EV集团在SEMICON CHINA2005展出最新的掩模对准曝光机EV6200 INFINITY

EVG在SEMICON CHINA2005展出了最新的掩模曝光机。EVC6200 Infinity掩模对准曝光机可以在近距离对很厚的整个阻光层近距离曝光，针对先进的封装市场而设计的。它可以通过升级，安装底部显微镜，用于MEMS的双面曝光。在市场上所有200mm淹没对准曝光机中，这种新的曝光机是面积最小的，产量是最高的，两次故障之间的无故障平均时间是最大的，光刻间隙的设定也是最精确的。