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集成Ag基反射镜的GaN基LED薄膜芯片的静电失效演变
被引量:
4
1
作者
刘时彪
王光绪
+2 位作者
吴小明
莫春兰
张建立
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020年第10期146-152,共7页
对集成Ag基反射镜的垂直结构GaN基发光二极管(LED)薄膜芯片施加ESD(electro-static discharge)冲击,观察其静电失效的现象并对失效演变的过程进行研究。结果表明,LED芯片经过ESD冲击后,内部会随机出现ESD黑点。随着ESD电压逐渐增大,此ES...
对集成Ag基反射镜的垂直结构GaN基发光二极管(LED)薄膜芯片施加ESD(electro-static discharge)冲击,观察其静电失效的现象并对失效演变的过程进行研究。结果表明,LED芯片经过ESD冲击后,内部会随机出现ESD黑点。随着ESD电压逐渐增大,此ESD黑点逐渐演变成为静电孔。通过聚焦离子束刻蚀等手段,得出ESD黑点产生的原因,即静电击穿产生的瞬间高温将LED芯片中的p-GaN及Ag基反射镜熔化,从而使得Ag反射镜的反射率降低。在LED薄膜芯片静电失效的演变过程中,ESD黑点周围的GaN粗化面的六角锥结构出现形状变小、密度增大的现象,该现象与静电击穿发生的程度相关。因此,认为静电击穿过程中内部产生的瞬间高温对表面GaN材料的晶体质量产生较大影响。
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关键词
光学器件
发光二极管
静电失效
esd
黑点
粗化面
Ag反射镜
原文传递
题名
集成Ag基反射镜的GaN基LED薄膜芯片的静电失效演变
被引量:
4
1
作者
刘时彪
王光绪
吴小明
莫春兰
张建立
机构
南昌大学国家硅基LED工程技术研究中心
出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020年第10期146-152,共7页
基金
国家自然科学基金(61604066、21405076,11604137,11674147,51602141)
国家重点研发计划(2016YFB0400600.2016YFB0400601)
中央引导地方基金(2018ZDD20003)。
文摘
对集成Ag基反射镜的垂直结构GaN基发光二极管(LED)薄膜芯片施加ESD(electro-static discharge)冲击,观察其静电失效的现象并对失效演变的过程进行研究。结果表明,LED芯片经过ESD冲击后,内部会随机出现ESD黑点。随着ESD电压逐渐增大,此ESD黑点逐渐演变成为静电孔。通过聚焦离子束刻蚀等手段,得出ESD黑点产生的原因,即静电击穿产生的瞬间高温将LED芯片中的p-GaN及Ag基反射镜熔化,从而使得Ag反射镜的反射率降低。在LED薄膜芯片静电失效的演变过程中,ESD黑点周围的GaN粗化面的六角锥结构出现形状变小、密度增大的现象,该现象与静电击穿发生的程度相关。因此,认为静电击穿过程中内部产生的瞬间高温对表面GaN材料的晶体质量产生较大影响。
关键词
光学器件
发光二极管
静电失效
esd
黑点
粗化面
Ag反射镜
Keywords
optical devices
light emitting diode
electro-static failure
esd black spot
roughness surface
Ag mirror
分类号
O436 [机械工程—光学工程]
TN312.8 [电子电信—物理电子学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
集成Ag基反射镜的GaN基LED薄膜芯片的静电失效演变
刘时彪
王光绪
吴小明
莫春兰
张建立
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020
4
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