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溅射工艺参数对BaAl2S4薄膜沉积速率、化学组成及电致发光特性的影响
1
作者
范云华
肖田
+2 位作者
林明通
陈国荣
杨云霞
《化工新型材料》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第4期58-60,共3页
BaAl2S4:Eu发光薄膜是最有希望实现彩色无机电致发光显示器的蓝色电致发光材料。用射频磁控溅射法制备了厚度在150~375nm之间的BaAl2S4:Eu薄膜,研究了溅射功率、Ar/H2S流量比和气压对其沉积速率和化学组成的影响,考察了不同退火条件下...
BaAl2S4:Eu发光薄膜是最有希望实现彩色无机电致发光显示器的蓝色电致发光材料。用射频磁控溅射法制备了厚度在150~375nm之间的BaAl2S4:Eu薄膜,研究了溅射功率、Ar/H2S流量比和气压对其沉积速率和化学组成的影响,考察了不同退火条件下BaAl2S4:Eu薄膜的电致发光特性。并根据这些结果分析了较优的工艺条件。
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关键词
BaAl2S4:Eu薄膜
射频磁控溅射
沉积速率
化学计量
el特性
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职称材料
题名
溅射工艺参数对BaAl2S4薄膜沉积速率、化学组成及电致发光特性的影响
1
作者
范云华
肖田
林明通
陈国荣
杨云霞
机构
华东理工大学材料科学与工程学院
上海广电电子股份有限公司平板显示技术研发中心
出处
《化工新型材料》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第4期58-60,共3页
文摘
BaAl2S4:Eu发光薄膜是最有希望实现彩色无机电致发光显示器的蓝色电致发光材料。用射频磁控溅射法制备了厚度在150~375nm之间的BaAl2S4:Eu薄膜,研究了溅射功率、Ar/H2S流量比和气压对其沉积速率和化学组成的影响,考察了不同退火条件下BaAl2S4:Eu薄膜的电致发光特性。并根据这些结果分析了较优的工艺条件。
关键词
BaAl2S4:Eu薄膜
射频磁控溅射
沉积速率
化学计量
el特性
Keywords
BaAl2S4:Eu thin film, rF magnetron sputtering, deposition rate, chemical composition,
el
ectroluminescent property
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
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1
溅射工艺参数对BaAl2S4薄膜沉积速率、化学组成及电致发光特性的影响
范云华
肖田
林明通
陈国荣
杨云霞
《化工新型材料》
CAS
CSCD
北大核心
2008
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