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Role of buffer layer in electronic structures of iron phthalocyanine molecules on Au(111)
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作者 孙家涛 潘理达 +2 位作者 胡昊 杜世萱 高鸿钧 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2010年第9期25-30,共6页
We investigate the electronic structures of one and two monolayer iron phthalocyanine (FePc) molecules on Au(111) surfaces. The first monolayer FePc is lying flat on the Au(111) substrate, and the second monolay... We investigate the electronic structures of one and two monolayer iron phthalocyanine (FePc) molecules on Au(111) surfaces. The first monolayer FePc is lying flat on the Au(111) substrate, and the second monolayer FePc is tilted at -15° relative to the substrate plane along the nearest neighbour [101] direction with a lobe downward to the central hole of the unit cell in the first layer. The structural information obtained by first-principles calculations is in agreement with the experiment results. Furthermore, it is demonstrated that the electronic structures of FePc molecules in one-monolayer FePc/Au(111) system are perturbed significantly, while the electronic structures of FePc molecules in the second monolayer in two-monolayer FePc/Au(111) system remain almost unchanged due to the screening of the buffer layer on Au(111). 展开更多
关键词 iron phthalocyanine electronic structure calculations buffer layer
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High-power SiC MESFET using a dual p-buffer layer for an S-band power amplifier 被引量:1
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作者 邓小川 孙鹤 +1 位作者 饶成元 张波 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第1期491-494,共4页
A silicon carbide (SIC) based metal semiconductor field effect transistor (MESFET) is fabricated by using a standard SiC MESFET structure with the application of a dual p-buffer layer and a multi-recessed gate to ... A silicon carbide (SIC) based metal semiconductor field effect transistor (MESFET) is fabricated by using a standard SiC MESFET structure with the application of a dual p-buffer layer and a multi-recessed gate to the process for an S-band power amplifier. The lower doped upper-buffer layer serves to maintain the channel current, while the higher doped lowerbuffer layer is used to provide excellent electron confinement in the channel layer. A 20-mm gate periphery SiC MESFET biased at a drain voltage of 85 V demonstrates a pulsed wave saturated output power of 94 W, a linear gain of 11.7 dB, and a maximum power added efficiency of 24.3% at 3.4 GHz. These results are improved compared with those of the conventional single p-buffer MESFET fabricated in this work using the same process. A radio-frequency power output greater than 4.7 W/mm is achieved, showing the potential as a high-voltage operation device for high-power solid-state amplifier applications. 展开更多
关键词 dual p-buffer layer silicon carbide MESFETS electron confinement
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钙钛矿太阳能电池中TiO2材料制备及应用进展 被引量:3
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作者 王传坤 吴正雪 +1 位作者 唐颖 马恒 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2020年第1期41-44,共4页
有机-无机杂化钙钛矿太阳能电池成本低廉,制作工艺简易和光电转化效率高等优点,成为光伏领域研究的热点。钙钛矿太阳能电池中电子缓冲层对提高器件的性能起到重要的作用。二氧化钛(TiO2)优异的光电性能在环境保护、太阳能电池等领域都... 有机-无机杂化钙钛矿太阳能电池成本低廉,制作工艺简易和光电转化效率高等优点,成为光伏领域研究的热点。钙钛矿太阳能电池中电子缓冲层对提高器件的性能起到重要的作用。二氧化钛(TiO2)优异的光电性能在环境保护、太阳能电池等领域都有重要的应用。主要从TiO2材料在钙钛矿太阳能电池中应用进行总结,阐述了TiO2材料基本制作方法,详细介绍了单层TiO2材料、复合层TiO2材料和掺杂TiO2材料作为电子缓冲层的钙钛矿太阳能电池研究的最新进展。 展开更多
关键词 钙钛矿太阳能电池 二氧化钛 掺杂 电子缓冲层
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移动Ni-5W基带上制备钇系涂层导体隔离层的研究 被引量:3
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作者 刘慧舟 杨坚 +1 位作者 张华 古宏伟 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期627-630,共4页
采用电子束蒸发和磁控溅射两种工艺在移动的Ni-5W合金基带上制备了Y2O3隔离层,研究了镀膜过程中基带移动速度对隔离层性能的影响,同时详细比较了两种镀膜方法。利用扫描电镜、X射线衍射等手段对Y2O3隔离层进行了分析。结果表明:通过严... 采用电子束蒸发和磁控溅射两种工艺在移动的Ni-5W合金基带上制备了Y2O3隔离层,研究了镀膜过程中基带移动速度对隔离层性能的影响,同时详细比较了两种镀膜方法。利用扫描电镜、X射线衍射等手段对Y2O3隔离层进行了分析。结果表明:通过严格控制工艺条件,两种方法都能在移动Ni-5W合金基带上制备高立方织构、表面致密光滑的Y2O3隔离层。研究发现,电子束蒸发工艺中,理想的基带移动速度是0.4~1.0mm·s-1;磁控溅射工艺中,适宜的基带移动速度应该是0.5~2.0mm·s-1。 展开更多
关键词 涂层导体 连续沉积(隔离层) Y2O3 电子束蒸发 溅射
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缓冲层对外延生长GaN薄膜性能的影响 被引量:2
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作者 梅俊平 王敏 +1 位作者 解新建 刘彩池 《河北工业大学学报》 CAS 北大核心 2011年第2期29-31,共3页
用分子束气相外延生长(MBE)法,通过改变缓冲层AlN的生长时间沉积GaN薄膜.用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和拉曼光谱仪(Raman Spectroscropy),测试GaN薄膜的应力、平整度、粗糙度、晶体质量.研究了不同生长时间... 用分子束气相外延生长(MBE)法,通过改变缓冲层AlN的生长时间沉积GaN薄膜.用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和拉曼光谱仪(Raman Spectroscropy),测试GaN薄膜的应力、平整度、粗糙度、晶体质量.研究了不同生长时间的缓冲层对GaN薄膜性能的影响,结果发现:生长30 min的缓冲层的样品B中的应力小于生长20 min缓冲层的样品A,并且样品B在晶体质量、平整度、粗糙度方面均优于样品A. 展开更多
关键词 GAN薄膜 缓冲层 应力 原子力显微镜 扫描电镜
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基于凹槽结构抑制AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管电流崩塌效应 被引量:2
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作者 刘静 王琳倩 黄忠孝 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第24期347-353,共7页
基于双脉冲技术,研究了GaN缓冲层陷阱对AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管电流崩塌效应的影响.结果表明,栅边缘漏侧的电场峰值使得沟道电子跃迁至缓冲层,并被缓冲层中的陷阱俘获是造成电流崩塌的主要原因之一.提出了势垒层局部凹槽结构,降低... 基于双脉冲技术,研究了GaN缓冲层陷阱对AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管电流崩塌效应的影响.结果表明,栅边缘漏侧的电场峰值使得沟道电子跃迁至缓冲层,并被缓冲层中的陷阱俘获是造成电流崩塌的主要原因之一.提出了势垒层局部凹槽结构,降低了栅边缘漏侧的电场峰值,使电场分布更加均匀,改善了器件的电流崩塌效应.与传统AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管结构相比,新器件结构对电流崩塌效应的抑制作用至少提升了22.30%. 展开更多
关键词 ALGAN/GAN 高电子迁移率晶体管 电流崩塌效应 缓冲层陷阱
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制备高质量ZnO光电薄膜的关键技术 被引量:6
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作者 丁瑞钦 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2005年第12期46-49,共4页
提高ZnO薄膜的质量,使之适应制备光电器件的要求,是目前ZnO薄膜研究的一个主要问题。在对近年来人们在ZnO薄膜的制备上所作的工作进行调研的基础上,总结出对提高薄膜的质量有普遍参考价值的三种关键技术:“缓冲层”,“氢钝化”和“表面... 提高ZnO薄膜的质量,使之适应制备光电器件的要求,是目前ZnO薄膜研究的一个主要问题。在对近年来人们在ZnO薄膜的制备上所作的工作进行调研的基础上,总结出对提高薄膜的质量有普遍参考价值的三种关键技术:“缓冲层”,“氢钝化”和“表面化学处理”。对三种关键技术的主要内容,及其在提高薄膜结晶质量与光电性能方面的效果和物理机制,作了较详细的介绍。并对这些技术提出了自己的一些见解。 展开更多
关键词 电子技术 ZNO薄膜 综述 缓冲层 氢钝化 表面化学处理
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过渡层类型对类金刚石薄膜性能的影响 被引量:8
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作者 聂君兰 谷坤明 +1 位作者 汤皎宁 刘力 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2008年第2期87-89,108,共4页
采用电子回旋微波等离子体气相沉积和磁控溅射法相结合的方法,通过石墨靶材和金属钛靶在不锈钢和Al2O3陶瓷基片上沉积了具有不同过渡层的含钛的C薄膜,研究了不同薄膜与衬底的中间层类型对薄膜的表面形貌、硬度、摩擦磨损性能、表面能的... 采用电子回旋微波等离子体气相沉积和磁控溅射法相结合的方法,通过石墨靶材和金属钛靶在不锈钢和Al2O3陶瓷基片上沉积了具有不同过渡层的含钛的C薄膜,研究了不同薄膜与衬底的中间层类型对薄膜的表面形貌、硬度、摩擦磨损性能、表面能的影响。结果表明,导电基底更有助于成膜的致密性和均匀性,薄膜为衬底/Ti/TiN/TiCN/C结构时硬度最高。 展开更多
关键词 ECR镀膜 类金刚石薄膜 含金属碳膜 缓冲过渡层
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过渡层ZrO_2对不同沉积厚度TiO_2薄膜结构的影响
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作者 杜玉军 杨陈 惠迎雪 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第8期146-147,共2页
TiO2作为高介电常数材料已被广泛研究。为了防止TiO2与Si基底发生反应,在Si与TiO2之间加入与TiO2结构相似热稳定性好的ZrO2作为过渡层。改变TiO2薄膜厚度,并在900℃对薄膜进行1h退火处理。通过XRD分析显示,随着TiO2厚度减小,各衍射峰强... TiO2作为高介电常数材料已被广泛研究。为了防止TiO2与Si基底发生反应,在Si与TiO2之间加入与TiO2结构相似热稳定性好的ZrO2作为过渡层。改变TiO2薄膜厚度,并在900℃对薄膜进行1h退火处理。通过XRD分析显示,随着TiO2厚度减小,各衍射峰强度逐渐降低,但各峰位及其相对强度无明显变化。通过SEM可以发现,热处理前各薄膜均无裂纹和孔洞。热处理后,TiO2厚度为150nm及80nm的薄膜平整光滑无裂纹孔洞,晶粒排列致密晶界清晰,当TiO2厚度降为30nm时,薄膜仍平整光滑,只在晶界上出现因热处理而产生的缩孔。 展开更多
关键词 TIO2薄膜 ZrO2过渡层 电子束蒸发 薄膜厚度 薄膜结构
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SiO2阻挡层对电子束沉积法生长高迁移率IWO薄膜性能的影响 被引量:2
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作者 任世荣 陈新亮 +4 位作者 张存善 孙建 张晓丹 耿新华 赵颖 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第4期843-847,共5页
利用电子束沉积技术在玻璃衬底上制备了IWO(In2O3∶WO3)薄膜和SiO2缓冲层,并将SiO2缓冲层对IWO薄膜性能的影响作了探究。SiO2缓冲层在室温生长。SIMS测试表明:SiO2缓冲层能有效阻挡浮法玻璃中的杂质进入到IWO薄膜。实验获得的具有SiO2... 利用电子束沉积技术在玻璃衬底上制备了IWO(In2O3∶WO3)薄膜和SiO2缓冲层,并将SiO2缓冲层对IWO薄膜性能的影响作了探究。SiO2缓冲层在室温生长。SIMS测试表明:SiO2缓冲层能有效阻挡浮法玻璃中的杂质进入到IWO薄膜。实验获得的具有SiO2阻挡层的IWO薄膜的电子迁移率μ~54.5 cm.2V-.1s-1,电阻率ρ~5.86×10-4Ω.cm,电子载流子浓度n~1.95×1020 cm-3,400~1600 nm光谱区域内的平均透过率~76%。 展开更多
关键词 电子束沉积技术 SiO2阻挡层 IWO薄膜 高迁移率
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Si基ZnO缓冲层溅射Ga_2O_3氨化反应生长GaN薄膜
11
作者 王书运 庄惠照 高海永 《理化检验(物理分册)》 CAS 2005年第9期456-459,共4页
利用射频磁控溅射法在Si(111)衬底上先溅射ZnO缓冲层,再溅射Ga2O3薄膜,然后在开管炉中分别以850℃,900℃,950℃和1 000℃等温度及常压下通氨气进行氨化,反应生长GaN薄膜。利用该方法制备的GaN薄膜是沿c轴方向择优生长的六角纤锌矿多晶结... 利用射频磁控溅射法在Si(111)衬底上先溅射ZnO缓冲层,再溅射Ga2O3薄膜,然后在开管炉中分别以850℃,900℃,950℃和1 000℃等温度及常压下通氨气进行氨化,反应生长GaN薄膜。利用该方法制备的GaN薄膜是沿c轴方向择优生长的六角纤锌矿多晶结构,并且随着氨化温度的升高,GaN向棒状和线状形态生长。 展开更多
关键词 Ga2O3薄膜 ZnO缓冲层 氨化 射频磁控溅射 扫描电镜 透射电镜
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新型阴极缓冲层对聚合物太阳能电池性能的影响
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作者 顾罗 赵晓辉 +3 位作者 高绍坤 李光 李晓苇 杨少鹏 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第12期3197-3202,共6页
研究了引入有机小分子尿素(urea)作为阴极缓冲层的以P3HT∶PCBM为活性层的体异质结聚合物太阳能电池(BHJ-PSCs)。通过溶液旋涂法制备尿素层,并且以不同的旋涂速度得到不同厚度的尿素。在模拟的标准太阳光(100 m W/cm2)照射下,以3000 r/... 研究了引入有机小分子尿素(urea)作为阴极缓冲层的以P3HT∶PCBM为活性层的体异质结聚合物太阳能电池(BHJ-PSCs)。通过溶液旋涂法制备尿素层,并且以不同的旋涂速度得到不同厚度的尿素。在模拟的标准太阳光(100 m W/cm2)照射下,以3000 r/min的转速旋涂尿素得到的器件取得了9.15 m A/cm2的短路电流密度,此时对应的能量转换效率较不加尿素层时的效率提高了20%,由2.8%增加到3.36%。原子力显微镜的测试表明,尿素层的引入改善了有机层和Al电极的接触。暗态J-V曲线的研究以及外量子效率的分析说明尿素层的引入抑制了载流子的复合,促进了载流子的传输与收集。尿素分子中氧原子上的孤对电子和Al发生强烈的化学反应,有效保护了活性层免受蒸镀的Al原子因注入带来的破坏,这种保护行为减少了载流子的复合,提高了器件的性能。 展开更多
关键词 聚合物 太阳能电池 尿素 缓冲层 孤对电子
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InyAl1-yAs线性渐变缓冲层对InP基HEMT材料性能的影响
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作者 田方坤 艾立鹍 +4 位作者 孙国玉 徐安怀 黄华 龚谦 齐鸣 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2022年第4期726-732,共7页
采用气体源分子束外延(GSMBE)技术,研究了InP衬底上InAlAs线性渐变缓冲层对InGaAs/InAlAs高迁移率晶体管(HEMT)材料特性影响。研究了不同厚度和不同铟含量的InAlAs线性渐变缓冲层对材料的表面质量、电子迁移率和二维电子气浓度的影响。... 采用气体源分子束外延(GSMBE)技术,研究了InP衬底上InAlAs线性渐变缓冲层对InGaAs/InAlAs高迁移率晶体管(HEMT)材料特性影响。研究了不同厚度和不同铟含量的InAlAs线性渐变缓冲层对材料的表面质量、电子迁移率和二维电子气浓度的影响。结果表明,在300 K(77 K)时,电子迁移率和电子浓度分别为8570 cm^(2)/(Vs)^(-1)(23200 cm^(2)/(Vs)^(-1))3.255E12 cm^(-2)(2.732E12 cm^(-2))。当InAlAs线性渐变缓冲层厚度为50 nm时,材料的表面形貌得到了很好的改善,均方根粗糙度(RMS)为0.154 nm。本研究可以为HEMT器件性能的提高提供强有力的支持。 展开更多
关键词 InyAl1-yAs线性渐变缓冲层 磷化铟 高电子迁移率场效应晶体管
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ZnO纳米晶薄膜在FeO(111)缓冲层上的生长与电子结构研究
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作者 杨孔银 薛名山 +2 位作者 吴海南 王文峰 都龙飞 《江西化工》 2013年第2期89-93,共5页
为了改善ZnO纳米晶薄膜的结晶度,我们利用FeO(111)薄膜作为缓冲层研究了ZnO纳米晶薄膜在Mo(110)沉底上的生长,并利用X射线光电子能谱仪、俄歇电子能谱仪和高分辨电子能量损失谱仪研究了其电子结构。结果表明,与传统的MgO(111)缓冲层相比... 为了改善ZnO纳米晶薄膜的结晶度,我们利用FeO(111)薄膜作为缓冲层研究了ZnO纳米晶薄膜在Mo(110)沉底上的生长,并利用X射线光电子能谱仪、俄歇电子能谱仪和高分辨电子能量损失谱仪研究了其电子结构。结果表明,与传统的MgO(111)缓冲层相比,FeO(111)因其与ZnO之间较小的晶格失配度更有利于ZnO薄膜的取向生长。而且,实验发现FeO(111)与ZnO之间的界面反应降低了它们之间的界面能,进一步促进了ZnO薄膜的初始形核和生长。 展开更多
关键词 氧化锌 缓冲层 电子结构
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基于Cu_xO材料在太阳能电池中应用研究进展
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作者 唐颖 王传坤 《兴义民族师范学院学报》 2018年第3期102-106,共5页
环境污染与能源的短缺是制约当今社会发展的重要因素之一。太阳能是一种可持续利用的资源,受到当今社会的重视。太阳能电池是利用光伏效应的一种器件,是未来解决能源短缺和环境污染的有效途径。太阳能电池可以分为无机太阳能电池、有机... 环境污染与能源的短缺是制约当今社会发展的重要因素之一。太阳能是一种可持续利用的资源,受到当今社会的重视。太阳能电池是利用光伏效应的一种器件,是未来解决能源短缺和环境污染的有效途径。太阳能电池可以分为无机太阳能电池、有机太阳能电池和钙钛矿太阳能电池。Cu_xO材料具有资源广泛、带隙接近太阳光谱等特点,适合作为太阳能电池材料。因此,很有必要探讨Cu_xO材料在太阳能电池中的应用及发展趋势。 展开更多
关键词 太阳能电池 电子缓冲层 空穴缓冲层 能源
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缓冲层对铁电PbTiO3薄膜微结构的影响
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作者 刘嘉琦 冯燕朋 +5 位作者 朱银莲 曹毅 刘楠 石彤彤 唐云龙 马秀良 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2020年第6期673-679,共7页
缓冲层作为一种调控铁电薄膜畴组态和引入新的微结构的有效手段被广泛采用。本文在大拉应变KTaO3衬底上生长了LaNiO3/PbTiO3多层膜,利用透射电子显微学方法,对该薄膜体系中的缺陷结构及其与铁电畴的交互作用进行了细致地研究。结果表明... 缓冲层作为一种调控铁电薄膜畴组态和引入新的微结构的有效手段被广泛采用。本文在大拉应变KTaO3衬底上生长了LaNiO3/PbTiO3多层膜,利用透射电子显微学方法,对该薄膜体系中的缺陷结构及其与铁电畴的交互作用进行了细致地研究。结果表明,由于巨大的界面失配,LaNiO3层中形成密集的Ruddlesden-Popper型层错,该层错经由LaNiO3/PbTiO3异质界面诱导PbTiO3中形成贯穿型的层状缺陷,这种缺陷的形成对PbTiO3内部畴结构有着一定的影响。利用电子能量损失谱,发现层状缺陷处Ti元素的价态有所降低,可能源于LaNiO3与PbTiO3之间的电荷传递。这一结果揭示了中间缓冲层对PbTiO3薄膜内部微结构产生重要的影响,同时也为铁电畴的调控提供了新的途径。 展开更多
关键词 钛酸铅薄膜 缓冲层 微结构 像差校正透射电子显微学
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基于介质工程研制高性能黑磷顶栅器件
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作者 王中正 于奎栋 +1 位作者 胡长征 徐茂 《真空科学与技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2022年第5期347-351,共5页
在这个工作中,作者通过电子束沉积二氧化铪(HfO;)作为栅介质,并沉积1nm锡(Sn)作为生长HfO;的缓冲层,获得了场效应迁移率超过100cm;V;s;的黑磷(BP)顶栅场效应晶体管(TG-FETs)。通过测试BP TG-FETs在不同漏源电压下的转移特性曲线,发现了... 在这个工作中,作者通过电子束沉积二氧化铪(HfO;)作为栅介质,并沉积1nm锡(Sn)作为生长HfO;的缓冲层,获得了场效应迁移率超过100cm;V;s;的黑磷(BP)顶栅场效应晶体管(TG-FETs)。通过测试BP TG-FETs在不同漏源电压下的转移特性曲线,发现了漏极偏压会引起栅控效应。进一步地,在较小电压下探究了BP TG-FETs不同沟道长度的源漏电流饱和情况,这可用于BP射频器件的研究。最后,对BP顶栅器件的量子电容进行了相关研究,从测量的C-V曲线和转移特性曲线中直接提取并计算出栅介质氧化物电容和BP量子电容,此过程无需再引入任何其他拟合参数,BP量子电容的测量也为探索BP的态密度和电子器件可压缩性提供了重要依据。 展开更多
关键词 HfO_(2)薄膜 顶栅晶体管 黑磷 电子束沉积 缓冲层
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GaN HEMT器件的AlN缓冲层MOCVD外延生长研究
18
作者 倪洪亮 吴金星 《舰船电子对抗》 2020年第5期116-120,共5页
探讨了GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)器件的基础——AlN缓冲层的制备,运用金属有机化学气相沉淀(MOCVD)技术,采用脉冲原子层外延(PALE)和传统连续生长相结合的方法,在提高AlN缓冲层生长速度的同时改善晶体的质量。采用优化后的生长工艺,... 探讨了GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)器件的基础——AlN缓冲层的制备,运用金属有机化学气相沉淀(MOCVD)技术,采用脉冲原子层外延(PALE)和传统连续生长相结合的方法,在提高AlN缓冲层生长速度的同时改善晶体的质量。采用优化后的生长工艺,降低了AlN模板的半高宽,有效改善了缓冲层的晶体质量和表面形貌,为后续高性能GaN HEMT器件的外延结构制备打下了基础。 展开更多
关键词 GAN高电子迁移率晶体管 ALN缓冲层 金属有机化学气相沉淀 脉冲原子层外延
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调整化工产品结构 启动内需
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作者 薛业清 《化工技术经济》 1999年第5期39-41,共3页
从市场营销、规模经济、新产品开发、质量管理、成本管理等方面论述了调整化工产品结构、启动内需的技术经济对策。
关键词 启动内需 产品结构调整 新产品开发 化工产品
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高迁移率GaAs外延片制备的研究
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作者 王林海 袁炳辉 +1 位作者 付浚 陆永庆 《河北工学院学报》 1995年第2期76-79,共4页
提出了在GaAs液相外延过程中,采用生长高纯度缓冲层、高温烘烤生长系统以及回熔衬底片等工艺,获得具有电参数n=1016~1017cm-3,μ=4~5×103cm2/v·s(300K)的GaAs液相外延片.总结... 提出了在GaAs液相外延过程中,采用生长高纯度缓冲层、高温烘烤生长系统以及回熔衬底片等工艺,获得具有电参数n=1016~1017cm-3,μ=4~5×103cm2/v·s(300K)的GaAs液相外延片.总结出生长高迁移率GaAs外延片的制备方法. 展开更多
关键词 液相外延 烘烤 衬底回熔 缓冲层 砷化镓
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