
《传感器技术与应用》
2022年第2期187-192,共6页
文摘
对P型基底均匀掺杂情况下电子轰击有源像素传感器(EBCMOS)的运动轨迹进行了理论模拟研究,依据载流子传输理论并结合蒙特卡罗计算方法,利用数学建模软件MATLAB,模拟了光电子经过光电阴极、近贴区、死层、扩散区、耗尽区中的运动轨迹,并根据最终的电子落点分布,计算出相应的电荷收集效率。通过改变基底掺杂浓度来观察电荷收集效率的变化,并总结了变化原因。本文可以为高性能的EBCMOS器件的研发提供一定的理论依据。
关键词
ebcmos
微光成像
近贴区
死层
蒙特卡罗方法
分类号
TP212 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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职称材料
题名
微光视频器件及其技术的进展
被引量:
38
5
作者
金伟其
陶禹
石峰
李本强
机构
微光夜视技术重点实验室
北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室
北京洪润康光电工程技术有限公司
出处
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2015年第11期3167-3176,共10页
基金
微光夜视技术重点实验室基金(9140C380503120C38148)
国家自然科学基金(61231014)
文摘
微光夜视技术作为当今拓展人眼夜间视觉感知的主要技术之一,在军事和民用领域都有广泛的应用。随着数字图像处理技术的发展,微光视频器件为通过图像处理进一步提升夜视图像质量,为与红外热成像的图像信息融合,为提高夜间对目标探测/识别和场景理解能力等方面提供了广泛空间,成为当前国内外夜视技术发展的重要方向之一。论文综述了微光视频器件发展,分析了电真空+固体微光视频成像器件(如像增强CCD/CMOS(ICCD/ICMOS)器件、电子轰击EBCCD/EBCMOS器件等)、全固体微光视频成像器件(如电子倍增CCD器件、超低照度CMOS器件等)的特点和发展趋势,并结合法国PHOTONIS公司的LYNX计划,对微光夜视技术的发展进行了分析和讨论。
关键词
微光
视频器件
进展
EBCCD/
ebcmos
EMCCD
CMOS
Keywords
low level light
video devices
progress
EBCCD/
ebcmos
EMCCD
CMOS
分类号
TN223 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
热处理对背照式CMOS传感器信噪比影响的实验研究
被引量:
5
6
作者
王生凯
靳川
乔凯
焦岗成
程宏昌
刘晖
苗壮
机构
微光夜视技术重点实验室
昆明物理研究所
出处
《红外技术》
CSCD
北大核心
2019年第6期585-590,共6页
基金
中央军委装备发展部装备预研项目
中国兵器创新团队项目
文摘
基于真空光电阴极和背照式CMOS图像传感器研制了电子轰击CMOS(EBCMOS)混合型光电探测器。为了对BSI-CMOS图像传感器在EBCMOS混合型光电探测器领域的应用提供可靠性指导,对BSI-CMOS图像传感器进行了100℃~325℃的变温热处理实验,着重分析了热处理后的BSI-CMOS图像传感器的光响应输出信号值、固定模式噪声(fixed pattern noise,FPN)、随机噪声及信噪比(signal-to-noise ration,SNR)随热处理温度的变化规律。实验结果表明:随着热处理温度的升高,样品器件的光响应输出信号值基本保持不变,当温度升高至325℃时,样品器件的固定模式噪声由32e.升高至246e.,随机噪声由51e.升高至70e.,信噪比由17.76dB降低至4.81dB,其中信噪比的降低主要归因于固定模式噪声的增大,热处理温度达到325℃会导致BSI-CMOS图像传感器信噪比明显降低。
关键词
ebcmos
背照式CMOS图像传感器
热处理温度
信噪比
Keywords
ebcmos
BSI-CMOS
annealing temperature
signal to noise ratio
分类号
TN215 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
EBCMOS钝化层表面残气吸附特性
李书涵
陈文娥
王重霄
陈卫军
宋德
李野
《半导体光电》
CAS
北大核心
2023
0
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职称材料
2
EBCMOS近贴聚焦结构及电场分布对电子运动轨迹的影响
王巍
李野
陈卫军
宋德
王新
《中国光学》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020
5
下载PDF
职称材料
3
电子倍增层表层掺杂分布对EBCMOS电荷收集效率的影响
田佳峰
宋德
陈卫军
李野
《半导体光电》
CAS
北大核心
2021
3
下载PDF
职称材料
4
EBCMOS电荷收集效率模拟研究
徐子皓
《传感器技术与应用》
2022
2
下载PDF
职称材料
5
微光视频器件及其技术的进展
金伟其
陶禹
石峰
李本强
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2015
38
下载PDF
职称材料
6
热处理对背照式CMOS传感器信噪比影响的实验研究
王生凯
靳川
乔凯
焦岗成
程宏昌
刘晖
苗壮
《红外技术》
CSCD
北大核心
2019
5
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职称材料
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