高性能Al-Si-Cu-Ni-Mg活塞合金的相分析

采用高倍视频金相显微镜(HRVM)和电子探针(EPMA)微区分析技术,观察了高性能Al-Si-Cu-Ni-Mg活塞合金的显微组织形貌,确认了合金中存在的构成相Mg2Si、Al3Ni、W相以及(CuNi)2Al3相。着重观察分析W相和Mg2Si相在热处理过程中的形态演变,发现多元共晶体中的W相固溶后由无序网格状呈现出典型的骨架状或者密堆状,而Mg2Si相固溶处理后主要以固溶强化相融入到基体中。

熔化气氛对浮法玻璃渗锡影响的分析

对基本组分相同的全氧燃烧浮法玻璃和空气燃烧浮法玻璃进行渗锡量的测试,发现全氧燃烧浮法玻璃的渗锡量高于空气燃烧浮法玻璃。基于此结果,对玻璃的含水量、相关物理性能进行测试,对玻璃下表面各元素含量进行了电子探针显微分析。结果表明:全氧燃烧浮法玻璃含水量较空气燃烧浮法玻璃大,玻璃的性能发生改变;全氧燃烧浮法玻璃在成形过程中阳离子移动能力较强,更容易发生离子交换和扩散,熔化气氛会引起玻璃含水量的差异并引起玻璃结构的疏松,成形时渗锡量增加。

铜阴极电解的EMD的电子微探分析

对EMD的电子微探分析(EPMA),发现有Cu的浓缩点存在,电感耦合等离子体发射光谱(ICP-AES)分析值为0.8×10-4%。通过EPMA,可以对EMD进行微观解析。

黝铜矿族矿物的EPMA研究

黝铜矿族矿物成分复杂、类质同象取代广泛,种属区分困难。利用EPMA法对该族矿物进行成分分析和图相分析可将其划分为两个亚种、若干个变种。对该族矿的鉴别与研究卓有成效。

EMD(Na、Co和Pb)的电子微探分析(Ⅲ)

对EMD进行电子微探分析(EPMA),发现Na、Co和Pb有浓缩点存在。Na在EMD颗粒表面的浓缩浓度达百分之几,Co、Pb的浓缩浓度最高达0.01%。

粉末与大颗粒中和的EMD的电子微探分析(Ⅳ)

对电解二氧化锰(EMD)的粉末与大颗粒中和工艺进行了考察。电子微探分析(EPMA)结果表明:大颗粒中和的EMD粒子内部及粒子之间,存在Na含量的偏差。粉末中和EMD的Na含量,较大颗粒中和的EMD低30%～50%。大颗粒中和与粉末中和相比,需要较强的中和条件。

用电子探针分析(EPMA)测量钢中珠光体平均片层间距

以典型的珠光体钢U75V重轨钢为例,介绍了一种利用电子探针分析(EPMA)测定钢中珠光体平均片层间距的方法。选择尽量垂直于珠光体片层的法线方向作为扫描路径,得到碳含量分布曲线为"波峰"+"波谷"的形状,两个"波峰"或"波谷"之间的距离即为一个珠光体片层间距,由于扫描路径长度已知,通过计算扫描路径上"波峰"或"波谷"的数量就可以获得该视场下珠光体的平均片层间距。此法直观、简单、计算量少,所测得的珠光体平均片层间距更接近其真实平均片层间距。

钢壳镀层对电池大电流放电性能的影响

用电子微探分析(EPMA)技术测试了不同无汞碱锰电池钢壳的镀层结构,并用不同镀层结构的钢壳在相同条件下制作了LR03电池,测试了新电及70℃储存7 d后的电池的500 mA大电流连放性能。3种钢壳制成的电池,新电放电性能相当,但有一种电池经70℃储存7 d后,500 mA连放性能下降37.5%。该电池所用钢壳的内表面镍镀层虽有约1μm厚,但EPMA显示,局部有高比例铁的分布。

东天山阿奇山铅锌矿形成时代的确定:来自石榴子石LA-ICP-MS U-Pb年龄的制约

为确定新疆东天山阿奇山铅锌矿床的形成时间,采用LA-ICP-MS原位U-Pb同位素分析方法对矿体附近的石榴子石进行年代学研究。阿奇山铅锌矿区分布有大量层状石榴子石矽卡岩,与矿体产状一致,经岩相学观察,石榴子石主要为灰绿色(AQ4801)、褐色(AQ4803)。其中灰绿色石榴子石样品无明显蚀变特征。褐色石榴子石碎裂结构发育,裂隙充填金属硫化物。电子探针成分分析结果表明石榴子石为钙铁榴石-钙铝榴石系列(AQ4801 And_(97)Gro_(2)~And_(50)Gro_(48);AQ4803 And_(96)Gro_(2)~And_(28)Gro_(70))。LA-ICP-MS原位U-Pb同位素分析测试结果显示AQ4801与AQ4803具有较高的U含量,分别为1.0×10^(-6)~32.2×10^(-6)、5.4×10^(-6)~61.2×10^(-6),^(206)Pb/^(238)U加权平均年龄为(314.6±3.9)Ma (MSWD=1.15),(323±15) Ma (MSWD=0.6),表明阿奇山铅锌矿床形成于早石炭世末—晚石炭世初(323~314.6 Ma)。

离子束辅助沉积(Al,Ti)N硬质涂层工艺优化

金属原子比Ti/(Ti+Al) R1=0～1.0和金属离子原子比(Ti+Al)/N R2=0.5～1.5范围内, 当氮离子束流密度为0.10mA/mm2,氮离子能量为2.0keV时,采用离子束辅助沉积(IBAD)(Al,Ti)N 硬质涂层。工艺优化表明, R1=0.25, R2=1.0时,可得到最佳涂层硬度和表面光洁度。由涂层表面及断面电子扫描镜(SEM)分析,三元素涂层 (Al,Ti)N 组织致密且晶粒细小。由电子探针微分析(EPMA), 涂层内部氮元素处于过饱和状态。由X射线衍射(XRD)分析, 最佳处存在AlN(101) 和 TiN(200)结构。