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PLC在ECR等离子源设备中的应用
被引量:
1
1
作者
吕鑫
程健
彭辉俊
《真空》
CAS
北大核心
2004年第5期29-31,共3页
简要地介绍了ECR等离子源设备的特点和测控要求,给出了以PLC为主实现设备控制的方法。系统的硬件由触摸屏(或上位机)、PLC控制器和信号调理电路部分构成;软件由二次开发的触摸屏运行的组态监控软件、PLC运行软件以及可选的基于PC机的上...
简要地介绍了ECR等离子源设备的特点和测控要求,给出了以PLC为主实现设备控制的方法。系统的硬件由触摸屏(或上位机)、PLC控制器和信号调理电路部分构成;软件由二次开发的触摸屏运行的组态监控软件、PLC运行软件以及可选的基于PC机的上位机软件组成。整个控制系统可实现现场手动操作、触摸屏(或上位机)手动操作及全自动控制运行,能进行等离子体参数如电子温度、离子密度、空间电位等的测量。
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关键词
ecr等离子源
PLC
设备控制
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职称材料
ECR等离子源静电探针自动监测系统
2
作者
彭辉俊
程健
吕鑫
《工业仪表与自动化装置》
2005年第5期49-50,共2页
ECR等离子源主要由电源系统、抽气系统、供气系统、真空室等设备组成,对于研究型设备,还包括测控部分。传统的测控系统对系统设备大多采用单台测控,人工调节,这样系统效率比较低。该文采用模拟开关切换8路静电探针得到不同位置的等离子...
ECR等离子源主要由电源系统、抽气系统、供气系统、真空室等设备组成,对于研究型设备,还包括测控部分。传统的测控系统对系统设备大多采用单台测控,人工调节,这样系统效率比较低。该文采用模拟开关切换8路静电探针得到不同位置的等离子体参数,经电荷放大器对弱信号进行放大后显示。该方法在实际使用中取得了较好的效果。
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关键词
电荷放大器
ecr等离子源
静电探针
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职称材料
2.45GHz ECR强流等离子体源核心部件设计与实验研究
被引量:
1
3
作者
李钢
陈根
+2 位作者
段文学
彭标
尉传颂
《原子与分子物理学报》
北大核心
2024年第5期94-100,共7页
电子回旋共振(Electron Cyclotron Resonance,ECR)等离子体源能产生高电荷态离子、高流强的单电荷态离子,提供稳定的束流和良好的重复性.核心部件的设计对ECR等离子体源是至关重要的,磁场对等离子体的生成和分布有直接影响,良好的磁场...
电子回旋共振(Electron Cyclotron Resonance,ECR)等离子体源能产生高电荷态离子、高流强的单电荷态离子,提供稳定的束流和良好的重复性.核心部件的设计对ECR等离子体源是至关重要的,磁场对等离子体的生成和分布有直接影响,良好的磁场可以提高等离子体的性能和效率.采用有限元分析方法对ECR等离子体源磁场进行分析与设计,得到了满足设计需求与目标的磁场位形,通过高斯计对设计的永磁环轴向磁场精确测量,发现磁场仿真结果与实验结果吻合比较好,只是轴向磁场最大值及对应位置上有点偏差.通过集成实验,研究核心部件对离子源引出束流强度的影响,引出束流稳定且强度达到7 mA.
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关键词
ecr
等离子
体
源
磁场设计
引出束流
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职称材料
2.45GHz ECR等离子体源引出系统初步设计
4
作者
李钢
《科技风》
2023年第31期68-70,共3页
电子回旋共振(Electron Cyclotron Resonance,ECR)等离子体源是用来产生单电荷态离子束的等离子体装置,它可以产生束流较强或者较高的电荷态离子,同时还能提供束流的稳定性、重复性和工作寿命。引出系统的设计对ECR等离子体源是至关重要...
电子回旋共振(Electron Cyclotron Resonance,ECR)等离子体源是用来产生单电荷态离子束的等离子体装置,它可以产生束流较强或者较高的电荷态离子,同时还能提供束流的稳定性、重复性和工作寿命。引出系统的设计对ECR等离子体源是至关重要的,引出系统对等离子体的引出束流有直接影响,良好的引出系统设计可以提高引出束流强度。采用有限元分析方法对ECR等离子体源引出系统进行分析与设计,得到了满足设计需求与目标的引出束流。
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关键词
ecr
等离子
体
源
引出系统设计
引出系统仿真
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职称材料
微波ECR等离子体源离子注入法制备DLC薄膜
被引量:
4
5
作者
王金刚
马国佳
+2 位作者
邓新绿
李新
唐祯安
《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
2003年第6期429-431,共3页
用微波ECR等离子体源离子注入 (PSII)法 ,在硅片 ( 10 0 )上制备了类金刚石 (DLC)薄膜 ,工作气体采用CH4气体 ,研究了不同的气体流量对薄膜的影响。对制备的DLC薄膜 ,用拉曼光谱、FT IR光谱、AFM以及纳米压痕等手段对化学成分、化学键...
用微波ECR等离子体源离子注入 (PSII)法 ,在硅片 ( 10 0 )上制备了类金刚石 (DLC)薄膜 ,工作气体采用CH4气体 ,研究了不同的气体流量对薄膜的影响。对制备的DLC薄膜 ,用拉曼光谱、FT IR光谱、AFM以及纳米压痕等手段对化学成分、化学键结构。
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关键词
类金刚石薄膜
电子回旋共振
微波
ecr
等离子
体
源
离子
注入法
DLC薄膜
拉曼光谱
纳米压痕
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职称材料
一种最新的等离子体腐蚀技术──TM-ECR
6
作者
黎星
《微电子技术》
1995年第4期45-45,共1页
关键词
等离子
体
腐蚀技术
各向异性腐蚀
ecr
等离子
体
源
电子回族共振
活性成分
不良影响
脉冲调制
电荷积累
时间调整
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职称材料
题名
PLC在ECR等离子源设备中的应用
被引量:
1
1
作者
吕鑫
程健
彭辉俊
机构
中国科学技术大学自动化系
出处
《真空》
CAS
北大核心
2004年第5期29-31,共3页
文摘
简要地介绍了ECR等离子源设备的特点和测控要求,给出了以PLC为主实现设备控制的方法。系统的硬件由触摸屏(或上位机)、PLC控制器和信号调理电路部分构成;软件由二次开发的触摸屏运行的组态监控软件、PLC运行软件以及可选的基于PC机的上位机软件组成。整个控制系统可实现现场手动操作、触摸屏(或上位机)手动操作及全自动控制运行,能进行等离子体参数如电子温度、离子密度、空间电位等的测量。
关键词
ecr等离子源
PLC
设备控制
Keywords
ecr
plasma facility
PLC
system control
分类号
TP271 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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职称材料
题名
ECR等离子源静电探针自动监测系统
2
作者
彭辉俊
程健
吕鑫
机构
中国科学技术大学自动化系
出处
《工业仪表与自动化装置》
2005年第5期49-50,共2页
文摘
ECR等离子源主要由电源系统、抽气系统、供气系统、真空室等设备组成,对于研究型设备,还包括测控部分。传统的测控系统对系统设备大多采用单台测控,人工调节,这样系统效率比较低。该文采用模拟开关切换8路静电探针得到不同位置的等离子体参数,经电荷放大器对弱信号进行放大后显示。该方法在实际使用中取得了较好的效果。
关键词
电荷放大器
ecr等离子源
静电探针
Keywords
charge amplifier
ecr
plasma source
langmuir probe
分类号
TP216 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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职称材料
题名
2.45GHz ECR强流等离子体源核心部件设计与实验研究
被引量:
1
3
作者
李钢
陈根
段文学
彭标
尉传颂
机构
安徽建筑大学电子与信息工程学院
中国科学院合肥物质研究院等离子体物理研究所
安徽大学物质科学与信息技术研究院
合肥中科离子医学技术装备有限公司
出处
《原子与分子物理学报》
北大核心
2024年第5期94-100,共7页
基金
国家重点研发计划(E05KCI25591)。
文摘
电子回旋共振(Electron Cyclotron Resonance,ECR)等离子体源能产生高电荷态离子、高流强的单电荷态离子,提供稳定的束流和良好的重复性.核心部件的设计对ECR等离子体源是至关重要的,磁场对等离子体的生成和分布有直接影响,良好的磁场可以提高等离子体的性能和效率.采用有限元分析方法对ECR等离子体源磁场进行分析与设计,得到了满足设计需求与目标的磁场位形,通过高斯计对设计的永磁环轴向磁场精确测量,发现磁场仿真结果与实验结果吻合比较好,只是轴向磁场最大值及对应位置上有点偏差.通过集成实验,研究核心部件对离子源引出束流强度的影响,引出束流稳定且强度达到7 mA.
关键词
ecr
等离子
体
源
磁场设计
引出束流
Keywords
ecr
plasma source
Magnetic field design
Extraction of beam
分类号
O65 [理学—分析化学]
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职称材料
题名
2.45GHz ECR等离子体源引出系统初步设计
4
作者
李钢
机构
安徽建筑大学电子与信息工程学院
中国科学院合肥物质研究院等离子体物理研究所
出处
《科技风》
2023年第31期68-70,共3页
基金
国家自然科学基金资助项目(E05KCI25591)。
文摘
电子回旋共振(Electron Cyclotron Resonance,ECR)等离子体源是用来产生单电荷态离子束的等离子体装置,它可以产生束流较强或者较高的电荷态离子,同时还能提供束流的稳定性、重复性和工作寿命。引出系统的设计对ECR等离子体源是至关重要的,引出系统对等离子体的引出束流有直接影响,良好的引出系统设计可以提高引出束流强度。采用有限元分析方法对ECR等离子体源引出系统进行分析与设计,得到了满足设计需求与目标的引出束流。
关键词
ecr
等离子
体
源
引出系统设计
引出系统仿真
Keywords
ecr
plasma source
system design
system simulation
分类号
TL5 [核科学技术—核技术及应用]
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职称材料
题名
微波ECR等离子体源离子注入法制备DLC薄膜
被引量:
4
5
作者
王金刚
马国佳
邓新绿
李新
唐祯安
机构
大连理工大学
出处
《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
2003年第6期429-431,共3页
基金
国家自然科学基金重点项目 5 0 13 5 0 40
文摘
用微波ECR等离子体源离子注入 (PSII)法 ,在硅片 ( 10 0 )上制备了类金刚石 (DLC)薄膜 ,工作气体采用CH4气体 ,研究了不同的气体流量对薄膜的影响。对制备的DLC薄膜 ,用拉曼光谱、FT IR光谱、AFM以及纳米压痕等手段对化学成分、化学键结构。
关键词
类金刚石薄膜
电子回旋共振
微波
ecr
等离子
体
源
离子
注入法
DLC薄膜
拉曼光谱
纳米压痕
Keywords
Diamond like carbon(DLC),
ecr
,Plasma source ion implantation(PSII), sp3
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
一种最新的等离子体腐蚀技术──TM-ECR
6
作者
黎星
出处
《微电子技术》
1995年第4期45-45,共1页
关键词
等离子
体
腐蚀技术
各向异性腐蚀
ecr
等离子
体
源
电子回族共振
活性成分
不良影响
脉冲调制
电荷积累
时间调整
分类号
TN4 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
PLC在ECR等离子源设备中的应用
吕鑫
程健
彭辉俊
《真空》
CAS
北大核心
2004
1
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职称材料
2
ECR等离子源静电探针自动监测系统
彭辉俊
程健
吕鑫
《工业仪表与自动化装置》
2005
0
下载PDF
职称材料
3
2.45GHz ECR强流等离子体源核心部件设计与实验研究
李钢
陈根
段文学
彭标
尉传颂
《原子与分子物理学报》
北大核心
2024
1
下载PDF
职称材料
4
2.45GHz ECR等离子体源引出系统初步设计
李钢
《科技风》
2023
0
下载PDF
职称材料
5
微波ECR等离子体源离子注入法制备DLC薄膜
王金刚
马国佳
邓新绿
李新
唐祯安
《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
2003
4
下载PDF
职称材料
6
一种最新的等离子体腐蚀技术──TM-ECR
黎星
《微电子技术》
1995
0
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职称材料
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