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质子、电子综合辐照作用下Teflon FEP/Al辐照损伤效应研究 被引量：4
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作者 李春东 杨德庄 何世禹 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期421-426,共6页
在地面模拟研究了能量为30 keV的质子与电子辐照对Teflon FEP/Al的光学性能退化的综合影响.结果表明,质子辐照引起Teflon FEP/Al在可见光区反射性能退化,而电子引起其在可见光与近红外区反射性能的全面下降.电子辐照更多的是使材料的大... 在地面模拟研究了能量为30 keV的质子与电子辐照对Teflon FEP/Al的光学性能退化的综合影响.结果表明,质子辐照引起Teflon FEP/Al在可见光区反射性能退化,而电子引起其在可见光与近红外区反射性能的全面下降.电子辐照更多的是使材料的大分子形成激发态进而轰击出主链上的F原子,形成自由基以及游离态的C.质子辐照时,除产生上述的辐照缺陷外,H*的离子注入还使材料中形成各种新的官能团质子与电子辐照的顺序不同,Teflon FEP/Al的C1s谱也明显不同. 展开更多
关键词 材料失效与保护 TEFLON fep/a1 辐照损伤 XPS 光学性能
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