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电子束光刻-近场全息法制作平焦场光栅的误差分析及补偿方法
被引量:
1
1
作者
林达奎
陈火耀
+1 位作者
刘正坤
刘颖
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018年第5期40-50,共11页
在激光等离子体诊断等领域中,以平焦场光栅为核心器件的软X射线光谱仪发挥着重要作用。利用电子束光刻-近场全息法制作的平焦场光栅兼具电子束光刻线密度变化灵活,以及全息光栅低杂散光、抑制高次谐波等的特点。采用光线追迹方法分析电...
在激光等离子体诊断等领域中,以平焦场光栅为核心器件的软X射线光谱仪发挥着重要作用。利用电子束光刻-近场全息法制作的平焦场光栅兼具电子束光刻线密度变化灵活,以及全息光栅低杂散光、抑制高次谐波等的特点。采用光线追迹方法分析电子束光刻-近场全息法制作平焦场光栅的主要制作误差对其光谱成像特性的影响。结果表明:电子束光刻制备熔石英掩模和近场全息图形转移过程的制作误差均会导致谱线展宽;以目前应用较多的软X射线平焦场光栅(中心线密度为2400line/mm、工作波段在0.8~6.0nm)为例,当熔石英掩模在光栅矢量方向的长度为50mm时,电子束光刻分区数目应保证在1500以上;熔石英掩模线密度偏差引入的谱线展宽可以通过调整近场全息制作参数来消除;确定了近场全息中的两个主要影响因素——熔石英掩模与光栅基底的间距和夹角;近场全息中各误差因素之间有相互补偿的效果,故除了尽可能消除制备过程中的每一种制作误差外,也可以通过优化不同误差之间的分配来降低制备误差。本研究对优化电子束直写掩模策略、降低掩模制作难度、设计和调整近场全息光路有重要帮助。
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关键词
光栅
电子束光刻
近场全息
平焦场光栅
谱线宽度
原文传递
题名
电子束光刻-近场全息法制作平焦场光栅的误差分析及补偿方法
被引量:
1
1
作者
林达奎
陈火耀
刘正坤
刘颖
机构
中国科学技术大学国家同步辐射实验室
出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018年第5期40-50,共11页
基金
中德科学基金研究交流中心资助中德合作研究项目(GZ983)
文摘
在激光等离子体诊断等领域中,以平焦场光栅为核心器件的软X射线光谱仪发挥着重要作用。利用电子束光刻-近场全息法制作的平焦场光栅兼具电子束光刻线密度变化灵活,以及全息光栅低杂散光、抑制高次谐波等的特点。采用光线追迹方法分析电子束光刻-近场全息法制作平焦场光栅的主要制作误差对其光谱成像特性的影响。结果表明:电子束光刻制备熔石英掩模和近场全息图形转移过程的制作误差均会导致谱线展宽;以目前应用较多的软X射线平焦场光栅(中心线密度为2400line/mm、工作波段在0.8~6.0nm)为例,当熔石英掩模在光栅矢量方向的长度为50mm时,电子束光刻分区数目应保证在1500以上;熔石英掩模线密度偏差引入的谱线展宽可以通过调整近场全息制作参数来消除;确定了近场全息中的两个主要影响因素——熔石英掩模与光栅基底的间距和夹角;近场全息中各误差因素之间有相互补偿的效果,故除了尽可能消除制备过程中的每一种制作误差外,也可以通过优化不同误差之间的分配来降低制备误差。本研究对优化电子束直写掩模策略、降低掩模制作难度、设计和调整近场全息光路有重要帮助。
关键词
光栅
电子束光刻
近场全息
平焦场光栅
谱线宽度
Keywords
ebl-nfh
Flat-Field Gratings Fabricated
Errors Analysis
分类号
O434 [机械工程—光学工程]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
电子束光刻-近场全息法制作平焦场光栅的误差分析及补偿方法
林达奎
陈火耀
刘正坤
刘颖
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018
1
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